Eigens entwickelt für die
Zwei-Photonen-Polymerisation
Nanoscribes IP Fotolacke sind etablierte Druckmaterialien für die hochauflösende Mikrofabrikation. Diese Negativlacke erreichen hohe Auflösungen bis in den Submikrometer-Bereich und bieten zugleich höchste Formgenauigkeit und eine einfache Handhabung.
Wählen Sie den für Ihre Anwendung passenden Fotolack. Profitieren Sie dabei von überhängenden Elementen, Submikrometerdetails, Oberflächen in optischer Qualität, ultraschneller Fabrikation von millimetergroßen Strukturen, biokompatiblen Mikrostrukturen oder von hochbrechenden Mikrooptiken.
IP Fotolacke sind als vielfach erprobte Hochleistungsdruckmaterialien ein wesentlicher Bestandteil von Nanoscribes 3D Microfabrication Solution Sets. Über vorkonfigurierte Parameter der Druckersoftware wird der Druckprozess auf den Fotolack und die jeweilige Anwendung optimiert. Das vereinfacht den gesamten Workflow und beschleunigt die Design-Iterationszyklen für zahlreiche wissenschaftliche und industrielle Anwendungen – von biomimetischen Oberflächen, mikrooptischen Elementen, mechanischen Metamaterialien bis hin zu Mikromaschinen und 3D-Zellgerüsten.
Nanoscribe 2PP Fotolacke
Unsere Fotolacke sind in lichtgeschützten und wiederverschließbaren Kartuschen erhältlich. Damit kann das Druckmaterial von Hand oder mit einem Dispenser-System automatisch auf ein Substrat, einen Wafer sowie direkt auf Chips oder andere Mikroteile aufgetragen werden – exakt dosiert und blasenfrei.
Unser Angebot umfasst eine Produktlinie von Negativlacken, die sogenannten IP Fotolacke. Sie wurden speziell für die Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP) entwickelt und verfügen über Eigenschaften, die wesentlich für die hochpräzise additive Fertigung sind:
- Kleinste Strukturbreiten ab typischerweise 160 nm
- Ultraschnelle Mikrofabrikation
- Hervorragende Haftung auf verschiedenen Substraten
- Optimierte mechanische Stabilität und exzellente Formgenauigkeit
- Einfaches Handling und unkomplizierte Verarbeitung
- Weder Spin-Coating noch Post-Exposure-Bake sind erforderlich
Unser Fotolacke sind speziell für die Verwendung mit dem Nanoscribe Photonic Professional GT2 3D-Drucker, Quantum X maskenlosen Lithografiesystem und dem High-Performance 3D-Drucker Quantum X shape entwickelt.
Professor Giovanna Brusatin, University of Padova
Die Fotolacke von Nanoscribe sind sehr effizient. Mit IP-Dip produzieren wir Polymermaster für die Replikation, mit IP-S Mikrodüsen. Mit dem Photonic Professional GT drucken wir auch Hydrogele oder Siloxan.
Erfahren Sie mehr zu
Materialien und Prozessen
| IP Fotolack | Vorteile | Mögliche Anwendungen |
| Neu IP-PDMS | 2PP-Druckmaterial mit weichen, flexiblen und elastischen Eigenschaften. | Materialwissenschaften, Life Science, Zell- und Tissue Engineering, Mikrofluidik, mikroelektromechanische Systeme (MEMS) |
| Neu IP-n162 | Hochbrechendes Druckmaterial mit n=1,62. Fotolack mit geringer Absorption im Infrarotbereich. Geeignet für Direktdruck und Prototyping von 2,5D und 3D Mikrostrukturen. | Refraktive Mikroooptiken in 3D und Freiraum-Mikrooptiken für integrierte Photonik |
| IP-Visio | Biokompatibel, nicht zytotoxisch nach ISO 10993-5 / USP 87. Geringe Autofluoreszenz für die Zell-Mikroskopie. | Mehrzellen-Gerüststrukturen, Tissue Engineering, biomedizinische Geräte, biowissenschaftliche Anwendungen |
| IP-Q | Ultraschnelle Mikrofabrikation für millimetergrpße Objekte. Entwickelt für Dip-in Laser Lithography (DiLL) | Biomedizintechnik, Mechanische Komponenten, Mikro Rapid Prototyping |
| IP-S | Biokompatibel, nicht zytotoxisch nach ISO 10993-5 / USP 87. Glatte Oberflächen für die mikro- und mesoskalige Herstellung von Strukturen mit optischer Oberflächenqualität und höchster Formgenauigkeit. Entwickelt für DiLL. | Mechanische Metamaterialien, Mikrooptik, Integrierte Photonik, Mikrofluidik, Zellgerüste |
| IP-Dip | Biokompatibilität, nicht zytotoxisch, evaluiert durch unsere Kunden, teils unter strengeren Anforderungen als ISO 10993-5. Submikrometerdetails und hohe Aspektverhältnisse. Entwickelt für DiLL. | Photonische Metamaterialien, Diffraktive optical Elemente, Mikroroboter |
| IP-G | Komplexe 3D-Designs, z.B. überhängende Elemente. Submikrometerdetails und geringe Schrumpfung. Geeignet für die Verwendung mit Ölimmersionsobjektiven. | Überhängende Elemente in der Biomimetik, Photonik, Mikrorobotik |
| IP-L | Biokompatibilität, nicht zytotoxisch, evaluiert durch unsere Kunden, teils unter strengeren Anforderungen als ISO 10993-5. Submikrometerdetails und geringe Schrumpfung. Entwickelt zur Verwendung mit Ölimmersionsobjektiven. Kombinierbar mit DiLL. | Plasmonik, Photonik und biomimetische Oberflächen |
Nanoscribes IP-Fotolacke sind nur für Nanoscribe-Systeme erhältlich. Auf Anfrage bieten wir die folgenden Fotolacke ohne Photoiniator: IP-Dip, IP-S und IP-Q. Für mehr Infos kontaktieren Sie uns.
