Nanoscribeは、高精度マイクロオプティクス製造向けに設計された革新的なフォトレジスト、IPX-Clearを発売しました。3D printing by 2GL®技術に最適化され、従来のTwo-Photon Polymerizationとも互換性を持つこの新フォトレジストは、可視光全域にわたる比類ない透過率と卓越した形状精度を実現します。広帯域アプリケーション向けに設計されたIPX-Clearは、光学性能の新たな基準を打ち立て、マイクロオプティクス分野のイノベーション推進を目指します。
Nanoscribeは、高精度マイクロオプティクス製造向けに設計された革新的なフォトレジスト、IPX-Clearを発売しました。3D printing by 2GL®技術に最適化され、従来のTwo-Photon Polymerizationとも互換性を持つこの新フォトレジストは、可視光全域にわたる比類ない透過率と卓越した形状精度を実現します。広帯域アプリケーション向けに設計されたIPX-Clearは、光学性能の新たな基準を打ち立て、マイクロオプティクス分野のイノベーション推進を目指します。
IPX-Clearの導入により、Nanoscribeシステムユーザーが利用できる材料の選択肢が広がります。この進歩は、広帯域アプリケーション向けに可視光全域での高透過率を実現するうえでの大きな一歩となります。
IPX-Clearの可視光域(380〜780 nm)における高い透過率は、イメージング、センシング、ディスプレイ技術など多くのマイクロオプティクスアプリケーションに関連しています。低損失光カプラもこの新フォトレジストから大きな恩恵を受けるでしょう。光損失を最小限に抑え、光学性能における最大効率を確保します。
「IPX-Clearは、オプティクス向けの理想的な2PP材料たる特性を兼ね備えています。優れた透明性、再現性の高い形状精度、卓越した表面品質を提供し、ほぼすべての面でこれまで使用されてきた材料を凌駕しています」と、Printoptix CTO Dr. Simon Thieleは、徹底的なテストを経て新フォトレジストの特性を総括しています。
IPX-Clearは可視光全域にわたって優れた透過性を提供し、高い透過率を必要とするアプリケーションでの卓越した光学性能を実現します。また、高透過性はUVAおよび近赤外の隣接スペクトル域にも部分的に及びます。
表面粗さ(Ra)10 nm以下の高い分解能と形状精度を持ち、高性能マイクロオプティクスコンポーネントを実現します。
IPX-Clearは、精緻な微細構造を持つマイクロメートルサイズの部品からミリメートルサイズの光学コンポーネントまで、さまざまなスケールでのオプティクス製造をサポートし、多様な光学要件に対応する柔軟で効率的なソリューションを提供します。