2024/03/11
具备3D设计自由度的高级微纳光学
微米级增材制造能够突破传统微纳光学设计的极限，借助双光子聚合技术的优秀性能，可以轻松实现球形，非球形，自由曲面或复杂3D微纳光学元件制作，并具备出色的光学质量表面和形状精度。
进阶增材制造微纳光学
Nanoscribe的高精度3D双光子无掩模光刻系统可以实现几乎任何三维结构的打印制作，并同时具备光学质量表面。这有效规避了机械工具所施加的限制以及减材制造常见的几何或工艺设计局限。可以实现打印单个微透镜，自由曲面光学器件和复合透镜系统等，无需对单个组件进行打印后在组装起来。
Nanoscribe的Photonic Professional GT2提供世界上最高分辨率的3D无掩模光刻技术，用于快速，超高精度的微纳加工，可以轻松3D微纳光学制作。可以搭配不同的基板，包括玻璃，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以实现芯片和光纤上直接打印。
Nanoscribe公司的的IP系列光刻胶配合使用并制作高级微纳光学器件。IP-S光敏树脂非常适合打印具有高形状精度，光学质量表面的微纳结构，例如，用IP-S可以满足打印优于1 µm形状精度和小于10 nm Ra 表面粗糙度微透镜阵列。此外，新型IP-n162光敏树脂具有高折射率（1.62）和高阿贝数（25）的特点，其光学性能可与常规用于注塑成型的光学聚合物（例如聚碳酸酯和聚酯等）相媲美。这种材料可以用于微纳光学原型制作，从而避免了耗时昂贵的金刚石研磨注模迭代。
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