Quantum X shape

最高クラスのイノベーターのために

ナノからメゾスケールまでのプロトタイピングに

Quantum X shapeは、市場で最先端の3Dプリンタ。100nmに至る形状制御、最大面積25cm²で、あらゆるデザインを造形可能。

ウェハスケールのバッチ処理

200種類以上の典型的な構造を一晩でウェハ上に造形する、自動ディスペンシング機能付き直立型システム

多様なプリンティングマテリアルに対応するシステム

ポリマーやガラスのプリンティングが可能な、高い汎用性と機能性を兼ね備えた2光子重合(2PP)を採用

クラス最速、最高精度
3Dプリンタ

Quantum X shapeは、2光子重合(2PP)をベースに独自のプリンティング技術を組み合わせた、マルチタレントな3Dプリンタです。この技術により、あらゆる2.5D/3D形状の、サブミクロン精度と高い正確性でのラピッドプロトタイピングや、ウェハスケールのバッチ生産に最適なツールとなっています。

NanoscribeのQuantum X shapeシステム
Reshaping precision.

業界で実績の高いQuantum X システムは、Nanoscribeの画期的な技術である、表面パターニングのための2光子グレイスケール・リソグラフィ(2GL ®)を採用しています。新生Quantum X shapeはこれに次いで、比類のない精度の3D微細加工機能を提供します。Quantum X shapeの並外れた精度は、クラス最高のヴォクセル(Voxel)変調速度、サブヴォクセルサイズの形状制御を可能にする極めて微細なアドレスグリッドにより実現しています。さらに、2GLヴォクセルチューニング機能により、フラットで正確な形状の2.5Dストラクチャや、マイクロパターン表面が可能になりました。

Reshaping output.

Quantum X shapeは、バイオメディカルデバイス、マイクロオプティクス、MEMS、マイクロフルイディクス、表面エンジニアリングなど、様々なアプリケーションデザインのラピッドプロトタイピングに最適です。ウェハハンドリング機能により、3Dマイクロパーツのバッチ処理や少量生産がこれまで以上に容易になりました。

Reshaping usability.

本体はタッチスクリーン搭載で、プリントジョブを制御できます。またnanoConnectXを使用すれば、オフィスやマルチユーザー環境でもプリンタの状態を確認できます。また工業規格に準拠し、時間効率の良いバッチ生産が可能です。

 
性能・機能
  • 最高の精度と高い設計自由度を備えたラピッドプロトタイピングを、わかりやすいワークフローで実現
  • ウェハレベルのバッチ処理に対応した、業界で実績のあるプラットフォーム
  • 200種類の代表的な構造を一晩で造形可能
  • 一般的なものから特殊用途向けまでの多彩なプリンティング材料
  • オーダーメイドや他社製材料にも対応可能なオープンシステム
 
プリンティングプロセスとスケール範囲
  • 2PPベースの3Dプリント
  • 驚異的なスピードで正確に表面パターニング可能な2光子グレイスケール・リソグラフィ(2GL®)システム
  • ナノスケール・プリンティング ― 空間全方向において最小100 nmまでの形状精度コントロール
  • マイクロスケール・プリンティング ― 代表的寸法50~700 µm
  • メゾスケール・プリンティング ― 最大寸法50mm

Quantum X shapeの性能詳細

  • 主な特長
  • ご用途
  • 仕様
  • ダウンロード
  • ヴォクセル(Voxel)サイズの超高速制御と100nmアドレスグリッドによる高速3D微細加工
  • 高度なガルボ軌道制御による高速スキャンで最高精度を実現
  • 透明、不透明、反射面をナノメートルの精度で検出するインタフェースファインダ
  • 自動補正ルーチンにより、正確なレーザー出力制御と位置決めが可能
  • 幅広い基板と最大6インチのウェハに対応
  • 産業用バッチ処理:200個の代表的なメゾスケール構造を一晩で造形可能
  • タッチスクリーンとリモートコントロールによる高い操作性

最高品質の結果が求められる以下のような分野の研究室やマルチユーザー施設向けの3D微細加工装置です。

  • 生命科学
  • 材料工学
  • マイクロ流路
  • マイクロメカニクス&MEMS
  • 屈折型マイクロオプティクス
  • 回折型マイクロオプティクス
  • 集積フォトニクス

