Der neue
Quantum X shape
Nanoscribe Quantum X shape ist ein hochentwickeltes Laserlithografiesystem optimiert für Rapid Prototyping und Batch Processing im Wafermaßstab. Das System ermöglicht 3D-Mikrofabrikation mit unvergleichlicher Präzision mit der Option zur Nutzung Nanoscribe’s patentierter Technologie der Zwei-Photonen Graustufenlithografie (2GL ®) für die formgetreue Oberflächenstrukturierung.
- Schnelle 2.5D und 3D Mikrofabrikation
- Kontrolle der Merkmalsgrößen bis zu 100 nm
- Industrieerprobte Plattform für die Produktion auf Waferebene
- 200 typische mesoskalige Strukturen übernacht
- Umfangreiches Spektrum an Materialien und Substraten