Quantum X shape

Für erstklassige Innovatoren

Prototyping von Nano bis Meso

Der beste 3D-Drucker seiner Klasse. Ermöglicht Designfeatures von 100 nm, auf bis zu 25 cm²

Wafer-scale Batch Processing

Aufrechtes optisches System für die Fertigung von über 200 typischen Strukturen auf Wafer über Nacht

Vielfältige Druckmaterialien

Universelle und funktionale High-Performance 2PP-Materialien für Polymer- und Glasstrukturen

Der schnellste und präziseste
3D-Drucker

Quantum X shape ist ein wahres Multitalent. Das Laserlithografiesystem basiert auf der Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP) und kombiniert proprietäre Drucktechnologien. Das Mikrofabrikationssystem ist optimal für Rapid Prototyping und Batch Processing jeglicher 2,5D und 3D-Formen im Wafermaßstab geeignet, mit Präzision und Genauigkeit bis weit in den Submikrometerbereich.

Front view of our Nanoscribe Quantum X shape system
Reshaping precision.

Quantum X shape ist das zweite Mikrofabrikationssystem der industrieerprobten Plattform Quantum X. Das neue System ermöglicht 3D-Mikrofabrikation mit unvergleichlicher Präzision neben Nanoscribe’s patentierter Technologie der Zwei-Photonen Graustufenlithografie (2GL ®) für die formgetreue Oberflächenstrukturierung. Der neue Quantum X shape besticht durch sehr präzise und formgetreue Druckerzeugnisse. Möglich wird das durch extrem hohe Voxelmodulationsraten und einem Adressraster, das eine Sub-Voxelgrößen-Kontrolle der Objektkonturen ermöglicht. Mit dem 2GL Voxeltuning für 2,5D Mikrostrukturen profitieren Sie außerdem von beeindruckend glatten und präzise geformten oder mikrostrukturierten Oberflächen.

Reshaping output.

Quantum X shape ist ideal geeignet für das Rapid Prototyping vielfältiger Applikationsdesigns in Mikrooptik, Mikrofluidik, Oberflächentechnik für mikroelektromechanische Systeme (MEMS) u. a. Mit dem Einsatz von Wafern wird Batch Processing und die Kleinserienfertigung von 3D-Mikroteilen einfacher denn je.

Reshaping usability.

Behalten Sie Ihren Druckjob über den im Gerät integrierten Touchscreen im Blick oder nutzen Sie die Software nanoConnectX, um auch von Ihrem Büro aus auf den Drucker zuzugreifen. Profitieren Sie außerdem von industriellen Standards und den effizienten Möglichkeiten einer Chargenproduktion.

 
Technische Merkmale im Überblick
  • Rapid Prototyping mit höchster Präzision und Designfreiheit entlang eines einfachen Workflows
  • Industriegeprüfte Plattform für Batch Processing im Wafer-Maßstab
  • 200 typische mesoskalige Strukturen über Nacht druckbar
  • Drucken Sie Volumen von bis zu 30 Kubikzentimetern in einem Schritt mit dem neuen XLF Print Set
  • Große Vielfalt applikationsspezifischer und universeller Druckmaterialien
  • Offenes System für 2PP-spezifische und kommerziell erhältliche Materialien
 
Druckprozesse und Skalenbereich
  • 2PP-basierter 3D-Druck
  • 2GL Graustufenlithografie für außergewöhnlich schnelle und präzise Oberflächenstrukturierung
  • Nanoskaliger Druck – Kontrolle der Strukturgrößen bis zu 100 Nanometern in allen räumlichen Dimensionen
  • Mikroskaliger Druck – mit typischen Strukturgrößen zwischen 50 und 700 Mikrometern
  • Mesoskaliger Druck – für bis millimetergroße Strukturen
  • Makroskaliger Druck - das XLF Print Set beschleunigt die Chargenproduktion von voluminösen, zentimetergroßen Objekten bis zu 50 x 50 x 12 mm³

