Nanoscribe 公司推出针对微纳光学元件（如微透镜、棱镜或复杂自由曲面光学器件）具有特殊性能的新型材料–IP-n162光刻胶。全新的光敏树脂材料具有高折射率（n=1.62），高色散和低阿贝数的特性。
全新IP-n162光刻胶专为聚合物微纳光学高精度增材制造而设计。同样在基于双光子聚合技术的3D无掩模光刻系统的使用中，新款光刻胶与其他打印材料相比具有更高折射率和更低阿贝数的特点。IP-n162光刻胶非常适合Nanoscribe的3D双光子无掩模光刻系统，并且可直接应用于3D微纳加工中尺度解决方案（3D Microfabrication Solution Set Medium Features）。
IP-n162光刻胶具有高折射率（n=1.62），最高色散和低阿贝数（低至25）的特点。使用此光刻胶打印的光学元件结构，光学性能可以媲美传统用聚碳酸酯或聚酯等注塑成型的光学聚合物。因此，可以轻松快速地制作微纳光学原型，从而避免使用传统金刚石铣削模具的昂贵迭代。IP-n162光刻胶适用于需要折射或混合高性能微纳光学的各种应用，例如小型成像系统和AR/VR的3D感测应用等。
该光敏树脂具有高色散和低阿贝数（25）的特点，使其区别于Nanoscribe其他打印材料，为打印具有不同色散的复杂光学元件奠定基础。IP-n162光刻胶和低折射率的IP-S光刻胶可以配合打印制作微纳尺度消色差光学系统。
IP-n162光刻胶的另一个重要特点是在红外光谱中低吸收率。在1200-1550nm波长范围内该光刻胶比IP-S低10倍，特别适合红外光学，光通信和光子封装等要求低吸收损耗的应用。
| 材料状态 | 液态 |
| 扫描速度 [mm/s] | 100 |
| 纵向层厚 [µm] | 0.4 |
| 横向分辨率 [µm] | 0.5 |
| 折射率，20°C，波长589nm | 1.62* |
| 阿贝数 | 25 |
| 是否需要前烘/后烘处理 | 不需要 / 不需要 |
*紫外线固化结构的测量由斯图加特大学提供，Opt. Mat. Exp. Vol. 9, Issue 12, 2019
Nanoscribe的IP系列光敏树脂专为双光子聚合（2PP）高精度3D微纳加工量身定制。系列产品线提供广泛可用于纳米，微米，和中尺度结构的负性（甲基）丙烯酸酯基树脂。
