Eine hohe Dispersion ist beispielsweise beim 3D-Druck von achromatisch optischen Systemen entscheidend. Erst die Kombination unterschiedlicher Druckmaterialien mit hohem und geringem Brechungsindex zur additiven Fertigung von Verbundoptiken aus mehreren Elementen erlaubt die Korrektur der chromatischen Aberration. “Die derzeit kommerziell angebotenen Fotolacke ähneln sich stark in ihrem Brechungsindex und begrenzen daher das Innovationspotenzial mikrooptischer Systeme. IP-n162 ist aufgrund seiner optischen Eigenschaften vielversprechend für die Entwicklung von achromatischen Systemen, wie sie zum Beispiel für Displays, ultra-sensible Detektoren und medizinische Anwendungen gebraucht werden“, sagt Matthias Kraus, wissenschaftlicher Mitarbeiter an der Ernst-Abbe-Hochschule Jena, nach einem Pilottest des neuen Druckmaterials.
3D-Mikrofabrikation ist Innovationstreiber in der Mikrooptik
"Ein Fotolack mit einem hohem Brechungsindex wie IP-n162 eröffnet neue Möglichkeiten beim Design von leistungsfähigeren, dünneren und weniger gekrümmten Linsen, die damit wiederum kompakter, schneller und kostengünstiger hergestellt werden können", meint Simon Thiele, Teilnehmer im BMBF-geförderten Projekt PRINTOPTICS und CTO des gleichnamigen Spin-off-Unternehmens. In diesem Forschungsprojekt arbeitet Nanoscribe gemeinsam mit der Universität Stuttgart und dem Medizintechnik-Unternehmen Karl Storz am 3D-Druck von Miniaturoptiken auf Fasern für Endoskopie-Anwendungen. "Ein innovatives Design, das ich mit IP-n162 bereits drucken konnte, war ein komplexes optisches System, bestehend aus zwei Linsen mit vollständigen Freiformflächen, um ein verzerrungsfreies Bild zu erhalten. Eine Besonderheit dabei ist die integrierte diffraktive Linse mit feinen Treppenstrukturen auf der Oberseite zur Korrektur von Farbfehlern," sagt Thiele über seine Erfahrungen mit dem neuen Fotolack. "Der hohe Brechungsindex von IP-n162 hilft, diese Stufen zu verkleinern und somit Streulicht zu reduzieren", fasst Thiele die Vorteile von IP-n162 zusammen.
Über Nanoscribe
Das mittelständische Unternehmen entwickelt und vertreibt 3D-Drucker und maskenlose Lithografiesysteme für die Mikrofabrikation sowie eigens entwickelte Fotolacke und anwendungsspezifische Komplettlösungen. Der Spezialist für die additive Fertigung hochpräziser Strukturen und Objekte auf der Nano, Mikro- und Mesoskala wurde 2007 als Spin-Off des Karlsruher Instituts für Technologie (KIT) gegründet. Mit heute über 70 Mitarbeitern und Tochtergesellschaften in China und den USA hat sich Nanoscribe zum Markt- und Technologieführer entwickelt. Weltweit profitieren mehr als 2.000 Anwender und Betreiber an Top-Universitäten und in innovationsstarken Industrieunternehmen von der bahnbrechenden Technologie und den anwendungsspezifischen Lösungen für die 3D-Mikrofabrikation.
Bildunterschriften
Abb. 1: Mit dem Fotolack IP-n162 gedrucktes Verbundlinsensystem mit zwei refraktiven Elementen. Das neue Druckmaterial zeichnet sich durch einen hohen Brechungsindex von 1,62 aus. Diese Eigenschaft ist besonders attraktiv für die additive Herstellung innovativer miniaturisierter optischer Systeme. Druck durch Nanoscribe, optisches Design von Simon Thiele, TTI GmbH TGU Printoptics
Abb. 2: Nanoscribe präsentiert den neuen Fotolack IP-n162 für innovative mikrooptische Anwendungen
Abb. 3: Nanoscribes Photonic Professional GT2 ist der 3D-Drucker mit der weltweit höchsten Auflösung. Mit seiner Flexibilität im Design und der großen Auswahl an verfügbaren Materialien ist er ein ideales Instrument für Wissenschaft und Prototyping in Multi-User-Facilities und Forschungslabors.
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