XLF Print Set
Höchste Präzision auf der Makroskala

Der auf Zwei-Photonen-Polymerisation basierende 3D-Druck wird eigentlich für die Herstellung von Objekten auf der Mikroskala genutzt. Mit dem XLF Print Set erweitert sich dieser Fertigungsbereich von nano- und mikroskaligen Strukturen auf millimeter- und zentimetergroße Objekte mit höchster Präzision und Formgenauigkeit. Mit dem neuen XLF-Print-Set profitieren Sie von der Chargenproduktion voll bedruckter Wafer mit einem Druckvolumen bis zu 30 Kubikzentimeter in einem Arbeitsschritt.
Mit dem 5x-Luftobjektiv des XLF-Print-Sets vergrößert sich das Druckfeld auf einen Durchmesser von 3.200 µm und der Arbeitsabstand auf einen vergleichsweise großen Wert von 18,5 mm. In Kombination mit extrem hohen Scangeschwindigkeiten ist das XLF Print Set ideal für eine Vielzahl von Anwendungen, wie z. B. Prototyping von mechanischen und mikrofluidischen Komponenten und Strukturen, Gehäusen, Steckverbindungen oder Düsen.

Zahlen & Fakten Quantum X shape

  • Key Features
  • Designed for
  • Specifications
  • Downloads
  • 3D-Mikrofabrikation in Hochgeschwindigkeit mit ultraschnellen Voxelmodulationsraten und 100 nm Adressraster
  • Hochentwickelte Galvo-Trajektorienkontrolle für höchste Präzision bei maximaler Scangeschwindigkeit
  • Interface Finder mit Nanometerpräzision für hervorragende Genauigkeit und Wiederholbarkeit
  • Automatisierte Selbstkalibrierungsroutinen für höchste Laserkontrolle und Positionierungsgenauigkeit
  • Umfangreiches Spektrum an Substraten und Standard-Wafern bis zu 6” für industrielle Batch-Prozesse
  • Industrielles Batch Processing: 200 typische mesoskalige Strukturen über Nacht druckbar
  • Touchscreen und Online-Zugriff auf die Systeme für einen einfachen Workflow

3D-Mikrofabrikationssystem für Forschungslabore und Multi-User-Einrichtungen mit höchsten Ansprüchen an Qualität und Output in Bereichen wie

  • Life Sciences
  • Materialentwicklung
  • Mikrofluidik
  • Mikromechanik & MEMS
  • Refraktive Mikrooptiken
  • Diffraktive Mikrooptiken
  • Integrierte Photonik

Für Innovatoren in Forschung und Industrie. Schöpfen Sie das volle Mikrofabrikationspotenzial aus durch

  • Rapid Prototyping
  • Batch Processing / Kleinserienfertigung
  • Produktion im Wafermaßstab
Top Spezifikationen
Oberflächenrauigkeit (Ra) bis zu ≤ 5 nm 
Kontrolle der Merkmalsgrößen 1 bis zu 100 nm
Formgenauigkeit bis zu ≤ 200 nm
Batch Processing bis zu 200 typische mesoskalige Strukturen über Nacht
Autofokuspräzision bis zu ≤ 30 nm
Durchmesser einzelnes Druckfeld bis zu ≥ 4,000 µm
Maximale Scangeschwindigkeit 6.25 m/s geteilt durch Objektivvergrößerung 2
Systemspezifikationen
Drucktechnologie

3D-Druck auf Basis der Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP), layer-by-layer
Zwei-Photonen Graustufenlithografie (2GL ®) mit Voxeltuning

Substrate

Mikroskop-Objektträger (3 x 1” / 76 x 26 mm)
Wafer von 1” bis 6” (25.4 mm bis 150 mm)
Glas, Silikon sowie weitere transparente und opake Materialien

Fotolacke

Nanoscribe IP Fotolacke (Druck von Polymerstrukturen)
Nanoscribe GP-Silica (Druck von Glasstrukturen)
Offen für kommerziell erhältliche und 2PP-optimierte Druckmaterialien

