高解像度3Dプリンティング材料 高解像度3Dプリンティング材料

高解像度3Dプリンティング向け
プリント材料

高解像度3Dプリンティングは、マイクロ流体システムや機械的メタマテリアルから実験的なフォトニクス・材料科学アーキテクチャに至るまで、高度な研究向けの機能的マイクロ・ナノ構造体の作製を可能にします。これらのアプリケーションには、ナノメートルからセンチメートルまでの幅広いスケールで、非常に細かいフィーチャ、滑らかな表面、そして信頼性の高い寸法精度を支える材料が必要です。

Nanoscribeのフォトレジストはこれらの要件を満たすよう設計されており、低体積収縮率、高い形状精度、そして各アプリケーションに合わせた機械的特性を提供します。柔軟な軟質系から剛性の高い高強度ポリマーまで対応します。安定した長期性能により、二光子重合(2PP)での再現性の高い造形が可能で、探索的研究と次世代ナノ・マイクロスケールデバイスの開発の両方を支援します。

お客様のアプリケーションに最適な樹脂をポートフォリオからお選びください:

New IPX-Clear

IPX-Clear

多用途・光学グレードの透明樹脂。様々なスケールの3Dプリンティングに対応

IP-S

IP-S

優れた表面品質と最小限の収縮率を実現する汎用フォトレジスト

IP-Dip2

IP-Dip2

超微細構造と高アスペクト比に対応する高解像度フォトレジスト

   

IPX-M

IPX-M

大容積・高スループット3Dプリンティング向けドラフトモード樹脂

IPX-Q

IPX-Q

大型・剛性・高アスペクト比構造を高速モードで造形するフォトレジスト

IP-PDMS

IP-PDMS

軟質・柔軟なマイクロ構造体の3Dプリンティング向け弾性フォトレジスト

   

GP-Silica

GP-Silica

ガラスマイクロパーツの真の3Dプリンティング向けガラスナノコンポジット樹脂

OrmoComp®

OrmoComp®

micro resist technology提供のサードパーティ製高透過性フォトレジスト

二光子重合向けフォトレジストの全ラインナップにご興味がありますか?

詳細な情報をご確認ください。お客様のアプリケーションに最適な材料ソリューションをご提案します。

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