Nanoscribe Quantum X litho Nanoscribe Quantum X litho

Quantum X litho

Quantum X litho は、高精度で柔軟、かつ精密なアライメントを実現するグレースケール・リソグラフィにより、ハイ・スループット 2.5D微細加工を可能にします。これにより、迅速なプロトタイピング、高度なパターニング、マスターテンプレート製作、さらにはウェハレベルでの生産を実現します。

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マスクレス ・リソグラフィシステム精密かつ高速な 2.5D 微細加工

二光子グレースケール・リソグラフィ
2.5Dプロトタイピング、マスタリング、パターニング向け

Quantum X litho は、多用途なマスクレス・リソグラフィシステムであり、優れた設計自由度と、短時間でのジョブセットアップから高性能なプリント、および後処理までの効率的な作業フローを提供します。これにより、ラピッドプロトタイピング、高度なパターニング、マスターテンプレート製作、ウェハレベル量産などの用途において、ハイ・スループット 2.5次元微細加工を可能にします。
二光子グレースケール・リソグラフィ(2GL®)によって駆動される本システムは、高精度の自由形状マイクロ光学素子、マイクロレンズアレイ、フレネルレンズ、さらに回折と屈折の特性を組み合わせたハイブリッド光学部品を製作します。

高度なデザインのためのマスクレス・リソグラフィ

Quantum X litho はまた、複雑なマイクロ流路アーキテクチャや、生体に着想を得たトポグラフィー(有機的なナノ/マイクロ構造表面を含む)のパターニングにも対応します。独自の 2GL® 技術は、高いスループットと優れた形状精度を兼ね備えており、高さ 1,000 µm に達する先進的な 2.5次元デザインを可能にします。これにより、従来技術の高さ方向の限界を超えることができます。

Nanoscribe のQuantum X

最高水準の産業用性能

2GL® は迅速な設計反復を通じてイノベーションを加速し、コンセプトからプリント部品までを 1 日未満のサイクルで実現します。Quantum X litho でプリントされた構造は、ナノインプリントリソグラフィ、ホットエンボス、マイクロ射出成形といった産業用複製ワークフローにシームレスに統合されます。nanoPrintX と組み合わせることで、共焦点検出モジュールがウェハレベルでの正確な位置合わせを保証します。さらに、オプションの 3D printing by 2GL®モードによって、システムの機能は高度な 3D プリンティングへと拡張します。

2GL® グレースケール・リソグラフィ
ラピッドプロトタイピング、パターニング、マスタリングが可能

Quantum X litho の特長と仕様

  • 特徴
  • ベンチマークスコア
  • 一般的なシステムのプロパティ
  • ダウンロード

主な特長

  • 二光子グレースケール・リソグラフィ(2GL®)により実現した、脅威的に高速かつ高精度な 2.5D プリンティング

  • 透明・不透明を問わずウェハレベルでの量産

オプション機能

  • 二光子重合(2PP)に基づく高解像度 3D プリンティングによる複雑なナノ/マイクロ/メゾ構造の製作

  • 3D printing by 2GL®(二光子グレースケール・リソグラフィ)により、従来の2PPと比較して最大60倍の速度で、優れた品質を実現

  • アライメント二光子リソグラフィ(A2PL®)によって、さまざまな基板上で整合 3D プリンティングが可能

  • 共焦点検出モジュールによって実現される、ウェハ上のフィデューシャルへの自動アライメント

  • Fiber Printing Setによって実現される、ファイバーコアに整合した自動プリンティング

  • 効率的なバッチ処理とウェハレベル生産を可能にする自動ディスペンサー

表面粗さ(Ra) 5 nm 以下 
フィーチャー・サイズ・コントロール 100 nm以下(x/y 軸)
形状精度 (Sa) 200 nm 以下
ステッチング不要の部品直径 最大 1,750 µm
最大走査速度 6.25 m/sをレンズ倍率で除算

ピーク値は、プリンティングパラメータ、プリントヘッド、光硬化樹脂、デザインなど特定の条件下でのみ達成されます。

基板 1”〜8”(25.4 mm ~ 200 mm)のウェハ
ガラス、シリコン、その他の透明および不透明材料
光硬化性樹脂 Nanoscribe 製IP光硬化性樹脂(ポリマー)
他社製およびカスタム材料にも対応

シュトゥットガルト大学 Prof. Dr. Harald Giessen

シュトゥットガルト大学 Prof. Dr. Harald Giessen
最初のプリントジョブは完璧に動作し、その構造は驚くほど優れていました。まさにセンセーショナルと言っても過言ではありません。これほどのものは、これまで見たことがありません。