Maximaler Druckbereich 50 x 50 mm²

Die angegebenen Werte können je nach Fotolack und Strukturgeometrie variieren.
1 Kontrolle der Merkmalsgröße von 100 nm in x/y-Richtung
2 z. B. für 10-fache Vergrößerung: 625 mm/s

Dr. Michael Thiel, Chief Science Officer (CSO) und Mitgründer von Nanoscribe

Portrait of Dr. Michael Thiel, Chief Science Officer (CSO) and Co-Founder of Nanoscribe
Mit Quantum X shape profitieren unsere Kunden von dem schnellsten 3D-Drucker mit höchster Präzision und den einzigartigen Fähigkeiten zum Batch Processing.

Quantum X shape
Shape your print job with our software

Erprobte Software für die 3D-Mikrofabrikation im Wafer-Maßstab

Wie Sie von Ihrem 3D-Design zur finalen 3D-gedruckten Struktur gelangen? Mit den Softwarelösungen von Nanoscribe geht das ganz einfach. Erstellen, laden, drucken und kontrollieren Sie Ihren Druckjob direkt vom Touchscreen des Quantum X shape oder erledigen Sie alles bequem von Ihrem PC im Büro aus.

Mit DeScribeX definieren Sie Ihren 3D-Druckjob: Die Software zur Erstellung von 3D-Druckjobs basiert im Kern auf der erprobten 2PP-Software DeScribe und führt Sie in nur wenigen Schritten vom Import des 3D-CAD-Modells zum Upload Ihrer Druckdatei.

Mit GrayScribeX definieren Sie Ihren 2.5D-Druckjob: Auch diese Software ist speziell für die Erstellung von Druckjobs konzipiert und dabei auf die Vorbereitung der proprietären .nano-Dateien ausgerichtet, um 2,5D-Druckjobs vorzubereiten und auf das Quantum X System zu laden.

Mit dem Touchscreen starten Sie Ihren Druckjob: Das intuitive Touchscreen-Menü führt Sie in nur wenigen Schritten zu einem erfolgreichen Druckergebnis. Wichtige Daten wie Hardware-Informationen, Systemstatus und Druckfortschritt haben Sie jederzeit im Blick. Eine Live-Ansicht aus drei verschiedenen Kameraperspektiven ermöglicht Ihnen zudem die Kontrolle über den gesamten Druckvorgang.

Mit nanoConnectX bleiben Sie in Verbindung: Starten und überwachen Sie Ihren Druckjob vom Büro aus mit der Remote-Access-Software nanoConnectX. Damit ist das Quantum X System bestens für Produktions- und Multi-User-Umgebungen gerüstet.

Fakten zur Software

  • DeScribeX
  • GrayScribeX
  • Touchscreen
  • nanoConnectX

DeScribeX ist die Software, um individuelle 3D-Druckjobs für Quantum X shape zu definieren. Der integrierte Import-Assistent kann mit STL-Dateien ein gängiges 3D-CAD-Format laden. Vorinstallierte Druckparameter-Presets dienen Ihnen als optimale Ausgangspunkte, um in nur wenigen Schritten zu einem erfolgreichen Druck zu gelangen. Über eine Exportfunktion können Sie Ihren Druckjob auch von Ihrem Büro aus auf das Quantum X shape laden.

