Quantum X shape是业界认可的Quantum X平台的一部分，推进了晶圆级微加工领域的发展。该系统可以加工石英基材和6英寸以下的硅晶圆。加工标准晶圆和不同的基材类型对于后续处理步骤和整合到现有的工业加工产线中具有重要意义。

与大多数双光子打印系统不同的是，Quantum X shape是一台直立式加工的系统。其专有的光刻胶喷头，保证了在整个打印过程特别是在大幅面打印时光刻胶材料的精准供应。

因此，在一个50 x 50 mm²的完全可寻址的打印范围上，一夜之间可以打印多达200个标准结构。

Quantum X shape的振镜系统优化了其有效扫描范围，并将打印区域扩大到1750微米，接近于其物理极限。这种经过优化和校准的打印区域对于在最高速度下的介观尺寸物体的无拼接打印至关重要。此外，智能系统算法通过在尖角和边缘对振镜的加减速来控制振镜系统扫描位置的精确性。同时，激光功率根据扫描速度自动调节，从而确保了在打印过程中每个单位体积的曝光剂量保持恒定。这是最终实现最佳打印速度和最大精度的唯一途径。用一个简单的例子来补充说明：振镜控制单元就像一辆赛车，在弯曲的赛道上以理想的轨迹加速和刹车，在直线通道上以最高速度行驶。

Quantum X shape 专为纳米、微米和中尺度的快速原型制作和晶圆级 3D 打印而设计。由物镜、合适的树脂和经过精心调整的打印参数预设组成的不同、匹配良好的打印套件确保覆盖如此广泛的不同尺度范围。基于软件的打印参数预设包括切片和影线、激光功率和振镜设置，因此是最佳起点。有四种不同的打印套件可用：

• Small Features Print Set，SF 打印套件具有 63 倍物镜，专为亚微米特征尺寸的最高精度而设计。
• Medium Features Print Set，MF打印套件专为微尺度零件的高速制造量身定制。典型的结构，例如尺寸为几百微米且表面粗糙度 （Ra） 小于 5 纳米的微透镜成为可能。
• Large Features Print Set，LF打印套件将高分辨率 3D 打印的优势扩展到中尺度结构，精度在微米范围内。
• The Extra Large Features Print Set，XLF打印套件将高分辨率 3D 打印范围从纳米和微米级结构扩展到毫米和厘米大小的物体。

浸入式激光光刻技术（DiLL）是 Quantum X shape的标准打印配置。Nanoscribe发明了这种技术，用于市场上精度最高、像差最小的3D微细加工。在这种配置中，物镜被浸润在液态光刻胶中，液态光刻胶同时充当了光传输媒介的角色。聚焦光学元件和打印材料之间的折射率匹配保证了理想的、无像差的聚焦，以及基于双光子聚合的3D打印的最高分辨率。此外，激光并不透过基材进行聚焦（如油浸式打印配置），而是直接将三维器件打印在基材表面上。因此，聚焦光学器件的工作距离不会限制3D打印物体的高度，这对打印宏观物体特别有利。

Quantum X shape的先进界面找寻系统包括两种互补模式，即基底表面的反射光检测和荧光检测。结合浸入式激光光刻（DiLL）配置，可以使用各种反射（如硅片）、透明和不透明的基材（如玻璃和聚合物基材）。此外，DiLL配置能够在标准的基材上打印，如显微镜载玻片和1英寸到6英寸的各种尺寸的晶片。Nanoscribe的多种样品架保证了不断增多的基材种类在打印过程中的精准固定。

如果你想了解Quantum X Shape的工作环境的具体情况，请联系我们，参观我们Nanoscribe的微细加工体验中心，或者预约在线参观。

Quantum X shape是高速3D微纳加工的理想工具，其特征尺寸为亚微米，表面粗糙度可达5纳米以下，并具有纳米级的加工精度。只有通过对系统本身和安装地点采取一些配套措施，才能最大限度地发挥我们设备的最佳性能。Quantum X shape应该固定安装在室内温度和湿度稳定的房间里。Quantum X shape配有厚重的花岗岩底座，以减少环境的振动和温度的波动对其的影响。尽管如此，我们还是要求客户把高精度打印机安装在一个外部振动极小的环境中。因为Quantum X shape的光刻胶对紫外光敏感，我们建议实验室为黄光环境，并满足化学实验室的基本要求，以正确处理打印显影过程中的有机溶剂。

先进的自动对焦系统能可靠地找到任何基材的界面，具有最大的准确性和可重复性。三个实时摄像头有助于过程控制和监测。一个自动喷胶系统可以将准确剂量的光刻胶涂抹在基材上，减少了工作量并实现了远程操作的可能性。为了简化硬件配置之间的切换操作，Quantum X shape会自动检测喷头和样品支架。Quantum X shape 软件实时控制和监控打印作业，并支持通过交互式触摸屏控制面板进行直观操作，或通过远程访问软件nanoConnectX从办公室进行远程操作。这种远程访问也简化了整个用户组的工作，例如，研究小组或部门的成员，每个人都可以从不同的终端访问Quantum X shape。

了解更多关于我们的IP光敏树脂或GP-Silica及其在未来应用的潜力。

在打印材料方面，Quantum X shape是一个开放的系统，因此同样适用于使用定制或第三方材料。然而，Nanoscribe提供了一个液体负胶的产品系列，专门为基于双光子聚合的3D打印而设计。这些特定应用和即用型可打印材料提供了亚微米级的分辨率，以及出色的形状精度和稳定性。有了基于聚合物的IP光敏树脂，诸如亚微米结构、复杂的三维结构、光学质量的表面、软性和弹性元件、高速介观尺寸制造或生物兼容的微部件等高要求的应用成为可能。GP-Silica是一种无机熔融石英纳米复合材料，是独特的玻璃打印Explorer set的一部分，是为创新的直接3D打印玻璃微结构而制造的。

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打印速度的度量是指每秒打印的体素速率，是数字信息如何转换为固化材料的指标。2PP双光子聚合Quantum X shape 打印系统具有每秒 100 万体素的极高速度。
此处显示的图表在打印速率和特征尺寸方面将双光子聚合 （2PP） 与常见的增材制造技术进行了比较。以2PP的绝对体积打印率来衡量，串行过程似乎落后于其他技术的速度。但是，与它解决的最精细的体素大小相比，该技术具有较高的体素打印率。