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05. März 2020

Außeraxiale Holografie mittels additiver Mikrofabrikation

Außeraxiale holografische Projektion
Außeraxiale holografische Projektion mit geneigten DOE-Strukturen in schematischer Darstellung. Bild: Hao Wang, Singapore University of Technology and Design

Ein internationales Forschungsteam entwickelte mittels der Mikrofabrikationstechnologie von Nanoscribe eine neue Art von diffraktiven optischen Elementen (DOE). Die DOEs erzeugen holografische Projektionen im Fernfeld, die frei von Beugung nullter Ordnung und Abschattungseffekten sind und gleichzeitig eine hohe Beugungseffizienz aufweisen. Das neuartige DOE-Design ermöglicht die präzise Modifikationen der Wellenfront, z. B. für Gesichtserkennungs-Hardware, Mixed-Reality-Technologie und 3D-Displays.

Denkt man an das Holodeck aus der Science-Fiction-Serie Star Trek, bringt man Holografie unmittelbar mit 3D-Projektionen in Verbindung. Ganz ohne Zweifel, die Holografie fesselt uns weiterhin mit ihren visuellen Effekten. Darüber hinaus ermöglicht sie auch zahlreiche Anwendungen in Augmented Reality, medizinischer Bildgebung, Fälschungsschutz, biometrischer Gesichtserkennung, optischer Pinzette und mehr.

Diffraktive optische Elemente mit Sub-Pixel-Manipulation

Die Erzeugung von Projektionen im Fernfeld ist aber weiterhin sehr anspruchsvoll. Diffraktive optische Elemente bieten hierfür eine äußerst kompakte Lösung, um Licht mittels Beugung zu modellieren. Licht fällt durch computergenerierte Nanostrukturen und wird dabei manipuliert. DOEs weisen allerdings den „Punkt der nullten Beugungsordnung“ (engl.: zero order spot) auf, der aus nicht-gebeugtem Licht entsteht, das entlang seiner optischen Achse ungehindert durch das DOE fällt. Das verursacht einen störenden hellen Lichtpunkt auf der Projektionsebene.

Um dieses Problem zu lösen, entwickelte ein Forschungsteam der Singapore University of Technology and Design ein neuartiges DOE mit Hilfe des 3D-Druckers Photonic Professional GT von Nanoscribe. In diesem internationalen Projekt kooperiert das Team mit Wissenschaftlern der National University of Singapore, dem International Collaborative Laboratory of 2D Materials for Optoelectronic Science and Technology an der Shenzhen University und dem Institute of Materials Research and Engineering at A*STAR.Dank der enormen Designfreiheit und der hohen Auflösung der 3D-Mikrofabrikation wurde ein ausgeklügeltes DOE-Design mit Sub-Pixel-Manipulation additiv hergestellt. Die Forscher kombinierten diffraktive optische Elemente mit schräg gestellten Gitterstrukturen (engl.: blazed gratings) in einem neuen DOE-Design, das die Projektion verschieben kann. Die neuartigen DOE-Strukturen erzeugen Projektionen ohne Lichtpunkt nullter Ordnung, ohne Abschattungseffekte und mit einer hohen Beugungseffizienz.

Nanostrukturen durch Zwei-Photonen-Graustufen-Lithografie

Im Juni 2019 stellte Nanoscribe das maskenlose Lithografiesystem Quantum X mit einer neuen Technologie vor: Nanoscribes zum Patent angemeldete Zwei-Photonen-Graustufen-Lithografie (2GL®). Im Vergleich zur Ein-Photonen-Graustufen-Lithografie ermöglicht 2GL eine vollständige dreidimensionale Kontrolle der Voxelposition und -größe und bietet so umfassende Möglichkeiten für die DOE-Fertigung. Um den Durchsatz bei der DOE-Herstellung zu erhöhen, nutzen Quantum-X-Systeme 2GL mit hoher Scan-Geschwindigkeit. Der Laserstrahl scannt in hoher Geschwindigkeit durch eine Ebene und stellt gleichzeitig die richtige Belichtungsdosis exakt für jede Position ein. So werden mehrstufige DOE-Strukturen in einem einzigen kontinuierlichen Druckvorgang erzeugt. Damit bietet 2GL einen wirklich neuartigen maskenlosen Fertigungsansatz, mit dem sich die Herstellungszeit für mehrstufige DOEs von Tagen auf wenige Stunden reduziert.

Lesen Sie die Veröffentlichung in Advanced Optical Materials: Off‐Axis Holography with Uniform Illumination via 3D Printed Diffractive Optical Elements

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