Key feature Benefits
Import-Assistent für die 3D-CAD-Modelle Intuitiver Arbeitsablauf erzeugt Printjob-Dateien aus Standard-STL-Files
Druckparameter-Voreinstellungen Vordefinierte Parameter für schnelle, optimale Druckergebnisse
Adaptive slicing Zur Verbesserung der Formgenauigkeit
Parameter sweep Perfekte Druckparameter für neue Materialien und Anwendungen durch speziellen Testdruck
Integrated Development Environment (IDE) Für maßgeschneiderte und ambitionierte Druckjobs können Experten modifizierte Druckstrategien programmieren (GWL)
3D-Vorschau und Drucksimulation What you see is what you print! DeScribeX zeigt Parameter wie Druckzeit, Scangeschwindigkeit oder Laserleistung an und simuliert den gesamten Druckprozess im Detail
Dateiformat .nano Nutzen Sie die Vorteile des Container-Dateiformats, das alle notwendigen Informationen für den Datenaustausch und einen erfolgreichen Druck in einer einzigen Datei bündelt

Die Software GrayScribeX ist eigens zur Erstellung individueller 2D und 2,5D Druckjobs für Quantum X Systeme entwickelt. Sie können Standard-Graustufenbilder oder CAD-Modelle importieren, die dann automatisch in Graustufenbilder umgewandelt werden. Die Grauwerte aus dem importierten Entwurf werden durch eine intelligente Softwareroutine in die Strukturhöhe des Druckobjekts übersetzt. Dabei stellt die Software diese Werte über kalibrierte Druckparameter präzise ein.

Key feature Benefits
Import von 16 Bit Graustufenbildern und CAD-Dateien Nutzen Sie die Standard-Bildformate .bmp und .png sowie das CAD-Format .stl
Remote Upload von Druckjobs  Verbinden Sie Ihren Computer vom Büro aus mit dem Quantum X System
Hinzufügen, Entfernen und Vervielfältigen von Strukturen zum Druckjob Erstellen Sie Druckjobs mit unterschiedlichen Strukturen in einer Datei
Skalieren Sie Ihre Strukturen neu oder erstellen Sie eine ganze Palette von Strukturen Modifizieren Sie Ihre Strukturen, um die individuellen Anforderungen Ihrer Anwendung zu erfüllen
Erprobte Druckparameter-Presets Profitieren Sie von gebrauchsfertigen Druckparameter-Presets für einen einfachen und schnellen Druck Ihres individuellen Graustufen-Designs
Interne Kalibrierungsdateien Übersetzt Grauwerte Ihres Designs ganz einfach in die entsprechenden Schreibparameter
Dateiformat .nano Nutzen Sie die Vorteile dieses Container-Dateiformats, das alle notwendigen Informationen für den Datenaustausch und einen erfolgreichen Druck in einer einzigen Datei enthält

Steuern und überwachen Sie das System über den Touchscreen mit seiner grafischen Benutzeroberfläche (GUI). So gelangen Sie in nur wenigen Schritten zu einem erfolgreichen Druckergebnis. Wählen Sie Ihr Druckprojekt aus, laden Sie das gewünschte Substrat und starten Sie Ihren Druckjob.

Key feature Benefits
Drei Live-Kameras Überwachen Sie den Druckprozess online aus drei Perspektiven, um stets über den aktuellen Status Ihres Druckjobs informiert zu sein
Kontrolle der Bühne in x-, y- und z-Richtung Bewegen Sie die Bühne an jede beliebige Position auf dem Substrat, um Ihren Druckbereich zu definieren
Benutzerfreundliche Druckeinstellungen Wählen Sie den Fotolack und das Substrat aus und starten Sie den Druckjob mit nur einem Klick
Projektliste Behalten Sie den Überblick über den gesamten Verlauf der Druckprojekte
Automatischer Interface Finder Profitieren Sie von der automatischen Oberflächenerkennung, das die Oberfläche des Substrats mit Submikrometer-Genauigkeit identifiziert

nanoConnectX ist eine Remote-Access-Software (RAS) für das Quantum X System. Die Software verfügt über sämtliche Funktionen und Anzeigemöglichkeiten des Touchscreens und bringt diese neben einigen weiteren Funktionen direkt auf Ihren PC.

