Mastering & Replikation

Quantum X ist das weltweit erste Zwei-Photonen-Graustufen-Lithografiesystem (2GL ^®) für die maskenlose Mikrofabrikation von refraktiven und diffraktiven Mikrooptiken. Glatte Oberflächen mit optischer Qualität lassen sich dank Einzel-Voxel-Tuning und Hochleistungs-Galvotechnologie in höchster Geschwindigkeit herstellen. Quantum X ist somit das ideale Werkzeug für die Kleinserienfertigung auf Wafern bis zu 6“ und das Rapid Prototyping von Freiform-Mikrooptiken, Mikrolinsen-Arrays oder diffraktiven Elementen.

Um den immensen Bedarf an komplexen mikrooptischen Komponenten in Zukunftsmärkten wie Sensorik, miniaturisierten Systemen, Augmented-Reality-Anwendungen oder Unterhaltungselektronik zu decken, sind Fertigungsprozesse mit hohem Durchsatz und eine Massenproduktion dieser Komponenten unumgänglich. Replikationstechnologien wie das Mikrospritzgießen unseres Partners kdg opticomp und die Nanoimprint-Lithografie (NIL) unseres Partners EV Group sind etablierte Verfahren für die Serienproduktion. Für die hochpräzise Replikation von 2,5D-Topografien verwenden diese Technologien Arbeitsstempel oder Formwerkzeuge, die aus einem Master-Template abgeformt werden.

NIL wurde ursprünglich für akademische Zwecke entwickelt und ermöglicht die Replikation von Objekten mit Merkmalen im Nanometerbereich. Die Technologie ist in den letzten Jahrzehnten gereift und hat sich in der Industrie als Mikrofabrikationstechnologie für die Serienfertigung auf Wafern bewährt.

Der Spritzguss ist ein industrielles Verfahren für die Replikation von großvolumigen, makroskaligen Objekten bis hin zu hochpräzisen Mikroobjekten. Beim hochpräzisen Mikrospritzguss können Objekte mit Submikrometer-Merkmalen, wie z. B. mikrooptische Komponenten, in großen Stückzahlen hergestellt werden.

Quantum X fügt sich perfekt in bestehende Replikationsprozessketten für die Serienfertigung und Massenproduktion ein. Das Graustufen-Lithografiesystem ermöglicht mit der Single-Voxel-Tuning-Technologie die 2,5D-Mikrofabrikation mit vollständiger Designfreiheit und Auflösungsvermögen im Submikrometerbereich. Schöpfen Sie aus dieser unschlagbaren Kombination technologischer Vorzüge für ein effizientes Rapid Prototyping und hochpräzises Mastering. Die nahtlose Integration von Quantum X in industrielle Replikationsprozesslinien wurde bereits mehrfach demonstriert.