ナノ・マイクロスケールの高精細光造形を実現
Photonic Professional GT2
NanoscribeのPhotonic Professional GT2は、2光子重合（2PP）を用いてほぼあらゆる3D細線構造（結晶格子、多孔質スキャホールド、自然物着想の構造体、滑らかな輪郭、シャープエッジ、アンダーカット、ブリッジなど）をプリンティングする3D光造形装置です。
設計の柔軟性、明快な操作性、使用可能な材料や基板の多様性を併せ持ち、マルチユーザー施設や研究室における理科学およびプロトタイピングに理想的な機器です。
Nanoscribeの光造形装置は、30カ国以上で最先端の研究に導入されています。当社の製品の質の高い設計と高い製造能力は、1,400を超える先進的な研究プロジェクトにより実証されています。
Photonic Professional GT2の性能詳細
- ガルボ技術を用いた高速 3D微細造形
- サブマイクロメートル分解能 3D設計自由度
- CADモデルの取込みから成形まで、わかりやすい3Dプリンティング・ワークフロー
- さまざまなスケールと用途に合わせる3D微細造形ソリューションセット
- 多彩な造形材料＆基板
- マイクロ流路
- マイクロメカニクス
- バイオメディカル・エンジニアリング
- マイクロ電気機械システム
- メカニカル・メタマテリアル
- フォトニック・メタマテリアルおよびプラズモニクス
- マイクロオプティクス
- ナノストラクチャ
以下のような研究およびラピッドプロトタイピング向けに設計されています。
| 造形技術 | 積層2光子重合 |
| 最小XY形状寸法 | 160 nm （代表値）; 200 nm （仕様値）* |
| 最高XY解像度 | 400 nm （代表値）; 500 nm （仕様値）* |
| 最小垂直分解能 | 1,000 nm （代表値）; 1,500 nm （仕様値）* |
| レイヤ距離 | variable, 0.1 – 5.0 µm* |
| 最大オブジェクト高さ | 8 mm* |
| 最大造形容量 | 100 × 100 × 8 mm³ * |
| 最小表面粗さ, Ra | ≤ 20 nm* |
| スキャン速度 | from 100 to 625 mm/s* |
* Values may vary depending on the Solution Set, objective or photoresin in use
Photonic Professional GT2の汎用性が拓く可能性
積層造形は、物理的構造体の製造方法を再定義する技術です。マイクロメートルスケールでは、2光子重合により非常に正確な積層造形が可能になり、ほぼすべての3D形状を実現できます。シンプル、複雑または有機的形状や構造でも、この技術に基づく自動化3Dプリンティング・プロセスで制作できます。
動画は3Dプリンティングで製作した物体の一連の顕微鏡画像です。走査型電子顕微鏡（SEM）画像のシーケンスは、さまざまな角度からの最小形状です。これら多様な構造は、Photonic Professionalシステムの高い性能を示すものです。マイクロメートルスケールでの積層造形の可能性は、さまざまな基本形状によって実証されています。
ご自身のデザインの実現性を私達と確認しますか？
Dr. Jiangdong Deng談（ハーバード大学）
Nanoscribeの3D光造形装置は、全く新しい研究領域を拓くものです。独自の3Dデバイスをサブミクロン分解能で、かつ非常に簡単に製作できます。これは本製品の最大のアドバンテージです。
3D微細造形ソリューションセット
3Dプリンティングタスクを開始するにあたって、ハードウェア、ソフトウェア、材料の正しい組合せを見つけるのは、手間と困難さを伴うことがあります。プリンティング・プロセスを合理化するため、当社ではPhotonic Professional GT2 ですぐに光造形を開始できる微細造形ソリューションセットを提供しています。
このセットは、ユーザーフレンドリーな操作性を念頭に、最も困難な微細造形タスクにも対応できるようアセンブリされています。高精度オプティクス、幅広い材料、洗練されたソフトウェアの組み合わせをベースとして、ご指定の用途やスケールに最適化して提供されます。
高い実績をもつこのセットは、メゾスケールパーツの3D造形について、高い解像度のパターン、滑らかな表面、高速3Dプリンティングといったプリンティング性能を向上させるよう開発された、プロセス中心のソリューションです。このセットを利用することで、サブミクロンからミリメートルスケールの寸法で、容易に高精細な積層造形を行えます。