研究・産業界のトップクラスのイノベータが微細加工の可能性を最大限に引き出すために最適化された設計です。

  • ラピッドプロトタイピング
  • バッチ処理/少量生産
  • ウェハスケールの製造
ベンチマークスコア
表面粗さ(Ra) 最小 ≤ 5nm
最小形状サイズ1 最小 100 nm
形状精度  最小 ≤ 200nm
バッチ処理 一晩で代表的な200種類のメゾスケール構造
プリントフィールド径 25mmをレンズ倍率で割った値
最大スキャン速度 6.25m/sをレンズ倍率で割った値2
システムの一般特性
プリント技術

2光子重合(2PP)によるレイヤごとの3Dプリンティング
ヴォクセル(Voxel)チューニング機能付き2光子グレイスケール・リソグラフィ(2GL ®)

基板

顕微鏡スライド(3" x 1" / 76 x 26 mm2
ウェハ 1インチ(25.4 mm)から8インチ(200 mm)まで
ガラス、シリコン、その他の透明および不透明素材

光硬化性樹脂

Nanoscribe製IP光硬化性樹脂(ポリマープリンティング)
Nanoscribe製GP-Silica(ガラスプリンティング)
他社製およびカスタム材料に対応

最大プリントエリア 50 x 50 mm²

達成可能な値は光硬化性樹脂やストラクチャ形状によって異なります。
1 空間全方向において100 nmの形状サイズ制御が可能
2 e.g. for 10x magnification: 625 mm/s

Dr. Michael Thiel(Nanoscribe Chief Science Officer (CSO) 兼共同創業者)

Dr. Michael Thiel(Nanoscribe Chief Science Officer (CSO) 兼共同創業者)
Quantum X shapeは、これまでにないバッチ処理能力をもつ、最速かつ最も正確な高精度3Dプリンティングツールです。

Quantum X shape
あなたのプリントジョブを形にするソフトウェア

Field-proven software for 3D Microfabrication at wafer level.

Nanoscribeのソフトウェアソリューションは、プリンティングの実行が簡単です。プリントジョブの生成、アップロード、プリント、モニタリングを、デバイスのタッチスクリーンから直接、またはPCからのリモート操作で行うことができます。

DeScribeXで3Dプリントジョブを生成:
この3Dプリントジョブ開発ソフトウェアは、実績のある2PPソフトウェア DeScribeをベースにしており、3D CADモデルのインポートからプリントジョブのアップロードまで、わずか数ステップで行うことができます。

GrayScribeXによる2.5Dプリントジョブの作成:
プリントジョブ開発ソフトウェアは、個々のプロジェクトの作成から、Quantum Xシステム独自の.nanoファイルとしてアップロードするまで、わずか数ステップで行えます。

タッチスクリーンでプリントジョブを開始:
Quantum X shapeの直感的なタッチスクリーンメニューで、簡単にプリンティングを完遂できます。また、ハードウェア情報、システムステータス、プリンティングの進行状況などの重要なデータも確認できます。さらに、3台のカメラによるプリンティングプロセスのライブビューにより、いつでも視覚的に制御できます。

nanoConnectXでリモート接続:
リモートアクセスソフトウェアnanoConnectXを使用して、オフィスからプリントジョブを開始およびモニタできます。これにより生産環境やマルチユーザー使用にも好適です。

ソフトウェアについて

  • DeScribeX
  • GrayScribeX
  • タッチスクリーン
  • nanoConnectX

DeScribeXは、QuantumX shapeの3Dプリントジョブを個々に作成するための、プリントジョブ開発ソフトウェアです。内蔵のインポートウィザードにより、広く使用されている3D CAD形式で3D STLファイルをロードできます。プレインストールされたソフトウェア・プリントパラメータプリセットにより、ほんの数ステップでプリントを開始できます。エクスポート機能で、QuantumX shapeへプリントジョブをリモートで簡単に転送できます。

