Über Nacht können so bis zu 200 typische Strukturen auf einem voll adressierbaren Druckfeld von 50 x 50 mm² und auf Substraten wie Wafern und Objektträgern aus Silizium, Glas und anderen transparenten oder opaken Materialien gedruckt werden. Weitere Einblicke in den Workflow und den Druckprozess mit dem Quantum X shape erwarten die Besucherinnen und Besucher bei Demo Sessions auf dem Nanoscribe-Stand.
Erprobte Prozesse für das Mastering und die Replikation von Mikrooptik-Anwendungen
Die von Nanoscribe entwickelte Zwei-Photonen-Graustufenlithografie (2GL ®) beschleunigt die hochpräzise Mikrofabrikation von 2,5D-Strukturen für optische Anwendungen erheblich. Dazu zählen zum Beispiel das Prototyping und Mastering von Freiform-Mikrooptiken, Mikrolinsen-Arrays und mehrstufigen diffraktiven optischen Elementen mit höchster Formgenauigkeit und mit Oberflächen in optischer Güte (Ra ≤ 5 nm). Um den Durchsatz noch weiter zu steigern, kommt die Kombination von 2GL-Mastering mit Replikationstechnologien ins Spiel. Mit der Nanoimprint-Lithografie und dem Spritzguss hat Nanoscribe gemeinsam mit Industriepartnern bereits zwei zuverlässige und bewährte Replikationsstrategien erprobt. Als Highlight beinhaltet das Ausstellungsprogramm am Nanoscribe-Stand gemeinsame Präsentationen mit den Partnern EV Group und kdg Opticomp, in dem beide Replikationsansätze skizziert und die Kompatibilität mit dem 2GL-basierten Mastering erläutert werden. Damit werden Machbarkeit und Vorteile des additiven Fertigungsverfahrens von Nanoscribe in Kombination mit den jeweiligen Replikationsverfahren erlebbar: kurze Design-Iterationszyklen für die Volumenproduktion mit hohen Stückzahlen.
Drei Materialklassen für vielfältige Anwendungen
Fortschritte in der Mikrofabrikation sind außerdem eng mit der Forschung an neuen Druckmaterialien verbunden. In diesem Jahr hat Nanoscribe sein Fotolack-Portfolio polymerbasierter IP Photoresins um ein neues Silica-Nanokomposit für den 3D-Druck von Mikrostrukturen aus Glas und um Xpect Inx-Fotolacke für den 3D-Druck von Biomaterialien erweitert.
Der neue Fotolack GP-Silica, den Nanoscribe in Zusammenarbeit mit dem deutschen Unternehmen Glassomer entwickelte, ermöglicht den 3D-Druck von Glas mit einer Präzision im Mikrometerbereich. Dank eines optischen Transmissionsfensters, das vom UV- bis in den Infrarotbereich reicht, sowie in Kombination mit thermischer, mechanischer und chemischer Stabilität eignet sich das neue Material auch für Anwendungen in den Biowissenschaften, der Mikrofluidik, für Mikroreaktoren oder mikrooptische Applikationen. Die neue Xpect Inx N100-Serie, die aus drei Hydrogelen und biologisch abbaubaren Fotolacken für Nanoscribe-Systeme besteht, ist essenziell für das hochpräzise Bioprinting und damit für Anwendungen im Tissue Engineering und in der Zellkultivierung.
3D-Drucklösungen vom nano- bis zum makroskaligen Bereich
Auf der Formnext erwarten die Besucherinnen und Besucher am Nanoscribe-Stand (Halle 12.1, Stand G61) mit Quantum X-Systemen hergestellte mechanische Komponenten und refraktive Mikrooptiken. Ausgestellt werden auch die entsprechenden Replika der EV Group durch Nanoimprint-Lithografie und von kdg Opticomp durch Spritzguss. Im Rahmen von Demo Sessions können sich alle Interessierte auf Einblicke in den einfachen und benutzerfreundlichen Workflow mit dem neuen Quantum X shape freuen. Auf dem Nanoscribe-Stand wird auch ein Lumen X+™ des BICO-Unternehmens CELLINK ausgestellt, sodass insbesondere Einblicke in den 3D-Druck von Life-Science-Anwendungen geboten werden. Der DLP-basierte 3D-Drucker ist für eine breite Palette an Fotolacken und für das Bioprinting geeignet. Falls auch Sie auf der Messe sein werden, laden wir Sie herzlich auf einen Besuch an unserem Stand ein.
