Nanoscribe推出了真正意义上的革新3D微纳加工技术：3D printing by 2GL®。双光子灰度光刻（2GL）为3D纳米和微纳加工树立了全新标杆。该技术将双光子聚合（2PP）的高分辨率与专利体素调整技术相结合，极大减少了打印层数，使得2GL成为目前基于2PP原理的最快速的微尺度3D打印方案。该技术在兼顾卓越形状精度和打印质量的同时实现高速打印，为全新应用领域奠定了基础，可在提高打印质量前提下以更短的打印时间内制造更为精细的微光学系统。3D灰度光刻已然成为Quantum X align打印系统的一个重要功能补充。
基于专利的双光子灰度光刻技术，Nanoscribe公司Quantum X平台可用于光学级别的2D和2.5D微结构增材制造，成为工业制造和微光学制造最佳选择。如今，Nanoscribe通过研发3D printing by 2GL，将体素调整技术引入到三维层面，成为Quantum X align打印系统的对准双光子光刻（A2PL®）功能的重要补充。
整个打印过程在保持高速扫描的同时实现实时动态调整激光功率。这使得聚合体素得到精确尺寸调整，以完美匹配任何3D形状的轮廓。在无需切片步骤，不产生形状失真的要求下，最终您将获得具有无瑕疵光学级表面的任意3D打印设计的真实完美形状。
3D printing by 2GL®是市场上基于2PP原理微纳加工技术中打印速度最快的。其动态体素调整需要相对较少的打印层次，即可实现具有光学级别、光滑以及纳米结构表面打印结果。这意味着在满足苛刻的打印质量要求的同时，其打印速度远远超过任何当前可用的2PP三维打印系统。
2GL®作为市场上最快的增材制造技术，非常适用于3D纳米和微纳加工，在满足卓越打印质量的前提下，其吞吐量相比任何当前双光子光刻系统都高出10到60倍。
3D printing by 2GL可实现最高光学质量、精细亚微米特征以及前所未有的高吞吐量打印，显著推动了微光学制造和光子封装领域发展。Nanoscribe Quantum X align打印系统搭载了这一革新3D微纳加工技术，并配备了先进的对准软件nanoPrintX。
Quantum X align经过优化，可用于打印具有最高放置精度的微光学元件，并实现在光纤和光子芯片上自动对齐。3D printing by 2GL凭借全新的卓越打印质量和高速打印，为推动自由空间微光学耦合（FSMOC）的产业化道路奠定了基础，适用于光子封装和集成的高效稳健光耦合解决方案。
3D printing by 2GL标志着基于2PP原理的3D微纳加工新时代。除了微光学和光子学之外，这项技术还可适用于许多潜在应用，而高速打印、光学质量表面、最精细的亚微米细节或纹理表面则成为了关键因素。一起来见证卓越的打印质量和高达60倍吞吐量的打印体验吧。
*比较是基于相同的打印质量，并且与设计有关
