3Dダイレクトプリンティングによるウェハスケール生産
2GL®による3Dプリンティングなどの高性能3Dプリンティング技術を用いた2.5D/3D構造のダイレクトプリンティングにより、サブミクロンの微細構造を持つ精密部品を少量から大量まで生産できます。ウェハスケール生産、手間のかからないバッチレベルのカスタマイズ、産業規模の製造スループットをご活用ください。
独自技術で
生産性を最大化
ウェハスケールでのダイレクト3Dプリンティングは、フォトニクス、マイクロオプティクス、マイクロメカニクス、MEMS、MOEMS向けに、サブミクロンの微細構造と優れた表面品質を備えた部品の産業生産に新たな可能性をもたらします。フィーチャサイズ制御100 nmを実現する、最も強力な高解像度積層造形技術である革新的なTwo-Photon Grayscale Lithography（2GL®）をご活用ください。最大8インチのウェハ上に高精度構造を効率的に生産し、スケーラブルなバッチ生産とウェハスケール製造を可能にします。8インチウェハ上でのフリーフォームマイクロオプティクスのウェハレベル統合についてもご覧ください。
ナノ/マイクロファブリケーションを高速化
科学研究向けマイクロファブリケーション
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ウェハスケールのバッチ処理とDip-in-Laser Lithography（DiLL）に対応する、業界実証済みの正立型プラットフォーム
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一晩で典型的なメゾスケール構造を200個プリント可能
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XLF Print Setにより、1回のプリントで最大30 cm³のプリント体積に対応
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迅速かつ正確な表面パターニングのための2GL®グレースケールリソグラフィ
産業用マスタリング
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高速シングルボクセルチューニングによるプロトタイピングとマスタリングのためのTwo-Photon Grayscale Lithography 2GL®
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2.5D設計で最大100倍のスループット向上
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ウェハスケールバッチ処理に対応する、業界実証済みの正立型プラットフォーム
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2GL®スティッチングによる、滑らかな表面と真にシームレスな構造のためのチルト補正
産業製造
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比類なき速度で優れた品質を実現する、2GL® Two-Photon Grayscale Lithographyによる3Dプリンティング
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従来の2PPベース3Dプリンティングと比較して最大60倍のスループット
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光ファイバーおよびフォトニックチップ上でのナノ精度アライメントを実現するAligned 2-Photon Lithography A2PL®
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100 nmまでの3Dアライメント検出精度とフィーチャサイズ制御
ワシントン大学 助教授Dr. Lucas Meza
SandiaのCINT施設におけるQuantum Xシステムのテストは、目を見張るものでした。Photonic Professional GTでは各構造体に24時間かかっていたプリント時間が13分に短縮され、品質も向上しました。
Quantum Xシステムで
スループットを最大100倍に向上
お客様に最適な3Dプリンタをお選びください
ナノ/マイクロファブリケーション向けの汎用ソリューションとして設計されたQuantum Xプラットフォームは、多様な産業・研究ニーズに応える比類ない構成性と拡張性を備えています。モジュール式アーキテクチャにより、ユーザーはアプリケーション固有の構成にシステムをカスタマイズできます。システムはプリント材料をその場で自動的にディスペンスし、シリカ基板や最大8インチのシリコンウェハを処理できます。さらに、ナノメートル精度でアライメントされた複雑な事前製作基板上にも3D構造をプリントできます。将来性があり、アップグレード可能なこのプラットフォームは、進化するニーズに対応し、新素材、高度なプロセス、今後の製造課題に対する柔軟性を確保します。
お客様固有のニーズに合わせて、高スループットのQuantum Xシステムをお選びいただき、カスタマイズしてください。
産業製造
Quantum X align
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ウェハスケールバッチ処理向け自動ディスペンス機能を備えた縦型システム
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比類なき速度で優れたプリント品質を簡単に実現：2GL®による3Dプリンティング
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チップおよびファイバー上におけるナノメートル3Dアライメントのための、フィデューシャルおよび3Dトポグラフィ検出
Quantum X litho
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ウェハスケールバッチ処理向け自動ディスペンス機能を備えた縦型システム
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2GL®によるシングルボクセルチューニングを用いた、2.5Dトポグラフィの高性能グレースケールプリンティング
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サブミクロンの形状精度のための自動キャリブレーションルーチン