Die patentierte 2GL ^®-Technologie von Nanoscribe vereint die Stärken der Graustufenlithografie mit jenen der Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP). Auf diese Weise kann nahezu jedes 2,5D Design mit Oberflächen in optischer Güte und einer Formgenauigkeit im Submikrometerbereich hergestellt werden. Mit dem Quantum X von Nanoscribe kann außerdem auf verschiedene Substrattypen wie Objektträger aus Glas oder Siliziumwafer bis zu 6“ gedruckt werden. Das Mikrofabrikationssystem ist speziell für das Rapid Prototyping, die Kleinserienfertigung und die effiziente Herstellung von Master-Templates in Replikationsprozessen ausgelegt.

Für die Großserienproduktion von 2,5D-Mikrostrukturen ist das etablierte Replikationsverfahren Nanoimprint-Lithografie (NIL) eine hochproduktive Lösung. Mit der EV Group haben wir einen marktführenden Anbieter von NIL-Anlagen für die Serienproduktion filigraner Mikrostrukturen im Wafermaßstab an unserer Seite.

Der grundlegende NIL-Prozess umfasst drei Schritte: Zunächst wird ein Master-Template hergestellt. Von dieser Struktur werden während des Replikationsprozesses identische Kopien angefertigt. Anschließend wird ein Polymer-Arbeitsstempel als exaktes Negativ vom Master abgeformt. Die endgültigen Replikate werden als Abdrücke des Arbeitsstempels und somit als identische Kopien des ursprünglichen Master-Templates hergestellt.

Der NIL-Prozess kann mit speziellen Techniken, wie zum Beispiel durch die Step-and-Repeat-NIL, hochskaliert werden. Dabei wird eine Einzelstruktur, der sogenannte Single-Die Master, mehrfach auf einem 8“-Wafer repliziert. Dieser voll besetzte 8“-Master bildet den Ausgangspunkt einer effizienten Serienfertigung mit maximalem Durchsatz.

Quantum X fügt sich nahtlos in die Prozesskette der Nanoimprint-Lithografie ein und ermöglicht die hochpräzise Herstellung von Master-Templates mit 2,5D-Topografien wie Mikrolinsen-Arrays sowie diffraktiven und refraktiven Mikrooptiken.