主な機能 特長
3D CADモデル・インポートウィザード 直感的なワークフローで、標準STLファイルから最適なプリントジョブファイルを生成
プリントパラメータプリセット 設置後すぐに最適なプリンティングを実行できるプリセットパラメータ
アダプティブスライシング 表面形状の精密化&形状精度の向上を実現
パラメータスイープ 新しい材料や用途にもプリンティングパラメータを簡単に最適化
統合開発環境(IDE) 熟練者ならプリントファイル(GWL)を生成・修正して高度なプリンティングタスクのカスタマイズが可能
3Dプレビュー&プリンティングシミュレーション 見たままに成形!DeScribeX がプリント時間、スキャン速度、レーザー出力などのパラメータを表示し、プリンティングプロセス全体を詳細にシミュレートします
.nanoファイル データ交換や単一ファイルでの正常なプリンティングに必要なすべての情報を含む、便利なファイル形式コンテナ

GrayScribeXは、QuantumXシステムで個々の2Dおよび2.5Dプリンティングジョブを作成するため、特別に開発されたソフトウェアです。標準のグレースケール画像または、CADモデルをインポートして自動的にグレースケール画像に変換できます。洗練されたソフトウェアルーチンが、インポートしたデザインのグレー値を成形オブジェクトの高さに変換し、プリンティングパラメータを正確に補正・設定します。

主な機能 特長
グレースケール画像およびCADファイルをインポート 標準画像ファイル .bmp, .png およびCADファイル .stl使用
プリンティングジョブのリモート・アップロード QuantumX shapeをオフィスからリモートで接続・作業可能
プリンティングジョブへストラクチャを追加・削除・複製 複数のストラクチャのプリンティングジョブを1つのファイルで作成
ストラクチャのリスケーリング&配列生成が可能 アプリケーションに応じて個々の要件を満たすようにストラクチャを変更
フィールド実証済みのプリティング・パラメータプリセット すぐに使用できるプリセットパラメータで、グレースケールデザインを簡単にプリンティング
内部補正ファイル グレー値を対応する描画パラメータへ簡単に変換
.nano ファイル データ交換や単一ファイルでの正常なプリンティングに必要なすべての情報を含む、便利なファイル形式コンテナ

Quantum X shapeシステムの制御およびモニタは、タッチパネル式フロントパネルとグラフィカルユーザーインターフェイス(GUI)で行います。これらにより、プリントプロジェクトを選択し、材料をセットするだけのわずか数ステップで、プリンティングを実行できます。

主な機能 特長
3台のライブカメラ 3つの視点からプリティングプロセスをオンラインでモニター、プリントジョブのステータスは常に最新にアップデート
XYZ軸ステージコントロール ステージを材料の任意の位置に移動し、プリント領域を定義
ユーザフレンドリーなプリントセットアップ 樹脂と基板を選択し、ワンクリックでプリントジョブを開始
プロジェクトリスト プリントジョブの全履歴を追跡
自動インタフェースファインダ サブミクロン精度で基板の境界面を特定

nanoConnectXは、QuantumX shapeシステムためのリモートアクセス・ソフトウェアです。 タッチスクリーンの全ての機能と表示方法を、オンライン接続しているPC上で利用できます。

主な機能 特長
システムへのリモートアクセス どこからでもQuantum X shapeへPC接続可能
タッチスクリーンの全機能を利用可能 どこからでもプリントジョブを作成・制御・モニタ可能
プリントジョブとレポートのアップロード&ダウンロード プリンティング関連ファイルへPCから直接アクセス可能

Look how
精度、生産高、ユーザビリティについてのFAQ

Quantum X shapeがウェハレベルのバッチ生産に非常に適しているのはどうしてですか?

Quantum X shapeは、産業界で実績のあるプラットフォームQuantum Xと同じシリーズで、ウェハスケールの微細加工を進化させます。最大6インチまでのシリカ基板やシリコンウェハを処理できます。標準的なウェハおよび他の基板タイプのプロセスは、後工程や既存の産業プロセスラインに統合する際に非常に重要です。

多くの2PPシステムと対照的に、Quantum X shapeは立位で造形します。独自のフォトレジストディスペンサと組み合わせることで、プリンティングプロセス全体を通して、また大面積でも、プリンティング材料を正確に投与できます。

その結果、50 x 50 mm²のプリンティングエリアに、最大200種類の一般的な構造を一晩で造形することができます。

グローブを装着した手で持つ、ナノ3D造形されたマイクロメカニカルパーツを含むウェハ

高度なガルボミラーシステムで、精度はどの程度向上しますか?

