2.5Dサーフェスパターニング
向けプリント材料

ウェハスケールのパターニングからマスタテンプレート製造まで、グレースケールリソグラフィには卓越した解像度、安定したハイスループット性能、優れたプロセス制御が求められます。Nanoscribeのフォトレジストは二光子グレースケールリソグラフィ（2GL®）向けに専用設計されており、低体積収縮率、高い二光子感度、非常に滑らかな表面を実現します。

これらの配合は、優れた形状精度、シリコン・ガラスおよびその他基板への強固な接着性、そして高い機械的安定性を確保しています。これにより、直接造形とレプリケーション向けマスタテンプレート製造の両方において、再現性の高い結果が得られます。Nanoscribeのすべてのフォトレジストはナノインプリントリソグラフィ（NIL）およびマイクロ射出成形（μIM）に対応し、優れたレプリカ品質を確保するための信頼性の高い離型特性を備えています。

お客様のワークフローに最適な樹脂をポートフォリオからご選択ください：