225双面非球面透镜 225双面非球面透镜

新一代微纳加工技术

探索微纳加工高效高产的秘密

Quantum X 平台系统
让您的效率提升100倍

最大化您的生产力
利用专利技术和行业标准化解决方案

高精度的3D打印不再是一个缓慢的过程,快速原型制作可大大缩短设计迭代周期。使用高性能技术和晶圆级批量加工直接打印2.5D和3D结构,可实现具有亚微米特征零件的小规模和大规模生产。最重要的是,使用Nanoscribe系列打印系统让您无需在打印质量上妥协。

科研微纳加工

  • 行业验证的直立式平台,用于晶圆级批量处理和浸入式激光光刻(DiLL)
  • 一夜之间可打印200个典型的中微尺度结构
  • 使用XLF打印套件一次性打印高达30立方厘米的体积
  • 2GL®灰度光刻技术,用于快速精确的表面图案化

工业母版制造

  • 具有高速单体素调谐的双光子灰度光刻技术(2GL®)进行原型设计和母版制造
  • 生产效率提升100倍
  • 行业验证的直立式平台,用于晶圆级批量处理
  • 2GL®拼接技术实现倾斜补偿,平滑表面和无缝结构

工业制造

  • 2GL®双光子灰度光刻3D打印提供无与伦比的高速打印和高质量打印效果
  • 生产效率提升60倍
  • A2PL®对准双光子光刻技术用于光纤和光子芯片纳米级精度对准
  • 3D对准检测精度和特征尺寸控制可达100纳米

Dr. Lucas Meza, Assistant Professor, University of Washington

“在Sandia的CINT测试Quantum X系统令人大开眼界。与Photonic Professional GT相比,单个结构的打印时间从24小时缩短到了13分钟,并且质量也得到了很大提升。”

Portrait of Dr. Lucas Meza, Assistant Professor, University of Washington

选择专业的产品
我们提供个性化Quantum X shape定制服务

无论您是制造机械零件,从事3D生物打印,还是在光纤或光子芯片上进行纳米精度级对准3D打印,Nanoscribe的高效产能技术和解决方案可以极大地简化您的纳米微纳加工工作。

Quantum X平台系统图标

Quantum X产品线
了解全新 Quantum X 平台及其以应用为中心的高分辨率生产模型

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见证卓越品质
欢迎向我们发起挑战来证明您项目的可行性,同时见证我们产品技术的卓越性能。 

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疑问解答
欢迎咨询我们的专家团队,深入了解我们尖端微纳加工技术

REM image of 3D printed satellite with astronaut REM image of 3D printed satellite with astronaut

新一代微纳加工技术

见证领先3D打印技术走进生活

Micro Miracles
见证令人惊叹的微纳加工奇迹!

虽然不同于我们以往业务,但这次项目却结合了我们最新最先进的3D微纳打印技术,是一次难得的机会。

三星半导体邀请我们为一则非同寻常的宣传视频打印独特的模型,展示微观世界中越来越重要的最小打印技术奇迹。

起初,他们对这个项目能否可行还有些犹豫。但事实证明我们的确做到了。我们邀请您观看幕后视频,该视频介绍了创作者和视频制作的过程,其中所展示的复杂3D模型均通过快速且简易操作得以实现。

准备好接受惊喜了吗?

The maker of Micro Miracles
想要探究背后的秘密吗?

视频截图

准备好体验具备超快打印速度的高精度3D打印了吗?

从打游戏的青少年到有精密细节的56层摩天大楼,视频中所展示的八个雕塑结构证明了Nanoscribe高精度3D打印技术在科研和工业微系统领域的能力。通过这项技术,任何关于微光学和集成光子学、微流体学、微机械学和微电子机械系统等应用的可想象或功能性的3D设计都可以在纳米和微米尺度的世界中实现。

Quantum X shape前视图 Quantum X shape前视图

想象...

凭借打印速度,精度和易用性的全方位提升进行高质量微纳3D打印

将您的想法变为现实
突破微纳加工的极限

Nanoscribe 正在通过先进的技术和最新的软件突破打印质量、精度、速度和易用性的极限。Quantum X系列是基于双光子聚合技术的全新微纳加工平台,其将以全新功能迎接最具挑战性的微纳加工任务。

最新技术介绍

  • 全新直立式设计,采用Dip-in激光光刻(DiLL)技术,操作便利舒适
  • 晶圆级批量处理高达8英寸晶圆
  • 无与伦比的精度、速度和多功能性。200 个毫米级结构的过夜打印量
  • 四种打印套件,实现从纳米到宏观不同尺度的高精度制作
  • 自动自校准程序,实现最精确的激光功率控制和定位
  • 是多用户设备的理想选择:适用于广泛应用的模块化系统

主要技术特点

  • 双光子灰度光刻2GL®
  • 对准双光子光刻A2PL®,用于微纳芯片和光纤上纳米精度自动对准3D打印
  • 生物打印仓通过HEPA过滤的CO2 /气流控制温度和湿度
  • 多种界面检测方法,显著提高打印精度、质量和衬底灵活性

Prof. Dr. Harald Giessen, University of Stuttgart, Quantum X 客户

我的第一个打印作业非常顺利,结构非常完美。毫不夸张地说,这是我以前从未体验过的。

Prof. Harald Giessen肖像

直观的工作流程和卓越的使用体验感
通过性能增强软件

Quantum X 平台系统在设计时充分考虑了用户的操作便利性和打印流程的简化程度,系统和软件具备直观的工作流程和易用性的特点,使微纳加工过程比以往任何时候都更强大且拥有更卓越的体验感。

对准3D打印

nanoPrintX图标

使用 nanoPrintX 及其基于场景图功能高效构图并自动对准打印目标,以实现 A2PL®

2GL灰度打印

GrayScribeX图标

使用 GrayScribeX 轻松创建您的 2GL 打印项目,并运用体素调节实现光学质量表面结构

完全远程控制

nanoConnectX图标

使用 nanoConnectX 实现完全远程控制打印项目,非常适合多用户和多设备场景。

操控触手可及

我们的同事在 Quantum X 系统上演示使用触控屏

触控屏可轻松实现访问设备信息及任意控制,并且共享作业队列和查看实时摄像机

轻点以对准您的打印项目

打印时 Quantum X 屏幕的截图

通过简单的操作打印与图案表面或特定位置对准的复杂结构5

虚拟导航摄像头

Quantum X软件截图

使用特定衬底或生物打印仓启动自动防撞功能

Quantum X 平台系统
为工业和科研应用做好准备

在现实世界中,微纳加工系统是否能在专业环境中进行高效运行,对于工业和科研标准而言都至关重要。为了确保精度和工艺得可靠性,Quantum X 系统符合所有标准,并提供以下工业级功能:

  • 模块化设计工业外观
  • 晶圆级批量处理
  • 以实现高机械和热稳定性的花岗岩底座及减震功能
  • 自动自校准程序,实现最精确的激光功率控制和定位
  • 自动倾斜补偿和 2GL 拼接,以实现数平方毫米范围内完美无瑕的无缝结构
  • 工业和科研标准衬底尺寸和类型
  • ISO 标准、工厂和现场验收测试
我们的同事在Quantum X 系统上开始打印
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