Key feature Benefits
Remote Access Verbinden Sie Quantum X mit Ihrem Computer, wo auch immer Sie sich gerade aufhalten
Alle Funktionen des Touchscreens Nutzen Sie die Möglichkeit, Ihre Druckjobs von jedem Standort aus vorzubereiten, zu steuern und zu überwachen
Upload und Download von Druckjobs und Reports Profitieren Sie von einem direkten Zugriff auf druckbezogene Dateien von Ihrem Rechner aus

Erfahren Sie mehr über
neue Maßstäbe mit Blick auf Präzision, Output und Benutzerfreundlichkeit ...

Was zeichnet Quantum X shape für das Batch Processing im Wafermaßstab aus?

Quantum X shape ist Teil der industrieerprobten Quantum X Plattform und ermöglicht eine 3D-Mikrofabrikation im Wafermaßstab. Dabei kann direkt auf Glassubstrate oder auf Silizium-Wafer bis zu 6’‘ gedruckt werden. Die Möglichkeit, Standard-Wafer und verschiedene Substrattypen zu verwenden ist zum einen für das Post Processing und zum anderen für die Integration in bestehende industrielle Prozesslinien wichtig.

Im Gegensatz zu den meisten 2PP-Systemen druckt Quantum X shape in einer aufrechten Position. In Kombination mit dem Dispenser, der für eine exakte Dosierung des Fotolacks während des gesamten Druckprozesses sorgt, wird der 3D-Druck damit auch auf großen Flächen gewährleistet.

So können über Nacht bis zu 200 typische mesoskalige Strukturen auf einem voll adressierbaren Druckfeld von 50 x 50 mm² gedruckt werden.

A hand with a glove is holding a wafer with nano-3D-printed micromechanical parts

Wie stark beeinflusst das Galvospiegelsystem die erreichbare Präzision?

Das Galvosystem des Quantum X shape hat einen optimierten Arbeitsbereich und vergrößert das Druckfeld mit 1.750 µm in Richtung seiner physikalisch machbaren Grenzen. Dank des optimierten Druckfelds wird der 3D-Druck mesoskaliger Objekte ohne Stiching-Nähte und ohne Einbußen in Bezug auf die Geschwindigkeit möglich. Darüber hinaus steuern intelligente Systemalgorithmen das Galvosystem, indem sie die Galvospiegel in Ecken und an Kanten beschleunigen und abbremsen. Gleichzeitig wird die Laserleistung an die Scangeschwindigkeit angepasst und sorgt für eine konstante Belichtungsdosis jedes Volumens während des gesamten Druckvorgangs. Nur so ist letztlich eine optimale Druckgeschwindigkeit bei maximaler Präzision möglich. Anhand eines einfachen Beispiels erklärt: Das Galvanometer-Steuergerät ist wie ein Rennwagen, der Kurven auf der Ideallinie ansteuert und geeignet beschleunigt und abbremst, während gerade Passagen der Rennstrecke mit höchster Geschwindigkeit gefahren werden.

Infographic explaining the 2PP hardware setup

Wie schneidet Quantum X shape im Vergleich zu anderen Mikrofabrikationstechnologien ab?

Das Maß für die Druckgeschwindigkeit bezieht sich auf die Anzahl der pro Sekunde gedruckten Voxel und ist ein Indikator dafür, wie schnell digitale Informationen in ausgehärtetes Material umgewandelt werden können. Quantum X shape verfügt über eine Rate von einer Million Voxeln pro Sekunde und ist damit viermal schneller als das zweitbeste System seiner Klasse,  der Nanoscribe Photonic Professional GT2.

Die hier gezeigte Grafik vergleicht die Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP) mit gängigen additiven Fertigungstechnologien in Bezug auf ihre Druckraten und erreichten Strukturgrößen. Gemessen an der absoluten Druckrate von Volumen im 2PP-basierten 3D-Druck scheint das additive Verfahren in Bezug auf die Geschwindigkeit nicht mit anderen Technologien mithalten zu können. 2PP zeichnet sich jedoch durch hohe Voxel-Druckraten im Vergleich zu den feinen Voxelgrößen aus, die sie auflösen kann und ist daher vergleichsweise schnell und hochpräzise zugleich.

