专为双光子聚合设计
IP 系列光刻胶是用于超高分辨率微纳加工的标准材料。这些负胶具有亚微米级别分辨率，超高形状精度，易于操作的特点
选择最适合您应用的光刻胶并感受其带来的各种优势和特点，例如亚微米特征、悬垂部件，光学质量表面、高速中尺度制造、生物相容性或高折射率。
作为高效打印材料，IP 系列光刻胶是 Nanoscribe 微纳加工解决方案的基本配置。我们的打印系统软件提供针对不同光刻胶和应用优化的高级配方。它们使 3D 打印工作流程变得更简单，并加快了例如仿生表面、微光学元件、机械超材料或 3D 细胞支架等领域的科研和工业应用设计迭代周期。
Nanoscribe 2PP光刻胶
我们的光刻胶更新了避光且可重复启封的包装，您可以采用手动或者自动分配的方式，将光刻胶滴在基板、晶片、芯片或其他微纳器件上即可。
我们提供IP系列光刻胶产品线。该系列针对双光子聚合（2PP）进行了优化，并具有高精度增材制造所需的卓越性能：
- 最小特征尺寸 160纳米
- 高速微纳加工
- 对各种基材具有出色的附着力
- 优化的机械稳定性和出色的形状精度
- 操作简单，易于加工
- 无需旋涂或曝光后烘烤
我们的光刻胶经过优化，可与 Nanoscribe Photonic Professional GT2 3D 打印系统、Quantum X 无掩模光刻系统和高性能 3D 打印系统 Quantum X shape 配合使用。
意大利帕多瓦大学Giovanna Brusatin教授
Nanoscribe IP 系列光刻胶应用广泛且高效。使用 IP-Dip光刻胶可生产用于复制的模具，使用 IP-S光刻胶可生产微型喷嘴。针对 Photonic Professional GT系统，我们还可使用其他材料作为水凝胶或硅氧烷。
探索更多打印材料和工艺流程的细节
| 光刻胶 | 特性 | 可能用于应用领域 |
| IP-PDMS光刻胶 | 2PP打印的具有柔软度，柔韧性和高弹性的结构 | 材料工程，生命科学，细胞和组织工程，微流控，微机电系统（MEMS） |
| 全新 IP-n162 | n=1.62高折射率材料；在红外范围内低吸收率；非常适合2.5D和3D微纳结构的直接打印和原型制造。 | 3D折射微纳光学和自由曲面微纳光学元件集成 |
| IP-Visio | 符合ISO 10993-5/USP87要求，具有生物兼容性，无生物毒素，细胞显微镜下低自发荧光的特点。 | 多细胞支架，组织工程，生物医学设备，生命科学。 |
| IP-Q | 高速加工可达到100立方毫米总打印体积。可用于Dip-in激光光刻技术(DiLL)。 | 生物医学工程，机械零件，高精度手板激光快速成型。 |
| IP-S | 符合ISO 10993-5/USP87要求，具有生物兼容性，无生物毒素的特点。用于加工具备光学质量表面和形状精度的微米和中尺度器件。专为DiLL设计。 | 力学超材料，微光学，集成光电子，微流道，细胞支架。 |
| IP-Dip | 我们的客户在比ISO 10993-5更严格的要求下经过验证，该材料具有生物兼容性和无生物毒素的特点，具备亚微米特征和高纵横比。专为DiLL设计。 | 光学超材料，衍射光学元件，微纳机器人。 |
| IP-G | 复杂的三维设计，例如，悬垂的结构。亚微米的细节尺度和低收缩率收缩。适合应用于oil immersion模式。 | 在仿生学、光子学、微型机器人中具有外悬结构的零件。 |
| IP-L | 我们的客户在比ISO 10993-5更严格的要求下经过验证，该材料具有生物兼容性和无生物毒素的特点，具备亚微米特征和低收缩率。专为油浸配置而设计，与DiLL兼容。 | 表面等离子体光子学、光学超表面和仿生表面。 |
Nanoscribe公司自主研发的IP系列光刻胶仅适用于Nanoscribe光刻系统。我们还可根据客户的需求提供不带光敏剂的IP系列材料：如IP-Dip，IP-S和IP-Q。欢迎联系我们获取更多相关资讯。
| Properties | 折射率 1 @589 nm，20 °C | 杨氏模量 1 [GPa] | 降解温度 1 [°C] | 生物相容性 | Classification / Print set |
| IP-Q2 | 1.513 | 3.1 | 242 | n/a | 通用/大尺度 |
| IP-S2 | 1.515 | 2.1 | 300 | 适用 | 通用/中尺度 |
| IP-Dip2 | 1.547 | 1.5 | 371 | 适用 | 通用/微尺度 |
IP-L | 1.519 | 4.7 | 362 | 适用 | 通用/微尺度 |
| IP-G | 1.515 | 3.4 | n/a | n/a | 溶胶凝胶 / 微尺度、中尺度 |
| IP-PDMS | 1.450 | 0.015 | n/a | 适用 | 功能性/中尺度 |
| IP-n162 | 1.622 | n/a | n/a | n/a | 功能性/中尺度 |
| IP-Visio | 1.511 | n/a | 282 | 适用 | 功能性 / 中尺度、大尺度 |
1 在 3D 打印或紫外线固化结构上测量；结果取决于打印条件和几何形状
2 可根据要求提供，不含光引发剂
Print Sets：LF – 大尺度，MF – 中尺度，SF – 微尺度
Nanoscribe 的微纳加工系统兼容性高，适用多种打印材料。甚至可扩展使用到第三方紫外线固化光刻胶、水凝胶或纳米颗粒复合树脂以及定制材料等。
为了满足材料开发人员测试新光刻胶的需求，各种材料和工艺可根据需要调整光学、机械、电气、化学和生物特性，例如在光学、光子学或生物医学工程的应用中。
打印后期处理工艺，例如铸造、原子层沉积 (ALD)、化学气相沉积 (CVD) 或镀锌，允许修改 3D 打印结构并允许包含更多材料，包括陶瓷、金属、玻璃或其他塑料。
第三方光刻胶
- SU-8 – 负性环氧基抗蚀剂
- AZ ® 光刻胶——正性光刻胶
- ORMOCER ® 聚合物——无机-有机杂化聚合物
定制材料
- 水凝胶 - 例如，可降解树脂
- 复合材料
- 液晶弹性体
打印材料的精准控制和便捷添加方式
我们的光刻胶更新了避光且可重复启封的包装，您可以采用手动或者自动分配的方式，将光刻胶滴在基板、晶片、芯片或其他微纳器件上即可。这种便携的添加的方式具有精准且无气泡的优势，以及以下特点：
- 提高清洁度
- 更好的处理和分配
- 高产量分配