2025/03/05
创新折射微纳光学
高精度的增材制造可打印出尖端的折射微纳光学元件。得益于双光子灰度光刻技术所具有的设计自由度和光学质量的特点，您可以进行几乎任何形状，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的创新设计。
增材制造应用于高精度微纳光学制造
单个微纳光学元件，具备高达100%高填充系数的阵列和几乎任意形状，包括球形，非球形甚至是自由曲面光学元件等，都可以通过Nanoscribe公司的快速无掩模工艺直接打印制作，并同时可以达到光学质量表面的要求。
Nanoscribe的全新Quantum X无掩模光刻系统适用于2.5D折射微纳光学元件制作，可以实现几乎任何形状的创新设计，并具备出色的形状精度。得益于Nanoscribe的双光子灰度光刻技术（2GL®），可以根据透镜轮廓调节激光功率，从而单层打印微纳光学器件，更大的透镜制作也可以通过多层打印实现。这种方法大大缩短了打印时间。
2GL应用于尖端微纳光学制作
折射微光学领域应用
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