Nanoscribe Quantum X shape Nanoscribe Quantum X shape

Quantum X shape

この多用途で高解像度の3Dプリンターにより、3D微細加工において比類のない性能を実現します。科学および研究ラボに最適で、MEMSからマイクロメカニクスなど、複数のスケールと用途に対応します。

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複数のスケールと用途に対応する高解像度3Dプリンティング

Quantum X shape を体験してください
最も多用途な高解像度3Dプリンター

Quantum X shape は二光子重合に基づく、構成可能な高精度3Dプリンターです。迅速なプロトタイピングやウェハスケールのバッチ生産において、複雑な2.5Dおよび3D形状をサブミクロン精度で、さまざまなスケールにわたり最適な性能を発揮します。

精度、生産性、操作性を再定義

Quantum X shape は科学および研究用途において卓越した多様性と柔軟性を提供します。ナノメートルスケールの構造からセンチメートルサイズの物体まで、複数の桁にわたり高スループットを実現します。大学、研究開発センター、マルチユーザーラボなど、研究主導の環境に適した設計です。

タッチスクリーンまたは nanoConnectX を介して、さまざまな材料や基板で多光子リソグラフィーシステムを操作できます。産業レベルの精度、信頼性、効率的なウェハバッチ生産を享受してください。マイクロメカニクス、MEMS、材料工学、マイクロオプティクス、ライフサイエンスなど幅広い応用分野で成果を上げることができます。

Nanoscribe Quantum X shape システム

Quantum X shape

ひとつのシステムで、無限の応用を

Quantum X shape の特長と仕様

  • 特徴
  • ベンチマークスコア
  • 一般的なシステムのプロパティ
  • ダウンロード

標準機能

  • 二光子重合に基づく高解像度3Dプリンティングで、入り組んだナノ、マイクロ、メソ、マクロ構造を製作

オプション機能

  • 二光子グレースケールリソグラフィー(2GL®)による高速かつ正確な表面パターニング

  • アライメント二光子リソグラフィー (A2PL®)を使用した、ファイバーコア、チップ表面やエッジ、フィデューシャルに対する高精度のアライメント3Dプリンティング

  • 従来の2PPと比べ最大60倍の速度と優れた品質を実現する3D printing by 2GL®(二光子グレースケールリソグラフィー)

  • 自動ディスペンサーによる効率的なバッチ処理とウェハレベルの微細加工

  • Fiber Printing Setによるファイバーコアへの自動アライメントプリント

  • Chip Printing Setと共焦点検出モジュールによる複雑な基板トポグラフィーの自動3Dマッピング

  • Bioprinting Setにより加熱可能な細胞培養皿によるCO₂、温度、湿度の制御
     

表面粗さ(Ra) 最小5 nm 
フィーチャ・サイズ・コントロール 最小 100 nm (x/y軸)
形状精度(Sa) 最小 ≤ 200 nm 
バッチ処理 一晩で代表的な200種類のメゾスケール構造
ステッチング・フリーの部品直径 最大4,000 µm
最大スキャン速度 6.25 m/sをレンズ倍率で除算

 

これらのピーク値は、プリンティングパラメータ、プリントヘッド、光硬化性樹脂、デザインなど特定の条件下でのみ達成されます。

基板 顕微鏡スライド(3”x1”/76x26 mm²)、1”〜8”(25.4〜200 mm)のウェハ、
最大100x100 mm²の各種平面基板、
各種ガラス底ディッシュ、
ガラス、シリコン、
その他の透明および不透明な材料
光硬化性樹脂 Nanoscribe製IP光硬化性樹脂(ポリマープリンティング)、
Nanoscribe GP-Silica(ガラスプリンティング)、他社製およびカスタム材料に対応

Opti-Cal GmbH 最高技術責任者(CTO) Dr. Julian Hering-Stratemeier

Portrait of Dr. Julian Hering-Stratemeier, Chief Technology Officer of Opti-Cal GmbH
私たちは、高精度なキャリブレーション標準の作製にあたり、Quantum X shape を頼りにしています。 このシステムは、一度セットアップすれば、非常に高速に動作します。 プリントの再現性は高く、仕様どおりの結果が得られ、いまでは欠かせないツールとなっています。

