Quantum X システム用のIPXフォトレジストの詳細はこちら
新しい IPX フォトレジストは、NanoscribeのQuantum X システム用に特別に設計されています。業界で実績の高いこのプラットフォームは、高精細3Dプリンティングと2.5D微細造形のための革新的な2光子グレイスケール・リソグラフィ技術を提供します。新しいIPXフォトレジストシリーズのフォトポリマープリンティング材料は、Quantum Xプラットフォームの造形速度、精度、性能の恩恵を受けて頂くべく、異なるストラクチャ品質とプロセス用に開発されました。IPX-SとIPX-Qは、それぞれ2光子グレイスケール・リソグラフィと2光子重合法を用いてメソスケール構造をミクロン精度で造形するために設計されています。
IPX-Sの主な特長
- GrayScribeXを用いた2GLベースの高速2.5D微細造形
- Quantum Xプラットフォームでの造形用にデザイン
- ラージフィーチャ・プリントセットの使用により、ミリメートルスケールの光学系まで造形可能
- 2.5D ストラクチャのための完全な設計自由度
- 粗さ 10 nm Ra に至る光学グレード表面
- 優れた形状精度
IPX-Qの主な特長
- DeScribeXを用いた2PPベースの高速3D微細造形
- Quantum Xプラットフォームでの造形用にデザイン
- ラージフィーチャ・プリントセットの使用により、ミリメートルサイズの3Dオブジェクトまで造形可能
- 3Dストラクチャのための完全な設計自由度
- 高いアスペクト比
- 優れた形状精度
さらなる高精度なプリンティング材料をお探しですか？
NanoscribeのIPフォトレジストは、2光子重合法（2PP）による高精細3次元微細造形で実績あるプリンティング材料です。ナノ、マイクロ、メゾスケール構造用に設計したネガティブ・トーン、（メタ）アクリレートベースの樹脂を幅広くラインナップしています。