Nanoscribeの新生Quantum X システムは、産業分野での生産プロセスにおけるプロトタイプやマスタの微細造形向けに設計されています。このマスクレス・リソグラフィシステムは、自由形状でのマイクロオプティクス、マイクロレンズアレイ、マルチレベル回折オプティクスの製造を再定義する画期的な製品です。
この世界初2光子グレイスケール・リソグラフィ（2GL®）システムは、グレイスケール・リソグラフィの並外れた性能に、Nanoscribeの先駆的な2光子重合技術による高い精度と柔軟性を兼ね備えています。
Quantum X は、高速、完璧な設計自由度に加え、高い形状精度と非常に滑らかな表面品質が求められる複雑な構造の積層造形に必要な高い精密度を提供します。高速かつ正確な積層造形プロセスにより、設計反復サイクルの大幅な短縮と、費用対効果の高い微細造形を実現できます。
Nanoscribe Quantum Xは独自機能が評価され、Innovation Award at LASER World of Photonics 2019を受賞しました。
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2光子グレイスケール・リソグラフィ
この画期的な技術は、積層微細造形と超高速ヴォクセル（Voxel）サイズ調整機能を組み合わせています。2光子グレイスケール・リソグラフィ (2GL) は、速度や精度を損なうことなく超高速で正確な自由形状造形を可能にします。
Quantum X は高速での同期レーザーパワー変調を利用して、ヴォクセル（Voxel）サイズを1スキャン面に沿って制御します。この方法では、1つのスキャンフィールド内で複雑な形状および様々な形状高さを形成できます。リソグラフィステップの追加やマスク製造せずに、最大6インチのウェハ基板上に、正確な不連続ステップおよび本質的に連続なトポグラフィを形成できます。
プリントジョブの作成は、Quantum X ウィザードがガイドします。搭載ソフトウェアがグレイスケールイメージを最高32ビット解像度で取り込み、2GL技術により直接描画します。これにより形成される2D および 2.5Dの回折・屈折マイクロオプティクスは、滑らかな表面と高い形状精度を有します。
Quantum X の性能詳細
以下のような産業用途向けに設計されています。
- 屈折型マイクロオプティクス：レンズ単体およびアレイ
- 多段形状回折光学素子：不連続または準連続で最大256レベル
- 2.5Dマイクロオプティクスのラピッドプロトタイピング
- 複製加工用のパターニング・ポリマ・マスタによる迅速なツーリング
- 少量生産
- ウェハスケール製造
| 造形技術 | 2光子グレイスケール・リソグラフィ (2GL) |
| 最小XY形状寸法 | 160 nm （代表値）; 200 nm （仕様値 ）* |
| 最高XY解像度 | 400 nm （代表値）; 500 nm （仕様値 ）* |
| 最小垂直ステップ | 10 nm , 準連続トポグラフィ可能 * |
| 最小表面粗さ, Ra | ≤ 10 nm * |
| スキャン速度 | from 100 to 625 mm/s * |
| エリアプリンティング速度 | 3 mm²/h（回折光学素子での代表値）* |
* 使用する対物レンズや光学樹脂により異なります。
- 高速 2.5D 微細造形
- 非常に滑らかな表面、並外れた形状精度
- サブミクロン分解能の高い設計自由度
- ヴォクセル（Voxel）サイズを完全＆超高速制御
- 自動処理：較正、ジョブ実行、モニタリング等
- 基板と樹脂の多彩な組み合わせに対応
- ジョブキーによる種々のプリントジョブの連続実行
- インタフェース：タッチパネルおよびリモコン
Dr. Michael Thiel談（Nanoscribe 最高科学責任者（CSO）兼共同創業者）
今日のマスクレス・リソグラフィ・デバイスは、ベールの法則で強く制限されています。Quantum X は2光子グレイスケール・リソグラフィによって、これらの制限を克服し、前例のない設計自由度と使い易さを提供します。当社のお客様は最先端の微細造形を実現しています。
高効率な微細造形
マスクレス・リソグラフィはいまや、ユーザーにとって柔軟で簡単な技術になりました。パワフルなリソグラフィプロセス、オーダーメイド材料、最先端のソフトウェア・アーキテクチャにより、Quantum X は非常に効率的な微細造形装置となっています。当社のマスクレス・リソグラフィは、様々な基板に対応でき、Nanoscribe製のフォトレジストと併用した場合には、スピンコーティングや露光前後のベーク、高価なマスク製造が不要です。
Quantum X ソフトウェアにより、プリントジョブのリアルタイムな較正、制御、モニタを完全に自動化できます。この制御システムにより、レーザーパワー変調と露光の位置決めを数ナノ秒以内で正確に同期し、1つのスキャンフィールドにおいて完全なヴォクセル(voxel)サイズ制御が可能です。装置上のタッチパネルを含むグラフィカルまたはリモートのユーザインタフェースが、高度なユーザマシン・インタラクションをサポートします。ユーザは、ジョブステータスの確認、プロセスコントロールの調整、造形の可視化をリアルタイムに実行できます。
最適化されたフォトレジスト材料
Quantum Xでは、2光子重合(2PP)での光造形用に開発されたフォトレジスト材料を使用します。使用するレジスト材料を入れたシステムディスペンサからは、光造形中に基板へ必要な量が自動的に堆積されます。Nanoscribeのプリンティング材料は、2光子グレイスケール・リソグラフィ(2GL)の高速プロセスに最適化されており、Quantum Xでの使用が非常に効果的です。以下のような特徴があります:
- 2.5D微細造形のための高速2GL
- 簡単な取扱い＆加工
- スピンコート、露光前後ベーク不要、
- 光学表面品質、高い形状精度
- 高アスペクト比および高さのある構造体など
物理的な極限まで制作可能
Quantum X.
Redefining microfabrication.
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ご希望に応じたカスタマイズに対応いたします。
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