Quantum X
カスタマイズ可能なプラットフォー

Quantum X shape がご用途に最適か確信が持てませんか?
Quantum X プラットフォーム全体を比較して、お客様の要件に最も適した構成オプションを見つけてください。プリンティング技術や、アプリケーションセットからソフトウェアソリューションまでご確認いただけます。

マクロスケールの3Dプリンティング。ナノスケールの精度。

Quantum X shape には4種類のプリントセットがあります。SFプリントセットによるナノスケール精度から、XLFプリントセットによるマクロスケールスループットまで、Quantum X プラットフォームは1つのソリューションでスケールを超えたプリントを可能にします。

XLFプリントセットは、二光子重合3Dプリンティングの能力をマクロスケールに拡張し、ミリメートルからセンチメートルサイズの部品を優れた精度と形状正確度で製作できます。最大30立方センチメートルのプリントボリュームでウェハスケールのバッチ生産が可能です。

倍率5の空気対物レンズを搭載し、XLFプリントセットは最大3,500 µmのプリントフィールド径と18.5 mmの作動距離を実現します。これにより、マイクロ流体デバイス、機械部品、ハウジング、ノズル、コネクタなどの機能部品を迅速かつ柔軟なプロトタイピングまたはバッチ生産を可能にします。

Quantum X shape

あなたのプリントジョブを形にするソフトウェア

ウェハレベルの3D微細加工に実績のあるソフトウェア

3Dデザインから最終的な3D造形したストラクチャまでどのように進めますか?
Nanoscribe のソフトウェアソリューションを使用すれば、簡単に成功したプリントに到達できます。プリントジョブの生成、アップロード、プリント、モニタリングを、デバイスのタッチスクリーンから直接、またはPCからのリモート操作で行うことができます。

DeScribeXまたはnanoPrintXで3Dプリントジョブを生成:ニーズに合わせた2つの強力なソフトウェアをご用意しています。3D CADモデルのインポートからプリントジョブのアップロードまでわずか数ステップで完了し、プリントプレビューやシミュレーション機能も直感的で簡単です。 

nanoPrintX ではカスタマイズしたプリントプロジェクトを作成できます。基板の仮想モデルを作成し、3Dデザインをインポートするか、あらかじめ用意された簡易ジオメトリを使用して構築できます。必要に応じてデザインの各部分にプリントパラメータを割り当てられます。nanoPrintX は3D printing by 2GL®を搭載し、比類のない速度で最高品質を実現します。

GrayScribeX で2.5Dプリントジョブを生成: プリントジョブ開発ソフトウェアは、個々のプロジェクトの作成から、Quantum Xシステム独自の.nanoファイルとしてアップロードするまで、わずか数ステップで行えます。

タッチスクリーンでプリントジョブを開始:  Quantum X alignの直感的なタッチスクリーン・ユーザーインターフェースを使えば、プリント完了まで簡単に操作を進めることができます。ハードウェア情報、システムステータス、進行状況などの重要データも確認できます。さらに、3台のカメラによるライブビューで、プリントプロセスを常に視覚的に制御できます。

nanoConnectXでリモート接続:  nanoConnectXリモートアクセスソフトウェアを使えば、オフィスなど離れた場所からでもプリントジョブを開始したり監視したりすることができます。Quantum X システムは、積層造形の生産環境やマルチユーザーシナリオにも適しています。

ソフトウェアの特長

  • DeScribeX
  • GrayScribeX
  • nanoPrintX
  • nanoConnectX

DeScribeXは、QuantumX shapeの3Dプリントジョブを個々に作成するための、プリントジョブ開発ソフトウェアです。内蔵のインポートウィザードにより、広く使用されている3D CAD形式で3D STLファイルをロードできます。プレインストールされたソフトウェア・プリントパラメータプリセットにより、ほんの数ステップでプリントを開始できます。エクスポート機能で、QuantumX shapeへプリントジョブをリモートで簡単に転送できます。

