Scaling up nano- and microfabrication
From mastering by 2GL to mass production
using replication technologies
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Sind Sie an der Massenfertigung von innovativen Nano- und Mikrostrukturen interessiert? Dann nehmen Sie am kommenden Live-Webinar mit Technologieexperten im Bereich Mikrofabrikation von Mastertemplates und nachfolgende Replikationsprozesse teil.
Die Zwei-Photonen-Graustufen-Lithographie (2GL ®) ist eine leistungsstarke additive Fertigungstechnologie für das Rapid Prototyping und die Master-Fertigung von Nano- und Mikrostrukturen. Kombiniert mit verschiedenen etablierten Replikationstechnologien wie Nanoimprint-Lithographie (NIL), Mikrospritzguss, Roll-to-Roll-Verfahren oder Heißprägen ist 2GL der Ausgangspunkt und entscheidende Schritt zur Massenproduktion neuartiger und hochwertiger Mikrostrukturen.
Erleben Sie die Stärken der 2GL-Rapid Prototyping- und Mastering-Technologie in einer Live-Webinar-Demo. Erfahren Sie von Experten, wie Sie Ihre industrielle Produktion mit hoher Leistung, ausgezeichneter Qualität und nachhaltiger Zuverlässigkeit hochfahren können.
Dr. Marek Krehel, 3D AG, wird Technologieoptionen und Prozessschritte für die industrielle Massenfertigung von Nano- und Mikrostrukturen vorstellen. Er wird die Möglichkeiten zur Herstellung von Mikrostruktur-Mastern skizzieren, sich auf verschiedene Shim-Familien konzentrieren und einen systematischen Überblick über die verschiedenen Konzepte zur Replikation wie Mikrospritzguss, Heißprägen, Nanoimprint-Lithographie und Roll-to-Roll-Verfahren geben. Schließlich wird er deren Anwendungspotenziale bewerten.
Dr. Aaron Kobler, Nanoscribe, wird die Möglichkeiten der Zwei-Photonen-Graustufen-Lithographie (2GL) mit besonderem Schwerpunkt auf die Master-Fertigung vorstellen. Er wird die Stärken von 2GL für Rapid Prototyping und Mastering anhand einer Quantum X-Live-Demo präsentieren. Gezeigt wird der komplette Arbeitsablauf vom Entwurf bis zum fertigen Master und damit die Leistungsfähigkeit der 2GL-Mikrofabrikationstechnologie.
Christine Thanner, EV Group, wird die Technologie der Nanoimprint-Lithographie (NIL) für die Massenproduktion vorstellen und uns in die Prinzipien und Prozessschritte der Technologie vom 2GL-Mastering bis hin zu den Replikas in großen Stückzahlen erläutern, sowie einige herausragende Anwendungen vorstellen. Darüber hinaus wird sie veranschaulichen, wie UV-NIL-Technologien ultrafeine und komplexe Nano- und Mikrostrukturen in großflächige Replikate in großen Stückzahlen überführen können.
Agenda
Moderation: James Schildknecht, Head of Sales bei Nanoscribe
- Technologieoptionen für die industrielle Massenfertigung
- Grundlagen und Stärken der 2GL-Mikrofabrikation für das Mastering
- Quantum X Live-Demo des Druckens mikrooptischer Master-Templates
- Nanoimprint-Lithographie – von der Machbarkeitsstudie bis zur Produktionslinie
- Q&A-Session
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Unsere Experten im Live-Webinar
Dr. Marek Krehel
Marek Krehel ist Leiter für Technologien und F&E bei der 3D AG. Er promovierte an der ETH Zürich über die Anwendung von polymeren optischen Fasern in der biomedizinischen Sensorik. 2017 kam er zur 3D AG, einem Zentrum für Mikro- und Nanotechnologie. Er befasst sich hier mit der Herstellung von Mikrostruktur-Mastern, deren Massenfertigung und Replikation im industriellen Maßstab.
Dr. Aaron Kobler
Aaron Kobler, Leiter des Nanoscribe Customer Success Teams, promovierte an der Technischen Universität Darmstadt im Bereich der Materialwissenschaften. Vor seinem Start bei Nanoscribe im Jahr 2017, arbeitete er für ZEISS in Boston (USA). Bei Nanoscribe setzt er seine Expertise in der 3D-Mikrofabrication und der Zwei-Photonen-Graustufen-Lithographie ein, um Kunden zu unterstützen.
Christine Thanner
Christine Thanner ist Technology Development Engineer bei der EV Group mit Schwerpunkt Nanoimprint-Lithographie. Sie studierte an der Fachhochschule München und arbeitete für Siemens an der Entwicklung von Epitaxieprozessen für VICSEL-Laser, bevor sie bei Infineon als Ingenieurin für Messtechnik und Fehleranalyse tätig war. Christine kam 2002 zur EV Group, wo sie sich intensiv mit der Nanoimprint-Technologie befasste.