Voxel size infographic

Wie lassen sich Strukturen auf unterschiedlichen Skalen drucken, jeweils mit höchster Präzision oder Formgenauigkeit?

Quantum X shape ist speziell für das Rapid Prototyping und den 3D-Druck im Wafermaßstab auf der Nano-, Mikro- und Mesoskala entwickelt. Verschiedene, optimal auf die spezifischen Anforderungen unterschiedlichster Anwendungen abgestimmte Print Sets umfassen Objektive, passende Fotolacke und optimierte Druckparametervoreinstellungen, die sog. Parameter Presets. Unsere softwarebasierten Druckparameter-Presets beinhalten Slicing and Hatching, Laserleistung und spezifische Galvo-Einstellungen und sind somit optimale Ausgangspunkte für Ihren Druckjob. Es sind drei Print Sets erhältlich:

  • Das Small Features Print Set umfasst ein 63x-Objektiv und ist für höchste Präzision bei Features im Submikrometerbereich ausgelegt.
  • Das Medium Features Print Set ist speziell auf die additive Fertigung mikroskaliger Objekte bei zugleich höchster Geschwindigkeit zugeschnitten. Typische Strukturen wie Mikrolinsen mit einer Größe von mehreren hundert Mikrometern und einer Oberflächenrauigkeit (Ra) von nur 5 Nanometern werden möglich. 
  • Das Large Features Print Set erweitert die Vorteile des hochpräzisen 3D-Drucks auf mesoskalige Strukturen mit einer Präzision im Mikrometerbereich.

Was sind die besonderen Vorteile der Dip-in Laser Lithography (DiLL)?

Dip-in Laser Lithography (DiLL) ist die Standardkonfiguration des Quantum X shape. Diese proprietäre Technologie von Nanoscribe ermöglicht 3D-Mikrofabrikation mit höchster Präzision und zugleich geringster Aberration im Vergleich zu konkurrierenden Technologien. Bei dieser Konfiguration wird die Objektivlinse in den Fotolack eingetaucht, der so auch als optisches Immersionsmedium fungiert. Die Anpassung des Brechungsindexes zwischen der Fokussieroptik und dem Druckmaterial garantiert eine ideale, aberrationsfreie Fokussierung mit der höchsten Auflösung im 2PP-basierten 3D-Druck. Darüber hinaus wird der Laser nicht durch das Substrat fokussiert (z. B. bei der Ölimmersionskonfiguration), sondern schreibt das Druckobjekt direkt auf das Substrat. Folglich begrenzt der Arbeitsabstand der Fokussieroptik nicht die Höhe des 3D-gedruckten Objekts, was insbesondere für den Druck makroskaliger Objekte von Vorteil ist.

Welche Substrate können verwendet werden?

Der automatische Interface Finder umfasst zwei komplementäre Modi für Reflexion und Fluoreszenzdetektion der Substratoberfläche. In Kombination mit der Dip-in Laser Lithography (DiLL) Konfiguration kann dabei auf eine große Bandbreite unterschiedlicher reflektiver (z. B. Silikon-Wafer), transparenter und opaker Substrate (z. B. Glas- und Polymersubstrate) zurückgegriffen werden. Die DiLL-Konfiguration ermöglicht darüber hinaus den Druck auf Standardsubstraten wie Mikroskop-Objektträgern und Wafern von 1'' bis 6''. Mit den Substrathaltern von Nanoscribe kann die ständig wachsende Bandbreite an Substraten ganz einfach eingespannt und fixiert werden.

Two hands with gloves holding wafers with 3D printed microstructures by Quantum X shape

In welchen Räumlichkeiten kann der Quantum X shape untergebracht werden?