要件に合わせたソリューションセット
Solution Set Large Featuresは、メソスケール構造をマイクロメートル精度で造形でき、新たな可能性を拓くソリューションセットです。セットには、IP-Qフォトレジスト、スキャンフィールドの広い対物レンズ、メソスケール3Dプリンティング用ソフトウェアレシピが含まれます。
- メソスケールパーツを高速3Dプリンティング
- ミリサイズのオブジェクトの造形に最適
- 高精細：レイヤ間距離5μm
- オブジェクト高さ最大8mm
- 高アスペクト比
- スキャンフィールド径1,000μm
Solution Set Medium Features は、マイクロスケールパーツを、光学品質の表面滑らかさで、高速微細造形できるソリューションセットです。セットには、IP-Sフォトレジスト、適合対物レンズ、2つのソフトウェアレシピが含まれます ソフトウェアレシピ。
- 微小パーツを高速プリンティング
- 光学品質の滑らかな表面
- 推奨造形容量 < 50 mm³
- 良好な機械的安定性
- 高アスペクト比構造体
- 優れた形状精度
Solution Set Small Features は、最高精度の3Dプリンティングのために設計されたソリューションセットで、160nmまでの最小水平方向線幅を実現します。セットには、IP-DipおよびIP-L 780フォトレジスト、高NA対物レンズ、ソフトウェアレシピが含まれます。
- 最高精度3Dプリンティング
- 最も微小な構造を造形可能
- 最小3D横方向線幅160nm
- 推奨造形容量 < 0.1 mm³
- 高アスペクト比構造体
- 良好な機械的安定性
Set Maskless Lithography は、2Dレーザー直描用のソリューションセットで、従来の2Dリソグラフィプロセスと同等の最小描画サイズを提供します。セットには、エア対物レンズ、ソフトウェアレシピ、またポジ型AZ®フォトレジストのパターニングのためのプロセスパラメータが含まれます。AZ®レジストは、Nanoscribeでは製造しておりませんが、他のサプライヤよりご購入いただけます。
- AZ®フォトレジスト薄膜/厚膜へのレーザー直接描画
- 分解能：電子ビームとUVリソグラフィの中間程度
- 最小3D横方向線幅 1 µm以下
- 垂直面を持つ高アスペクト比構造体
Stefan Hengsbach氏（カールスルーエ工科大学）
Solution Set Large Featuresは、私たちのNano Micro Facilityにおける微細造形の可能性を飛躍的に向上させます。導入後すぐに、革新的なサイズとディテールをもつ構造物を造形できます。これはまさに、ユーザーが待ち望んでいたものです。
使い易いソフトウェアツール
付属ソフトウェアにより、ほぼ全ての3次元構造を簡単に製作できます。3Dプリンティングワークフローで、CADモデルのインポートから最終的な微小部品の成形まで実行できます。カスタム・ソリューションですので、成形準備から実行まで数分で行えます。
DeScribe STL インポートウィザードは、プリンティングのための3D CADモデルを準備する、実績のあるソフトウェアレシピです。アプリケーションの要件に応じて、レイヤ間隔や成形速度など、最適なプリンティングパラメータを設定します。さらにソリッドおよびシェルプリ＆スキャホールドプリンティングのための機能が利用可能です。またユーザー自身で、独自のレシピやアプリケーション固有のレシピを開発・取得して、いつでも印刷ジョブをカスタマイズできます。
プリンティングパラメータの設定時に、デザインを3Dでプレビューできます。また3Dプリンティング・プロセスのシミュレートも可能です。プリントジョブがコンパイルされると、そのデザインがNanoWrite（プリンタ GUI）にロードされます。NanoWriteは自動的にジョブを実行し、プロセス全体を通して全てのハードウェアとパラメータを制御します。内蔵のライブビューカメラが印刷プロセスの進行状況を表示し、リアルタイムにモニタリングできます。これらの強力な視覚化ツールで、ユーザーにスムーズなワークフロー・エクスペリエンスを提供します。
高品質プリンティング材料
Nanoscribeでは2光子重合用に特別に開発された液体ネガ型樹脂をラインナップしています。
これらはアプリケーションに特化したすぐに使用できるプリンティング材料で、サブミクロンオーダーの分解能と優れた形状精度および高い安定性を提供します。
Photonic Professional GT2
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