IPX Photoresins für Quantum X Systeme
Die neuen IPX-Fotolacke wurden speziell für Nanoscribe Quantum X-Systeme entwickelt. Die industriell bewährte Plattform bietet hochpräzisen 3D-Druck und die innovative Technologie der Zwei-Photonen-Graustufen-Lithographie für die 2,5D-Mikrofabrikation. Um von der Druckgeschwindigkeit, Präzision und Leistung der Plattform Quantum X zu profitieren, wurde die neue Serie der IPX-Fotolacke mit Photopolymeren als Druckmaterialien für verschiedene Strukturqualitäten und Prozesse entwickelt. IPX-S und IPX-Q sind beide für den Druck von mesoskaligen Strukturen mit Mikrometerpräzision konzipiert, speziell für die Zwei-Photonen-Graustufen-Lithographie bzw. für die Zwei-Photonen-Polymerisation.
Eigenschaften von IPX-S
- Schnelle, 2GL-basierte 2,5D-Mikrofabrikation mit GrayScribeX
- Entwickelt für den Druck mit Quantum X-Systemen
- Drucken von Optiken bis in den Millimeterbereich, mit dem Large Feature Print Set
- Volle Designfreiheit für 2,5D-Strukturen
- Optisch hochwertige Oberflächen mit einer Rauheit von bis zu 10 nm Ra
- Ausgezeichnete Formgenauigkeit
Eigenschaften von IPX-Q
- Schnelle 2PP-basierte 3D-Mikrofabrikation
mit DeScribeX - Entwickelt für den Druck mit Quantum X-Systemen
- Druck von 3D-Objekten bis Millimetergröße, mit dem Large Feature Print Set
- Volle Designfreiheit für 3D-Strukturen
- Hohe Aspekt-Verhältnisse
- Ausgezeichnete Formgenauigkeit
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für die hochpräzise Mikrofabrikation?
Die IP-Fotolacke von Nanoscribe sind bewährte Druckmaterialien für die Technologie der hochpräzisen 3D-Mikrofabrikation auf Basis der Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP). Die Produktlinie umfasst eine breite Palette von Negativ-Lacken auf (Meth-)Acrylatbasis. Diese Materialien wurden speziell für die Herstellung von Strukturen im Nano-, Mikro- und Mesoskalen-Bereich entwickelt.