Quantum X shape ist das optimale Gerät für die 3D-Mikrofabrikation in Hochgeschwindigkeit von Objekten mit Strukturbreiten im Submikrometerbereich, Oberflächenrauigkeitsprofilen von 5 nm und darunter (Ra-Wert) und Präzision im Nanometerbereich. Um höchste Präzision gewährleisten zu können, sind einige Vorkehrungen in Bezug auf das System und den Installationsort zu beachten. Quantum X shape sollte einen festen Standort in einem Raum mit stabiler Raumtemperatur und Luftfeuchtigkeit haben. Der Drucker selbst wird mit einem Granitsockel geliefert, um den Einfluss von Vibrationen und Temperaturschwankungen in der Umgebung zu verringern. Dennoch ist zu empfehlen, das System in einem Raum zu installieren, der externe Vibrationen möglichst minimiert. Für den unproblematischen Umgang mit den UV-empfindlichen Fotolacken außerhalb des Druckers sollte der Raum mit Gelblicht ausgestattet sein und die Basisausstattung eines Chemielabors für den Umgang mit organischen Lösungsmitteln bei der Entwicklung der Druckerzeugnisse bereithalten.

Wenn Sie eine Vorstellung von der optimalen Arbeitsumgebung des Quantum X shape bekommen möchten, kontaktieren Sie uns und besuchen Sie unser Microfabrication Experience Center in Karlsruhe oder buchen Sie Ihre Online-Tour.

Warum passt Quantum X shape optimal ins industrielle Umfeld und in Multi-User-Einrichtungen?

Mit dem hochmodernen Autofokussystem kann jedes Substrat mit höchster Präzision und wiederholbaren Druckergebnissen anvisiert werden. Drei Prozesskameras mit Live-Aufnahmen erleichtern die Steuerung und Überwachung des Druckprozesses. Ein automatischer Dispenser trägt die erforderliche Fotolackmenge auf das Substrat auf, sodass der Arbeitsaufwand im Labor insgesamt reduziert und die Arbeit mit dem System vom Büro oder Homeoffice aus möglich wird. Um den Wechsel zwischen Hardwarekonfigurationen zu vereinfachen, erkennt der Quantum X shape automatisch Druckköpfe und Substrathalter. Dank smarter Softwarelösungen können Druckaufträge über die Remote-Access-Software nanoConnectX in Echtzeit gestartet und überwacht werden, wobei auch eine einfache Bedienung direkt über den interaktiven Touchscreen des Systems möglich ist. Diese flexiblen Softwarelösungen erleichtern insbesondere die Arbeit größerer Teams mit einem einzigen oder mehreren Systemen.

Man sitting on a desk working with the Quantum X shape software

Wie eröffnen sich durch Druckmaterialien neue Chancen in der 3D-Mikrofabrikation?

Quantum X shape ist mit Blick auf Druckmaterialien ein offenes System, sodass Nanoscribe-spezifische und Druckmaterialien von Drittanbietern gleichermaßen verwendet werden können. Nanoscribe bietet mit den IP Fotolacken eine Produktlinie flüssiger Negativ-Fotolacke an, die speziell für den 3D-Druck auf Basis der Zwei-Photonen-Polymerisation entwickelt werden. Die felderprobten anwendungsspezifischen Druckmaterialien bieten eine Auflösung im Submikrometerbereich sowie eine hervorragende Formgenauigkeit und Stabilität. Mit den polymerbasierten IP Fotolacken können daher auch sehr anspruchsvolle Anwendungen wie Strukturen im Submikrometerbereich, komplexe 3D-Architekturen, Oberflächen in optischer Güte, weiche und elastische Elemente, mesoskalige Objekte in Hochgeschwindigkeit oder biokompatible Mikroteile gefertigt werden. GP-Silica, ein anorganisches Nanokomposit aus Quarzglas, ermöglicht den 3D-Druck von Glasmikrostrukturen und ist Teil des neuen Glass Printing Explorer Sets.

Erfahren Sie mehr über unsere IP Fotolacke oder GP-Silica und ihr Potenzial für modernste Anwendungen.

Quantum X shape
Mehr Präzision, Output, Usability.

Shaping success.

 

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