主な機能

  • 包括的で直感的な3D CADモデル・インポートウィザード
  • 高解像度3Dプリンティングの最適な結果を導く、すぐに使えるプリントパラメータプリセット
  • オブジェクトの傾斜に基づいてスライス距離を動的に調整するアダプティブスライシング
  • 既存のプリントパラメータを調整または新しいプリセットを作成できるパラメータスイープ機能
  • 統合開発環境(IDE)を用いた高度なプリントプロジェクトのプログラミング
  • プリンティングプロセス全体を可視化する3Dプレビューとプリンティングシミュレーション
DeScribeX ソフトウェアのスクリーンショット

GrayScribeX は、Quantum X システムの微細加工用に個々の2Dおよび2.5Dプリンティングジョブを作成するため、特別に開発されたソフトウェアです。標準のグレースケール画像または、CADモデルをインポートして自動的にグレースケール画像に変換できます。洗練されたソフトウェアルーチンが、インポートしたデザインのグレー値を成形オブジェクトの高さに変換し、プリンティングパラメータを正確に補正・設定します。

主な機能

  • 標準画像ファイル(.bmp, .png)やCAD形式(.stl)として設計ファイルをインポート可能
  • Quantum X shape をオフィスからリモートで接続し、直接プリントプロジェクトをアップロード可能
  • 単一レンズからマルチレンズアレイを作成し、個別のニーズに合わせて再スケーリングおよび修正可能
  • すぐに使用できるプリントパラメータプリセットで、任意のグレースケールデザインを簡単にプリンティング
  • 補正ファイルのアップロード等の高度機能により、サブミクロン精度のプリントを実現
GrayScribeX ソフトウェアのスクリーンショット

nanoPrintXは、すべてのQuantum Xシステムでご利用いただけます。複雑な構造の設計を簡単かつ迅速に行うことができ、構造内の特定部分に対する特別なプリント方式も提供します。また、ナノメートル精度で構造と基板をアライメントさせたプリントにも対応しており、最新のプリント技術である3 printing by 2GL®により、比類のない速度で優れた品質を実現します。

nanoPrintXを使用することで、サブミクロンからミリメートルスケールまでの構造を製作することが可能です。使いやすいツリーノード構造により、光ファイバーやフォトニックチップ、その他の事前にパターン化された基板上でのアライメントプリントプロジェクトを、わずかなステップで簡単に設定できます。

主な機能

  • 3Dレンダリングキャンバスにより、構造を他の構造、ファイバーコア、フィデューシャル、チップエッジに対して相対的に配置可能
  • アレイ構成を簡単に作成可能
  • プリンティングに関連する全操作を直感的に整理できるツリーノード構造を採用
  • 最適なプリント結果のための、すぐに使えるパラメータープリセット
  • 3D printing by 2GL®による、比類のない速度と優れた品質を提供
  • パターンマッチングによるフィデューシャル検出機能
  • 基板エッジでの優れた結果が得られるドーズ補正機能
  • ファイバーコア自動検出および光学構造のプリンティングのための、ファイバープリントノード
  • ISO 10110規格に基づくパラメトリックレンズ設計ツール
nanoPrintX ソフトウェアのスクリーンショット

nanoConnectX は Quantum X システム用のリモートアクセスソフトウェアです。タッチスクリーンのすべての機能と表示機能を、オンライン接続されたあらゆるコンピュータで利用できます。

主な機能

  • オフィスから Quantum X にリモートアクセス可能
  • あらゆる場所からプリントジョブを準備、制御、監視可能
  • プリントジョブやレポートをアップロードおよびダウンロード可能
nanoConnectX タッチスクリーンと、リモートアクセス方法を示す画像

3Dレーザーリソグラフィーを体験し、

Quantum X shape の仕組みを学びましょう 

どのくらい小さく、どのくらい大きいサイズのプリントができますか?