| Brechungsindex 1 @589 nm, 20 °C | Youngsches Modul 1 [GPa] | Degradations-temperatur 1 [°C] | Biokompatibilität | Klassifizierung / Print Set | |
| IP-Q2 | 1.513 | n/a | 242 | n/a | Universal / LF |
| IP-S2 | 1.515 | 5,1 | 286 | ja | Universal / MF |
| IP-Dip2 | 1.552 | 4,5 | 371 | ja | Universal / SF |
IP-L | 1.519 | 3,9 | 362 | ja | Universal / SF |
| IP-G | 1.515 | 3,4 | n/a | n/a | Sol-gel / SF / MF |
| IP-PDMS | 1.450 | 0,015 | n/a | ja | Funktional / MF |
| IP-n162 | 1.622 | n/a | n/a | n/a | Funktional / MF |
| IP-Visio | 1.511 | n/a | n/a | ja | Funktional / MF / LF |
1 anhand 3D-gedruckter oder UV-ausgehärteter Strukturen gemessen; die Ergebnisse hängen von den Druckbedingungen und der Geometrie ab
2 Bei Anfrage auch ohne Photoinitiator erhältlich
Print Sets: LF – Large feature, MF – Medium feature, SF – Small feature
Die Mikrofabrikationslösungen von Nanoscribe sind als offene Systeme konzipiert, die für eine breite Auswahl an Materialien geeignet sind. Die Materialvielfalt reicht bis hin zu UV-Fotolacken, Hydrogelen oder Nanopartikel-Kompositlacken von Drittanbietern sowie von Kunden in eigener Regie herstellten Materialien.
Materialwissenschaftler können neue Fotolacke und Materialkombinationen entwickeln und testen. Auf diese Weise erweitern sich optische, mechanische, elektrische, chemische und biologische Materialeigenschaften, um den sehr unterschiedlichen Anforderungen in den Bereichen Optik, Photonik oder Biomedizintechnik gerecht zu werden.
Post-Print-Prozesse, wie z.B. Abformung, Atomlagenabscheidung (ALD), chemische Gasphasenabscheidung (CVD) oder Galvanisierung, ermöglichen die weitere Bearbeitung der gedruckten 3D-Strukturen sowie die Einbeziehung weiterer Materialien, z.B. von Keramiken, Metallen, Glas oder alternativen Kunststoffen.
Fotolacke von Drittanbietern
- SU-8 - Negativlacke auf Expoxidbasis
- AZ ® Positivlacke
- ORMOCER ® Polymere - anorganisch-organische Hybridpolymere
Custom-made Materialien
- Hydrogele - z.B. abbaubare Fotolacke
- Verbundmaterialien
- Flüssigkristalline Elastomere
IPX Photoresins für Quantum X Systeme
Die neuen IPX-Fotolacke wurden speziell für Nanoscribe Quantum X-Systeme entwickelt. Die industriell bewährte Plattform bietet hochpräzisen 3D-Druck und die innovative Technologie der Zwei-Photonen-Graustufen-Lithographie für die 2,5D-Mikrofabrikation. Um von der Druckgeschwindigkeit, Präzision und Leistung der Plattform Quantum X zu profitieren, wurde die neue Serie der IPX-Fotolacke mit Photopolymeren als Druckmaterialien für verschiedene Strukturqualitäten und Prozesse entwickelt. IPX-S und IPX-Q sind beide für den Druck von mesoskaligen Strukturen mit Mikrometerpräzision konzipiert, speziell für die Zwei-Photonen-Graustufen-Lithographie bzw. für die Zwei-Photonen-Polymerisation.
Eigenschaften von IPX-S
- Schnelle, 2GL-basierte 2,5D-Mikrofabrikation mit GrayScribeX
- Entwickelt für den Druck mit Quantum X-Systemen
- Drucken von Optiken bis in den Millimeterbereich, mit dem Large Feature Print Set
- Volle Designfreiheit für 2,5D-Strukturen
- Optisch hochwertige Oberflächen mit einer Rauheit von bis zu 10 nm Ra
- Ausgezeichnete Formgenauigkeit
Eigenschaften von IPX-Q
- Schnelle 2PP-basierte 3D-Mikrofabrikation
mit DeScribeX - Entwickelt für den Druck mit Quantum X-Systemen
- Druck von 3D-Objekten bis Millimetergröße, mit dem Large Feature Print Set
- Volle Designfreiheit für 3D-Strukturen
- Hohe Aspekt-Verhältnisse
- Ausgezeichnete Formgenauigkeit
Kartuschen für präzises und sauberes Auftragen des Druckmaterials
Unsere Fotolacke sind in lichtgeschützten und wiederverschließbaren Kartuschen erhältlich. Damit kann das Druckmaterial von Hand oder mit einem Dispenser-System automatisch auf ein Substrat, einen Wafer sowie direkt auf Chips oder andere Mikroteile aufgetragen werden – exakt dosiert und blasenfrei. Weitere Vorteile:
- Konsequente Sauberkeit
- Bessere Handhabung und Dosierung
- Ergiebige Dosierleistung