探索用于Quantum X设备上的IPX光刻胶
新IPX光刻胶是专门为Nanoscribe Quantum X设备所研发的光刻胶。这款已受工业认可的设备可用于高精度的3D打印和由创新的双光子灰度光刻技术实现的2.5D微纳加工。得益于Quantum X设备的打印速度，精度以及其他性能，适用于不同工艺及结构数量要求的新IPX光刻胶应运而生。IPX-S和IPX-Q光刻胶分别利用双光子灰度技术和双光子聚合技术来打印具有微米精度的介观尺寸结构。
IPX-S的关键特性
- 使用GrayScribeX软件的快速双光子灰度2.5D微纳加工工艺
- 专为Quantum X设备所设计
- 使用Large Feature Print Set模组，可打印毫米级别光学器件
- 2.5D结构全设计自由度
- 表面粗糙度低至10nm Ra的光学表面
- 绝佳的形状精度
IPX-Q的关键特性
- 使用DeScribeX软件的快速双光子聚合3D微纳加工工艺
- 专为Quantum X设备所设计
- 使用Large Feature Print Set模组，可打印毫米级别3D器件
- 3D结构全设计自由度
- 高长宽比
- 绝佳的形状精度
想要更多高精度打印材料？
Nanoscribe的IP系列光刻胶是广受认可的可用于双光子聚合的高精度3D微纳加工材料。该产品线展示了用于纳米，微米以及介观尺度结构的全系列负相（甲基）丙烯酸酯类光刻胶。