Entwickelt für die Mikrofabrikation
mit Quantum X-Systemen
Die neuen IPX-Fotolacke wurden speziell für Nanoscribe Quantum X-Systeme entwickelt. Die industriell bewährte Plattform bietet hochpräzisen 3D-Druck und die innovative Technologie der Zwei-Photonen-Graustufen-Lithographie für die 2,5D-Mikrofabrikation. Um von der Druckgeschwindigkeit, Präzision und Leistung der Plattform Quantum X zu profitieren, wurde die neue Serie der IPX-Fotolacke mit Photopolymeren als Druckmaterialien für verschiedene Strukturqualitäten und Prozesse entwickelt. IPX-S und IPX-Q sind beide für den Druck von mesoskaligen Strukturen mit Mikrometerpräzision konzipiert, speziell für die Zwei-Photonen-Graustufen-Lithographie bzw. für die Zwei-Photonen-Polymerisation. IPX-M ist der Fotolack für den makroskaligen 3D-Druck mit hohem Durchsatz und ist bestens für die Herstellung dreidimensionaler Strukturen und Objekten von bis zu 30 Kubikzentimetern geeignet.
Dr. Alexander Quick, Head of Materials: Development and Production, Nanoscribe
„IPX-Fotolacke ermöglichen mit Quantum X-Systemen eine Mikrofabrikation mit höchstmöglichem Durchsatz bei bester Präzision.“
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Materialien
| IP Fotolack | Vorteile | Mögliche Anwendungen |
| IPX-S | Schneller, 2GL-basierter Druck für die 2,5D Mikrofabrikation von Optiken im Mikrometer- und Millimeterbereich. Hohe optische Qualität mit glatten Oberflächen und ausgezeichneter Formgenauigkeit. | Rapid Prototyping und Mastering: 2,5D Mikroooptiken, Mikrolinsen-Arrays, Fresnel-Linsen, Hybrid- und Freiform-Linsen sowie Prismen-Arrays. |
IPX-Q | Schnelle, 2PP-basierte 3D-Mikrofabrikation. Herstellung von bis zu zentimetergroßen 3D-Objekten. Teile mit hohen Seitenverhältnissen und ausgezeichneter Formgenauigkeit. | Rapid Prototyping: Life Sciences, Mikrofluidik, Mikronadeln, mechanische Teile und Komponenten. |
Neu | Makroskaliger 3D-Druck mit hohem Durchsatz für Druckvolumina bis zu 30 cm³. Volle Designfreiheit für 3D-Objekte mit beliebigen Geometrien und hohen Seitenverhältnissen. | Rapid Prototyping und Serienfertigung im Direktdruck: Mechanische Komponenten u. a. |
| Eigenschaften | Brechungsindex 1 @589 nm, 20 °C | Elastizitätsmodul1 [GPa] | Biokompatibilität | Klassifizierung / Print Set |
| IPX-S | 1,510 | 2,2 | Ja | Universal / LF |
| IPX-Q | 1,511 | 2,2 | Ja | Universal / LF und XLF |
| IPX-M | 1,499 | 1,3 | Ja2 | Universal / XLF |
1 anhand 3D-gedruckter gemessen; die Ergebnisse hängen von den Druckbedingungen und der Geometrie ab
2 der Fotolack zeigt eine leichte Reaktivität
Print Sets: XLF – Extra Large Features; LF – Large Features
Die Mikrofabrikationslösungen von Nanoscribe sind als offene Systeme konzipiert, die für eine breite Auswahl an Materialien geeignet sind. Die Materialvielfalt reicht bis hin zu UV-Fotolacken oder Hydrogelen von Drittanbietern.
Materialwissenschaftler können neue Fotolacke und Materialkombinationen entwickeln und testen. Auf diese Weise erweitern sich optische, mechanische, elektrische, chemische und biologische Materialeigenschaften, um den sehr unterschiedlichen Anforderungen in den Bereichen Optik, Photonik oder Biomedizintechnik gerecht zu werden.
Post-Print-Prozesse, wie z.B. Abformung, Atomlagenabscheidung (ALD), chemische Gasphasenabscheidung (CVD) oder Galvanisierung, ermöglichen die weitere Bearbeitung der gedruckten 3D-Strukturen sowie die Einbeziehung weiterer Materialien, z.B. von Keramiken, Metallen, Glas oder alternativen Kunststoffen.
Leistungsstarke, hochpräzise und schnelle Mikrofabrikation
Kartuschen für präzises und sauberes Auftragen des Druckmaterials
Unsere Fotolacke sind in lichtgeschützten und wiederverschließbaren Kartuschen erhältlich. Damit kann das Druckmaterial von Hand oder mit einem Dispenser-System automatisch auf ein Substrat, einen Wafer sowie direkt auf Chips oder andere Mikroteile aufgetragen werden – exakt dosiert und blasenfrei. Weitere Vorteile:
- Konsequente Sauberkeit
- Bessere Handhabung und Dosierung
- Ergiebige Dosierleistung
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