2PPハードウェアのセットアップの説明図

高精細3D造形についての詳細は、2光子重合を利用した積層造形に関するホワイトペーパーをご覧ください。ログインまたは無料登録してください。

Quantum X Shapeのガルボシステムは、動作範囲が最適化されており、物理的限界に近い1,750μmまで造形フィールドを拡大しています。メソスケールのオブジェクトを、最速でスティッチング無く造形するには、このように最適化および校正された造形フィールドが極めて重要です。さらにスマートシステムアルゴリズムが、鋭いコーナーやエッジでガルボミラーを加速・減速することでガルボシステムを制御します。同時にレーザー出力をスキャン速度に合わせて調整し、プリンティングプロセス中の各ボリュームについて露光量を一定に保ちます。これは最適なプリンティング速度と最高の精度を実現する唯一の方法です。簡単な例で補足説明すると、ガルバノメータコントロールユニットはレーシングカーのようなもので、カーブの多いレーストラックでは理想的な軌道で加速・減速し、直線では最高速度で走行します。

Quantum X shapeは他の微細加工技術と比較してどの程度優れていますか?

当社のホワイトペーパーでは、さまざまな高精細3D造形技術の性能についてより深い洞察を提供します。このホワイトペーパーは、当社ウェブサイトのプレミアムセクションでご覧いただけます。ログインまたは無料登録してください。

プリンティング速度とは、1秒間に造形されるヴォクセル(Voxel)数であり、デジタル情報がどのように硬化材へと変換されるかを示します。Quantum X shapeは、毎秒100万ヴォクセルと極めて高速です。これによりQuantum X shapeは、このクラスで2番目に優れたシステムであるPhotonic Professional GT2の4倍の速度を実現しています。
下に示すプロットは、二光子重合(2PP)と一般的なアディティブ・マニュファクチャリング技術を、造形速度と形状サイズの観点から比較したものです。2PPの絶対体積プリンティング速度で測ると、その順次処理過程は他の技術よりも速度が劣って見えます。ただしこの技術は、高解像度のヴォクセルサイズに比べて、高いヴォクセル造形速度を特徴としています。

ヴォクセルサイズの説明図

精度や形状の正確さを犠牲にすることなく、様々なスケールでストラクチャを造形するにはどうすれば良いですか?

Quantum X shapeは、ナノ/マイクロ/メソスケールでのラピッドプロトタイピングやウェハスケールの3D造形向けに設計されています。対物レンズ、適切な樹脂、良好に調整されたプリンティングパラメータプリセットで構成される最良のプリンティングセットによって、幅広いさまざまなスケールを確実にカバーすることができます。ソフトウェアベースのプリンティングパラメータプリセットには、スライスやハッチング、レーザー出力やガルボの設定が含まれており、最適なスタートポイントとなります。プリンティングセットとして以下の3つをご用意しています。

  • •    スモール・フィーチャ・プリント・セット:63倍率の対物レンズを搭載し、サブミクロンの形状サイズで最高の精度を実現するよう設計されています。
  • •    ミディアム・フィーチャ・プリント・セット:マイクロスケール部品を高速で製造するために特別に調整されています。サイズ数百μm、表面粗さ(Ra)5nm以下のマイクロレンズのような、典型的な構造が可能になります。
  • •    ラージ・フィーチャ・プリント・セット:高精度3Dプリンティングの利点を、マイクロメートル単位の精度を持つメソスケール構造にまで拡大します。

独自のディップイン・レーザーリソグラフィ(DiLL)の特長はなんですか?

ディップイン・レーザーリソグラフィ(DiLL)は、Quantum X shapeの標準的なプリンティング構成です。Nanoscribeは、市場で最高の精度と最小の収差による3D微細造形のためにこの技術を開発しました。この構成では、対物レンズは光学的な液浸媒体としても機能するフォトレジストに浸漬されます。集光光学系とプリンティング材料の屈折率を整合し、最高の解像度と理想的な無収差の集光を兼ね備えた2PPベース3D造形を実現しています。また書き込みレーザーは、基板を通して集光するのではなく(例:油浸構成)、基板上に直接オブジェクトを描画します。その結果、3D造形の対象物の高さが集光光学系の作動距離で制限されません。これはマクロスケールのオブジェクトをプリンティングする際に特に非常に有益です。

どのような種類の基板に対応していますか?

