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22. März, 2023

Nanoscribe präsentiert IPX-M für den makroskaligen Druck mit Quantum X-Systemen

3x3 array of shape-accurate screws of millimeter dimensions
IPX-M ist Nanoscribes neuestes Druckmaterial und wurde für den 3D-Druck auf der Makroskala mit Quantum-X-Systemen entwickelt, wie dieses 3x3-Array von formgenauen Schrauben in Millimetergröße beispielhaft zeigt.

Nanoscribe präsentiert IPX-M, das neueste Druckmaterial für den 3D-Druck auf der Makroskala mit höchstem Durchsatz und für Druckvolumina von bis zu 30 Kubikzentimetern in einem Durchgang. IPX-M wurde speziell für Quantum X-Systeme entwickelt und ist bestens geeignet, um die volle Designfreiheit für die Herstellung komplexer Formen mit hoher Formgenauigkeit und großen Volumina bis in den Zentimeterbereich auszunutzen. Das neue Material erweitert die Serie der IPX-Fotolacke, die entwickelt wurde, um die Vorteile hoher Druckgeschwindigkeit, Präzision und Leistung der bewährten Quantum X- Plattform optimal nutzen zu können.

Die Technologie der Zwei-Photonen-Polymerisation wird geschätzt für die Mikrofabrikation von nanoskaligen Merkmalen bei der Herstellung nano-, mikro- und mesoskaliger Strukturen. Mit dem neuen IPX-M-Druckmaterial schließt Nanoscribe nun die Lücke im makroskaligen Bereich für den 3D-Druck von Objekten im Millimeter- und Zentimetermaßstab bei hohem Durchsatz. Das neue Fotopolymer nutzt die Leistungsfähigkeit, Druckgeschwindigkeit und Präzision der Quantum X-Systeme, um komplexe 3D-Geometrien mit hoher Formgenauigkeit zu fertigen. Die Fortschritte von Nanoscribe in der Hardware-, Software- und Materialentwicklung bieten eine neue und umfassende Lösung, welche die Grenzen der 2PP-basierten Fertigung erweitert und die Markterfordernisse für den hochpräzisen Makrodruck von Objekten im Millimeter- und Zentimeterbereich erfüllt.

Leistungsstarke Mikrofabrikation

Die industrieerprobte Quantum X-Plattform bietet den 2PP-basierte 3D-Druck mit höchster Präzision und darüber hinaus die innovative Zwei-Photonen-Graustufen-Lithographie-Technologie (2GL) für die 2,5D Mikrofabrikation. Die neue IPX-Fotolack-Serie von Fotopolymer-Druckmaterialien wurde speziell entwickelt, um mit der Plattform die maximale Leistung zu nutzen. Optimiert für verschiedene Strukturqualitäten und Prozesse erfüllen IPX-Fotolacke verschiedene Anforderungen in der Mikrofabrikation. „IPX-Fotolacke ermöglichen mit Quantum X-Systemen die Mikrofabrikation mit höchstmöglichem Durchsatz bei bester Präzision“, erklärt Dr. Alexander Quick, Leiter der Materialentwicklung und -produktion bei Nanoscribe.

Makroskaliger 3D-Druck mit hohem Durchsatz

IPX-S und IPX-Q sind für den Druck von mesoskaligen Strukturen mit Mikrometerpräzision auf Basis der Zwei-Photonen-Graustufen-Lithographie bzw. der Zwei-Photonen-Polymerisation konzipiert. Um die Lücke vom hochauflösenden 2PP-basierten 3D-Druck zum makroskaligen Druck zu schließen, können Quantum X-Systeme in Kombination mit dem neuen IPX-M Druckvolumina bis zu 30 cm³ in einem Durchgang herstellen. „Das neue IPX-M steht für den makroskaligen 3D-Druck und bietet höchsten Durchsatz für die Herstellung von komplexen Teilen in Millimeter- und Zentimetergröße.“ ergänzt Quick. Das neue Druckmaterial bietet volle Designfreiheit für 3D-Objekte mit beliebigen Formen, hohen Aspekt-Verhältnissen und großen Volumina bis in den Zentimeterbereich.

Der Weg zum Rapid Prototyping und zur Serienfertigung

Welche Anwendungen bietet das neue Material? Aufgrund seiner Eigenschaften und seines hohen Durchsatzes für den Druck auf der Makroskala ist IPX-M die beste Wahl für das Rapid Prototyping und für die Fertigung in Kleinserien. Hochpräzise Teile und Objekte können im Millimeter- und Zentimetermaßstab hergestellt werden, um neue Produktdesigns zu validieren. Der Schlüssel dieses auf hohen Durchsatz optimierten neuen Druckmaterials sind die kurzen Druckzeiten, die für das Rapid Prototyping und die Serienfertigung in Chargenproduktion erforderlich ist.

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