革新的なアイデアを現実に
高解像度3Dプリンティングの試作スピード、驚異的な設計自由度、シンプルなワークフローを最大限に活用し、Two-Photon Grayscale Lithography（2GL®）の精度と性能と組み合わせることで、ナノ/マイクロ/ミリメートルスケールのアイデアを実現できます。1パスで最大30立方センチメートルのプリント体積を製造できる8インチウェハまでのウェハスケールバッチ生産が有用です。
お客様のアプリケーションシナリオに適したマイクロファブリケーションシステムの選定をサポートいたします。高解像度3Dプリンティング、高解像度3Dバイオファブリケーション、オプティクス製造、2.5D表面パターニングのアプリケーションについて、まずはこちらのページをご覧ください。
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