Quantum X shape は、ナノスケール・フィーチャからセンチメートルサイズの構造まで幅広いスケールの製作が可能な高解像度3Dプリンターです。高速なプロトタイピングやウェハスケールでの製作に適しており、この幅広い応用範囲に対応するため、4種類の専用プリントセット(ナノ、マイクロ、メソ、マクロ)が用意されています:

  • スモール・フィーチャプリントセット(SF)は、63倍対物レンズを搭載し、サブミクロンのフィーチャ・サイズで最高精度を実現
  • ミディアム・フィーチャプリントセット (MF)は、マイクロスケール部品の高速製作に特化しています。数百マイクロメートルサイズのマイクロレンズや、表面粗さ(Ra)5ナノメートル未満の構造が可能
  • ラージ・フィーチャプリントセット (LF)は、高解像度3Dプリンティングの利点をメソスケール構造に拡張し、マイクロメートル精度で造形可能
  • エクストラ・ラージ・フィーチャプリントセット (XLF)は、ナノ・マイクロスケールからミリメートル・センチメートルサイズの構造物まで対応範囲を拡張可能

Quantum X shape の設置条件は何ですか?

Quantum X shape は、温度と湿度が安定した部屋に設置する必要があります。レーザー直接描画システムは、環境の振動や温度変動の影響を軽減するために高安定プラットフォームを備えています。標準の他社製UV硬化性樹脂やフォトレジストを使用する場合、部屋に黄色光を設置し、プリント開発プロセスで有機溶媒を適切に取り扱うために、化学実験室としての基本要件を満たすことを推奨します。

Quantum X shape の作業環境をご覧になりたい場合は、ぜひNanoscribe のマイクロファブリケーション・エクスペリエンスセンターにお越しいただくか、オンラインツアーをご予約ください。

Quantum X shape はなぜマルチユーザー施設に最適なのですか?

高解像度3Dプリンター Quantum X shape は、多くの基板や材料をサポートし、多様な研究ニーズに対応できるため、マルチユーザー施設に最適です。直感的な設計で、システム初心者でもすぐにプリントを開始できます。優れた技術サポートや、情報をすぐに調べられるオンラインNanoGuideも利用可能で、誰にとってもさらに使いやすくなっています。

Quantum X shape のソフトウェアは、プリントジョブをリアルタイムで制御・監視し、インタラクティブなタッチスクリーンパネルや、リモートアクセスソフトウェア nanoConnectX を介して直感的に操作できます。ユーザーは各々のPCから Quantum X shape にアクセスできます。

椅子に座って Quantum X shape ソフトウェアを操作している男性

Quantum X shape で使用可能な材料は何ですか?

Quantum X shape はプリンティング材料に関してオープンなシステムであり、カスタム材料や他社製材料の使用にも適しています。ただし、Nanoscribe はニ光子重合に基づく3D微細加工専用に設計された液体ネガ型レジン製品ラインを提供しています。これらの用途特化型でそのまま使える材料は、サブミクロンの解像度に加え、優れた形状精度と構造安定性を実現します。マテリアル・ポートフォリオは広範囲の機能ニーズに対応しており、柔らかく高弾性のIP-PDMS、フォトニクス用途向け高屈折率のIP-n162、細胞関連研究に理想的な低自己蛍光の生体適合性レジン IP-Visio などがあります。IP-Sはマイクロおよびメソスケールで滑らかな表面と光学品質の形状忠実性を可能にし、IP-Dip は最も微細なサブミクロン特徴や高アスペクト比構造に最適化されています。

当社の材料は、高解像度3Dプリンティング、3Dバイオファブリケーション、光学製造、マスクレスリソグラフィーといった要求の厳しい用途に対応する、汎用から高度に特化したレジンまで取り揃えています。

IPフォトレジストやGP-Silicaの詳細と、将来の応用可能性についてぜひご覧ください。

Nanoscribe エキスパート Dr. Jochen Zimmert

Quantum X shape

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さらに、オンラインまたはオンサイトでのパーソナライズされた製品デモもご予約いただけます。Quantum X shapeの性能をぜひご体験ください。

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