Quantum X系统及其独有的突破性专利2GL ®技术将灰度光刻和双光子聚合（2PP）的优势相结合，以实现几乎任意2.5D拓扑图设计并具有光学质量表面和亚微米形状精度特点。此外，Quantum X系统可以处理不同类型的基底，如玻璃载玻片或最大6英寸的硅晶片。该微纳加工系统专为快速成型，小批量生产和在复制工艺中高效制造母版而设计。

成熟的纳米压印光刻复制技术（NIL）对于2.5D微纳结构的大批量生产是一种高效的解决方案。我们的合作伙伴EV集团是一家领业内先的NIL设备供应商，用于大批量生产晶圆级细丝微纳结构。
 

NIL的基本流程包括三个步骤：首先是制作母版印章，用来在复制过程中制作相同复制品结构。接下来，从母版上模制一个软模，显示母版的精确负面特征。最终实现的纳米压印模板可以复制和原始结构一模一样的副本。

特殊技术例如步进重复纳米压印工艺(Step and repeat NIL）可以通过复制一个单模具母版到一个完全填充8英寸母版上来帮助扩展该过程。该8英寸的母版可以在后续过程中实现高效大批量的复制过程。

Quantum X系统可完美地匹配纳米压印光刻技术工艺链，并以最高的精度制作具备2.5D拓扑图母版，如微透镜阵列以及衍射和折射微光学。