Nanoscribe
光刻胶
Nanoscribe为客户提供自主研发的IP系列负光刻胶。专用于优化双光子光固化过程，以及优异的高精度增材制造中的细节表达性能：
- 最小特征尺度：160nm （一般情况下）
- 高速的微纳制造
- 各种基板的良好附着力
- 优化的机械稳定性和超高的形状精度
- 简洁的流程，简便的工艺
- 无须匀胶，无须曝光后烘干
Nanoscribe的光刻胶专门优化PPGT2 3D打印机和Quantum X无掩模光刻系统的打印过程。
专用于
双光子聚合技术
由Nanoscribe研发的IP系列光刻胶是用于超高分辨率微纳加工的标准材料。所打印的亚微米级别分辨率器件具有超高形状精度，属于目前市场上易于操作的“负胶”。
选择适合您领域的光刻胶，满足您不同应用的需求，例如亚微米特征，悬空元素，光学质量表面，快速介观尺度制造和生物兼容性。
IP树脂作为高效的打印材料，是Nanoscribe微加工解决方案的基本组成部分之一。我们提供针对优化不同光刻胶和应用领域的高级配套软件，从而简化3D打印工作流程并加快科研和工业领域的设计迭代周期，包括仿生表面，微光学元件，机械超材料和3D细胞支架等。
Nanoscribe
意大利帕多瓦大学Giovanna Brusatin教授
Nanoscribe公司的IP系列光刻胶非常实用。借助IP-Dip，我们可以用IP-S微型喷嘴生产用于复制的模具。我们通过使用Photonic Professional GT打印系统实现了运用其他材料作为水凝胶或硅氧烷。
广泛的打印材料选择
Nanoscribe的微纳加工系统秉承了开放式理念，适用于加工多种不同的材料。市面上大部分现有的紫外波段感光的光刻胶，水凝胶，还有特定纳米颗粒的复合树脂，或客户自主研发的打印材料均可以完美的适用于该系统。
为了满足各应用领域的材料性能需求，一些光刻胶的诸如光学，机械学，电子学和生物学特性等性能经过工程设计，从而更加适合用于光学，光电和生物医学工程等领域。
打印后处理，比如，镀膜处理，原子层沉积，化学气相沉积，或电镀。通过以上的这些手段，本来基于光刻胶的三维微纳米结构可以被加上或者置换为多种其它材料，如陶瓷、金属、玻璃或者其它塑料等材料。
更多材料和工
| 光刻胶 | 特性 | 可能用于应用领域 |
| 新型 IP-PDMS光刻胶 | 2PP打印的具有柔软度，柔韧性和高弹性的结构 | 材料工程，生命科学，细胞和组织工程，微流控，微机电系统（MEMS） |
| 全新 IP-n162 | n=1.62高折射率材料；在红外范围内低吸收率；非常适合2.5D和3D微纳结构的直接打印和原型制造。 | 3D折射微纳光学和自由曲面微纳光学元件集成 |
| IP-Visio | 符合ISO 10993-5/USP87要求，具有生物兼容性，无生物毒素，细胞显微镜下低自发荧光的特点。 | 多细胞支架，组织工程，生物医学设备，生命科学。 |
| IP-Q | 高速加工可达到100立方毫米总打印体积。可用于Dip-in激光光刻技术(DiLL)。 | 生物医学工程，机械零件，高精度手板激光快速成型。 |
| IP-S | 符合ISO 10993-5/USP87要求，具有生物兼容性，无生物毒素的特点。用于加工具备光学质量表面和形状精度的微米和中尺度器件。专为DiLL设计。 | 力学超材料，微光学，集成光电子，微流道，细胞支架。 |
| IP-Dip | 我们的客户在比ISO 10993-5更严格的要求下经过验证，该材料具有生物兼容性和无生物毒素的特点，具备亚微米特征和高纵横比。专为DiLL设计。 | 光学超材料，衍射光学元件，微纳机器人。 |
| IP-G | 复杂的三维设计，例如，悬垂的结构。亚微米的细节尺度和低收缩率收缩。适合应用于oil immersion模式。 | 在仿生学、光子学、微型机器人中具有外悬结构的零件。 |
| IP-L | 我们的客户在比ISO 10993-5更严格的要求下经过验证，该材料具有生物兼容性和无生物毒素的特点，具备亚微米特征和低收缩率。专为油浸配置而设计，与DiLL兼容。 | 表面等离子体光子学、光学超表面和仿生表面。 |
Nanoscribe公司自主研发的IP系列光刻胶仅适用于Nanoscribe光刻系统。我们还可根据客户的需求提供不带光敏剂的IP系列材料：如IP-Dip，IP-S和IP-Q。欢迎联系我们获取更多相关资讯。
| 光刻胶 | 优势 | 可能用于应用领域 |
| 新型 GP-Silica | 具有高机械稳定性、热稳性和化学稳定性特点的熔融石英玻璃结构 3D 微纳加工。 | 微流控、材料工程、生命科学、微机电系统 (MEMS) |
可适用第三方光刻胶
- SU-8 – 环氧基负光刻胶
- AZ ® 系列正光刻胶
- ORMOCER ®有机无机杂化材料光刻胶
客户自制光刻胶
- 水凝胶等可降解的光刻胶
- 复合材料
- 液晶弹性体
探索用于Quantum X设备上的IPX光刻胶
新IPX光刻胶是专门为Nanoscribe Quantum X设备所研发的光刻胶。这款已受工业认可的设备可用于高精度的3D打印和由创新的双光子灰度光刻技术实现的2.5D微纳加工。得益于Quantum X设备的打印速度，精度以及其他性能，适用于不同工艺及结构数量要求的新IPX光刻胶应运而生。IPX-S和IPX-Q光刻胶分别利用双光子灰度技术和双光子聚合技术来打印具有微米精度的介观尺寸结构。
IPX-S的关键特性
- 使用GrayScribeX软件的快速双光子灰度2.5D微纳加工工艺
- 专为Quantum X设备所设计
- 使用Large Feature Print Set模组，可打印毫米级别光学器件
- 2.5D结构全设计自由度
- 表面粗糙度低至10nm Ra的光学表面
- 绝佳的形状精度
IPX-Q的关键特性
- 使用DeScribeX软件的快速双光子聚合3D微纳加工工艺
- 专为Quantum X设备所设计
- 使用Large Feature Print Set模组，可打印毫米级别3D器件
- 3D结构全设计自由度
- 高长宽比
- 绝佳的形状精度
打印材料的精准控制和便捷添加方式
我们的光刻胶更新了避光且可重复启封的包装，您可以采用手动或者自动分配的方式，将光刻胶滴在基板、晶片、芯片或其他微纳器件上即可。这种便携的添加的方式具有精准且无气泡的优势，以及以下特点：
- 高清洁度
- 便于处理和分配
- 高产量点胶