Eine Übersicht der Nanoscribe IPX-Photoresins. Eine Übersicht der Nanoscribe IPX-Photoresins.

IPX Photoresins

Perfekt angepasste Druckmaterialien für die hochauflösende Mikrofabrikation, speziell entwickelt für Nanoscribe Quantum X-Systeme

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Entwickelt für die Mikrofabrikation
mit Quantum X-Systemen

Die neuen IPX-Fotolacke wurden speziell für Nanoscribe Quantum X-Systeme entwickelt. Die industriell bewährte Plattform bietet hochpräzisen 3D-Druck und die innovative Technologie der Zwei-Photonen-Graustufen-Lithographie für die 2,5D-Mikrofabrikation. Um von der Druckgeschwindigkeit, Präzision und Leistung der Plattform Quantum X zu profitieren, wurde die neue Serie der IPX-Fotolacke mit Photopolymeren als Druckmaterialien für verschiedene Strukturqualitäten und Prozesse entwickelt. IPX-S und IPX-Q sind beide für den Druck von mesoskaligen Strukturen mit Mikrometerpräzision konzipiert, speziell für die Zwei-Photonen-Graustufen-Lithographie bzw. für die Zwei-Photonen-Polymerisation. IPX-M ist der Fotolack für den makroskaligen 3D-Druck mit hohem Durchsatz und ist bestens für die Herstellung dreidimensionaler Strukturen und Objekten von bis zu 30 Kubikzentimetern geeignet.

unser IPX-Photoresin bei der Verwendung in einem Labor

Dr. Alexander Quick, Head of Materials: Development and Production, Nanoscribe

Porträt von Alexander Quick, Leiter der Abteilung Materialien: Entwicklung und Produktion
„IPX-Fotolacke ermöglichen mit Quantum X-Systemen eine Mikrofabrikation mit höchstmöglichem Durchsatz bei bester Präzision.“

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Materialien

  • IPX Fotolacke
  • Spezifikationen
  • Weitere Materialien
IP Fotolack Vorteile Mögliche Anwendungen
IPX-S Schneller, 2GL-basierter Druck für die 2,5D Mikrofabrikation von Optiken im Mikrometer- und Millimeterbereich. Hohe optische Qualität mit glatten Oberflächen und ausgezeichneter Formgenauigkeit. Rapid Prototyping und Mastering: 2,5D Mikroooptiken, Mikrolinsen-Arrays, Fresnel-Linsen, Hybrid- und Freiform-Linsen sowie Prismen-Arrays.

IPX-Q

Schnelle, 2PP-basierte 3D-Mikrofabrikation. Herstellung von bis zu zentimetergroßen 3D-Objekten. Teile mit hohen Seitenverhältnissen und ausgezeichneter Formgenauigkeit. Rapid Prototyping: Life Sciences, Mikrofluidik, Mikronadeln, mechanische Teile und Komponenten.

Neu
IPX-M

Makroskaliger 3D-Druck mit hohem Durchsatz für Druckvolumina bis zu 30 cm³. Volle Designfreiheit für 3D-Objekte mit beliebigen Geometrien und hohen Seitenverhältnissen. Rapid Prototyping und Serienfertigung im Direktdruck: Mechanische Komponenten u. a.
Eigenschaften Brechungsindex 1 @589 nm, 20 °C Elastizitätsmodul1 [GPa] Biokompatibilität Klassifizierung / Print Set
IPX-S 1,510 2,2 Ja Universal / LF
IPX-Q 1,511 2,2 Ja Universal / LF und XLF
IPX-M 1,499 1,3 Ja2 Universal / XLF

 

1 anhand 3D-gedruckter gemessen; die Ergebnisse hängen von den Druckbedingungen und der Geometrie ab
2 der Fotolack zeigt eine leichte Reaktivität
Print Sets: XLF – Extra Large Features; LF – Large Features

Die Mikrofabrikationslösungen von Nanoscribe sind als offene Systeme konzipiert, die für eine breite Auswahl an Materialien geeignet sind. Die Materialvielfalt reicht bis hin zu UV-Fotolacken oder Hydrogelen von Drittanbietern.

Materialwissenschaftler können neue Fotolacke und Materialkombinationen entwickeln und testen. Auf diese Weise erweitern sich optische, mechanische, elektrische, chemische und biologische Materialeigenschaften, um den sehr unterschiedlichen Anforderungen in den Bereichen Optik, Photonik oder Biomedizintechnik gerecht zu werden.

Post-Print-Prozesse, wie z.B. Abformung, Atomlagenabscheidung (ALD), chemische Gasphasenabscheidung (CVD) oder Galvanisierung, ermöglichen die weitere Bearbeitung der gedruckten 3D-Strukturen sowie die Einbeziehung weiterer Materialien, z.B. von Keramiken, Metallen, Glas oder alternativen Kunststoffen.

Kartuschen für präzises und sauberes Auftragen des Druckmaterials

Dosing by hand onto a substrate

Unsere Fotolacke sind in lichtgeschützten und wiederverschließbaren Kartuschen erhältlich. Damit kann das Druckmaterial von Hand oder mit einem Dispenser-System automatisch auf ein Substrat, einen Wafer sowie direkt auf Chips oder andere Mikroteile aufgetragen werden – exakt dosiert und blasenfrei. Weitere Vorteile:

  • Konsequente Sauberkeit
  • Bessere Handhabung und Dosierung
  • Ergiebige Dosierleistung

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