„Wir freuen uns riesig, heute den Innovation Award in den Händen zu halten,“ sagte Martin Hermatschweiler, Geschäftsführer von Nanoscribe, nach der Preisverleihung. „Nach einer sehr intensiven technischen Entwicklungsphase ist das eine großartige Anerkennung für unser Team und für die herausragende Performance unseres neuen maskenlosen Lithografiesystems Quantum X,“ ergänzt Hermatschweiler. Die Juroren in München waren davon überzeugt, dass das Unternehmen mit dieser Innovation ein neues Kapitel in der Mikrofabrikation aufschlagen kann.
Ein übersichtlicher Touchscreen, automatisch gesteuerte Druckprozesse, Schnittstellen zur Remote-Steuerung sowie eine fortschrittliche Organisation von Printjobs gehören genauso zu den herausragenden Merkmalen des neuen Produktes wie eine Echtzeitüberwachung des Druckvorgangs per Live-Kameras. Das Herzstück des neuen Gerätes ist jedoch eine vollständig neu entwickelte Drucktechnologie:
Im Quantum X kommt erstmals die von Nanoscribe zum Patent angemeldete Zwei-Photonen-Graustufen-Lithografie (2GL) zum Einsatz. Diese kombiniert die außerordentliche Performance der Graustufen-Lithografie mit der Präzision und Flexibilität der von Nanoscribe kontinuierlich weiterentwickelten Zwei-Photonen-Polymerisation in einem industriellen Formfaktor.
Das neue Mikrofabrikationssystem zeichnet sich durch hohe Druckgeschwindigkeiten, maximale Designfreiheit und eine große Präzision aus, was bei der additiven Herstellung komplexer Strukturen, die eine hohe Formgenauigkeit und besonders glatte Oberflächen erfordern, von größter Bedeutung ist. Schnelle und präzise additive Fertigungsprozesse verkürzen die Design-Iterationszyklen drastisch, die Strukturen können sowohl als Prototypen als auch als Master für replizierende industrielle Prozesse verwendet werden.
