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24. Mai 2023

Software nanoPrintX für den ausgerichteten
3D-Druck auf optischen Fasern und Chips

eine Modellierung von zusammengesetzten Mikrooptiken auf einem Faserarray mit der Software nanoPrintX von Nanoscribe
nanoPrintX, die neue Software von Nanoscribe für den ausgerichteten 3D-Druck, visualisiert eine Modellierung von zusammengesetzten Mikrooptiken auf einem Faserarray. Die intuitive Software-GUI unterstützt eine schnelle und flexible Definition von was, wo, in welcher räumlichen Ausrichtung und wie gedruckt werden soll, um einen ausgerichteten 3D-Druck mit Nanopräzision zu ermöglichen.

Nanoscribe präsentiert nanoPrintX, ein hocheffizientes und flexibles Software-Tool für die Aligned 2-Photon Lithography. Das zugrunde liegende Szenengraph-Konzept bietet eine hierarchische Organisation aller druckrelevanten Objekte und Operationen. Die intuitive Software-Architektur, kombiniert mit einem zentralen Rendering Canvas, gibt sofortiges visuelles Feedback über die Position und räumliche Ausrichtung aller Elemente relativ zueinander und zu vordefinierten Positionen oder Substraten. Diese herausragenden Fähigkeiten von nanoPrintX und eine Fülle von integrierten Funktionen machen den ausgerichteten 3D-Druck mit Quantum X align so komfortabel.

nanoPrintX ist weit mehr als eine 3D-Drucker-Slicer-Software: Es ist ein revolutionäres Werkzeug für die Erstellung und Ausrichtung anspruchsvoller Druckprojekte. Basierend auf einem Szenengraph-Konzept, das große Flexibilität und funktionale Optionen bietet, stellt jeder Knoten ein druckrelevantes Objekt oder eine Operation dar und enthält eine Reihe von einstellbaren Druckeigenschaften. Mehrere Designdateien können importiert und in Gruppen- oder Array-Knoten organisiert oder zu einem Druckobjekt zusammengeführt werden.

Neue Möglichkeiten mit nanopräziser Ausrichtung im 3D-Druck

nanoPrintX erschließt die Kernfunktionen der Aligned 2-Photon Lithography (A2PL®) Technologie für den Druck mit Quantum X align. Individuelle Ausrichtungsmarker können ebenso definiert werden wie Substratmerkmale wie Chipkanten und Faserfacetten. Mit der konfokalen oder faseroptischen Beleuchtungseinheit von Quantum X align können diese Substratmarker erkannt und mit dem mit nanoPrintX definierten digitalen Modell abgeglichen werden. Auf diese Weise lassen sich beispielsweise Freiform-Mikrooptiken mit dem höchstauflösenden 3D-Drucker präzise auf die optischen Achsen von Fasern oder photonischen Chips mit Submikron-Genauigkeit ausrichten. Anwendungsbeispiele sind effiziente optische Verbindungen für die photonische Integration und das Photonik-Packaging sowie miniaturisierte Optiken für bildgebende und Sensoranwendungen wie die minimal-invasive Endoskopie oder lichtbasierte Sensoren.

Komposition von ausgerichteten Druckprojekten mit nanoPrintX

Mit nanoPrintX kann ein beliebiges Druckszenario definiert werden, indem ein virtuelles Modell des Substrats, wie z. B. optische Fasern oder photonische Chips, mit individuellen Ausrichtungsmarkern eingelesen wird. Die 3D-Konstruktionen der Druckobjekte können dann als STL- oder OBJ-Dateien importiert und in der Druckszene platziert werden. Vordefinierte Druckparameter können jedem einzelnen Design zugewiesen werden und funktionieren direkt. Zum Schluss wird das Druckprojekt in Quantum X align hochgeladen, das für bestmögliche Druckergebnisse sorgt.

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