Quantum X shapeの高度なインターフェース・ファインダは、基板表面の反射と蛍光を検出する2つの補完的なモードを備えています。ディップイン・レーザーリソグラフィ(DiLL)と組み合わせることで、反射性基板(シリコンウェハなど)、透明/不透明基板(ガラス基板、ポリマー基板など)を幅広く使用できます。さらにDiLL構成では、顕微鏡スライドや1インチから6インチまでのウェハフォーマットなどの標準的な基板にプリンティングできます。Nanoscribeの基板ホルダーは、プリンティングプロセス中、基板の継続的に大きくなる範囲を正確に固定します。

グローブを装着した手で持つ、Quantum X shapeにより3Dプリントされた微細構造を含むウェハ

デバイスが最適な動作をするために必要な設置条件はなんですか?

Quantum X shapeは、サブミクロンの形状サイズ、5nm以下の表面粗さプロファイル、ナノスケール精度を備えたオブジェクトの、高速3D微細造形に理想的なツールです。システム本体と設置場所に関していくつかの事前の措置を講じることで、3D造形における最高の精度を発揮します。Quantum X shapeは、温度と湿度が安定した室内に定置してください。振動や温度変化による影響の低減のため、装置には重い御影石の台座が付属していますが、それでもなお外部振動を最小限に抑える場所に設置することが大切です。装置の外で紫外線に弱いフォトレジストを扱う際は、室内にイエローライトを装備し、プリント現像プロセスで有機溶剤を適切に扱うための化学実験室の基本要件を満たすことを推奨します。

Quantum X shapeの作業環境がどのようなものかご覧になりたい方は、お問い合わせの上、Nanoscribeの微細加工エクスペリエンスセンターにお越しいただくか、オンラインツアーをご予約ください。

Quantum X shapeを実稼働環境やマルチユーザー施設に統合するのがとても容易なのはなぜですか?

高度なオートフォーカスシステムが、あらゆる基板のインタフェースを確実に検出し、最高の精度と再現性のある造形結果をもたらします。また3台のライブビューカメラにより、容易にプロセスを制御・監視できます。自動ディスペンサは、基板上に適量のフォトレジストを塗布するための作業負荷を軽減し、遠隔操作を可能にします。ハードウェア構成の切り替えを簡素化するため、Quantum X shapeはプリントヘッドと基板ホルダーを自動的に検出します。またQuantum X shapeのソフトウェアは、プリンティングジョブをリアルタイムに制御・監視し、インタラクティブ・タッチスクリーンのコントロールパネルから、またはリモートアクセスソフトウェアnanoConnectXを介したオフィスからの遠隔制御において、直感的な操作をサポートします。このリモートアクセスは、研究グループや部署のメンバーなどで1台または複数台のQuantum X shapeシステムを使用し、各々のコンピュータからにアクセスできるため、ユーザーグループ全体の作業を簡素化します。

デスクに着席しながらQuantum X shapeソフトウェアを操作する男性

3D微細造形の可能性を拡げるためにプリンティング材料が非常に重要なのはなぜですか?

IPフォトレジストやGP-Silica、そして未来のアプリケーションの可能性に関する詳細はこちらをご覧ください。

Quantum X shapeは、プリンティング材料に関してオープンなシステムであるため、カスタムまたはサードパーティの材料も適切に使用できます。ただしNanoscribeでは、二光子重合法による3Dプリンティングのために特別に設計された液体のネガ型光硬化性樹脂をラインナップしています。これらはアプリケーションに特化してすぐに使用でき、サブマイクロメートルの解像度に加えて、優れた形状精度と安定性を提供します。ポリマーベースのIPフォトレジストは、サブミクロン構造、複雑な3Dアーキテクチャ、光学品質の表面、ソフトで弾性のある要素、高速メソスケール製造、生体適合性マイクロパーツなどの要求の高いアプリケーションを可能にします。GP-Silicaは、革新的なガラス微細構造の直接3D造形のために開発された無機溶融シリカナノコンポジットで、独自のGlass Printing Explorer Setの構成品の一つです。

Quantum X shape
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