Quantum X 

柔軟に構成可能なプラットフォーム

Quantum X litho がご用途に最適か、迷っていませんか?
Quantum X プラットフォーム全体をご覧いただき、各プリンターを比較し、印刷技術やアプリケーションセット、ソフトウェアソリューションなど、要件に最も適した構成オプションを見つけてください。

Quantum X litho ソフトウェア

プリントジョブの開始方法

タッチスクリーンまたはリモートでプリントジョブを準備・制御

Quantum X litho はシンプルで便利な操作フローを備えており、産業用製造環境やマルチユーザー環境にも簡単に統合できます。なぜこれほど簡単なのでしょうか?プリントジョブをデバイスのタッチスクリーンから直接、または PC からリモートでアップロード・プリント・進行確認できるためです。これらは Nanoscribe Quantum X litho を利用するべき理由の一部にすぎません。

GrayScribeX で 2.5D プリントジョブを生成:わずか数ステップで、プリントジョブ開発ソフトウェアが作成から個別プロジェクトをマスクレス・リソグラフィシステム Quantum X litho にアップロードするまでをガイドします。

3D プリントジョブには、2つの強力なソフトウェアソリューション、DeScribeX と nanoPrintX を提供しています。それぞれが異なる用途に対応し、ワークフローにおける多様なニーズを満たします。

タッチスクリーンからプリントジョブを開始:Quantum X litho の直感的なタッチスクリーンメニューで、ユーザーはスムーズにプリントを実行できます。さらに、ハードウェア情報、システム状況、プリント進行などの重要なデータを確認できます。加えて、3 台のカメラによるプリントプロセスのライブビューにより、いつでも進行をモニタリングできます。

nanoConnectX でリモート接続:リモートアクセスソフトウェア nanoConnectX を使用すれば、オフィスからプリントジョブを開始し、進行をモニタリングできます。そのため、Quantum X システムは産業用製造環境やマルチユーザー環境に適した機能を備えています。

ソフトウェアの概要

  • GrayScribeX
  • Touchscreen
  • nanoConnectX

GrayScribeX は、Quantum X の微細加工システムに特化して開発された、個別の 2D および 2.5D プリントジョブを作成できるソフトウェアです。標準的なグレースケール画像や CAD モデルをインポートできます。CADモデルは自動的にグレースケール画像に変換されます。高度なソフトウェアの自動処理が、インポートした設計のグレー値をプリントオブジェクトの高さに変換し、キャリブレーション済みのプリントパラメータを正確に設定します。

主な機能 利点
16 ビットグレースケール画像および CAD ファイルのインポート 標準的な画像ファイル(.bmp、.png)および CAD フォーマット(.stl)を使用可能
プリントジョブのリモートアップロード オフィスからQuantum X lithoにリモート接続し、作業開始
プリントジョブへの構造の追加、削除、複製 1つのファイルに異なる構造を含むプリントジョブを作成可能
構造のリスケールおよびアレイ作成 各用途の個別要件に応じて構造を修正可能
実績のあるプリントパラメータ・プリセット すぐに使用できるプリセットパラメータにより、あらゆるグレースケール設計を簡単にプリント可能
内部キャリブレーションファイル 設計のグレーレベルを、対応する書き込みパラメータに容易に変換可能
.nano ファイル データ交換およびプリント完了に必要な情報をすべて含むコンテナファイル形式を活用可能

Quantum X litho の前面タッチスクリーン(GUI)を使えば、二光子グレースケール・リソグラフィシステムを操作・モニタリングでき、数ステップでエラーなくプリントを実行可能です。プロジェクトを選択し、基板をセットすればプリントを開始できます。

主な機能 利点
3台のライブカメラ プリントプロセスを3方向からオンラインでモニタし、ジョブの最新状況を常に把握可能
ステージ制御(x, y, z 方向) 基板上の任意の位置にステージを移動し、プリント領域を定義可能
ユーザー・フレンドリーなプリント設定 レジンと基板を選択し、ワンクリックでプリントジョブを開始
プロジェクトリスト すべてのプリントジョブ履歴を追跡
自動インターフェイス・ファインダー 基板のインターフェースをサブミクロン精度で特定可能

nanoConnectX は Quantum X システム用のリモートアクセスソフトウェアです。タッチスクリーンのすべての機能と表示機能を、オンラインで接続された任意のコンピューターに提供します。

主な機能 特長
システムへのリモートアクセス 場所を問わず、Quantum X lithoをコンピューターに接続可能
タッチスクリーンの全機能を利用 任意の場所からプリントジョブを準備、制御、モニタ可能
プリントジョブやレポートのアップロード・ダウンロード コンピューターからプリント関連ファイルへの直接アクセス可能

Nanoscribe エキスパート Dr. Jochen Zimmer

Quantum X litho

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