Nano-Micro-Lithography Symposium

Joint Symposium on Direct Write, Optical, Ion and Electron Beam Lithography

Nehmen Sie am 3. Nano-Micro-Lithography Symposium teil, das wir auf gather.town veranstalten. Die digitale Veranstaltung bringt technische Experten, Kunden und Anwender von Nanoscribe, micro resist technology GmbH, Heidelberg Instruments, GenISys GmbH und Raith zusammen. Entdecken Sie neueste Technologien und Produkte für die Mikrofabrikation im Nano- und Mikrometermaßstab. Ausgewählte Systemanwenderinnen und -anwender der teilnehmenden Firmen geben detaillierte Einblicke in Projekte und beschreiben ihre Erfahrungen mit verschiedenen Produkten und Technologien. Darüber hinaus gibt es einen inspirierenden Studentenprojekte-Pitch und zahlreiche Networking-Möglichkeiten, um Ihre Projekte zu besprechen. Ebenfalls neu mit dabei ist eine Jobbörse mit Informationen zu aktuellen Stellenangeboten sowie der Möglichkeit, mit Vertretern der teilnehmenden Unternehmen gezielt über Job und Karriere ins Gespräch zu kommen.

Dank der interaktiven Plattform gather.town haben Sie die Möglichkeit, Präsentationen in Konferenzräumen zu besuchen, Fachexperten der teilnehmenden Unternehmen an ihren Ständen zu treffen oder sich mit anderen Teilnehmern zu vernetzen. Nutzen Sie die Chance, sich Anregungen für Ihre Innovationsprojekte zu holen, treffen Sie Nanoscribe und diskutieren Sie mit uns über Ihre Projekte in der Mikrofabrikation.

Wir laden Sie besonders zu dem Vortrag unseres Experten Dr. Benjamin Richter ein. Darüber hinaus erfahren Sie im Vortrag „Two-Photon 3D-printed structure on capillary tip for micromanipulation and fluid manipulation“ von Antoine Barbot des FEMTO-ST Instituts mehr über die Vorzüge von Nanoscribe-Systemen und -Lösungen in der Mikrofluidikforschung.

Ausführlichere Informationen über die gesamte Veranstaltung entnehmen Sie bitte der Agenda.

8:40 CET	Session 1 e-Beam and Laser Lithography Simulation – pushing the limits of nanofabrication Thomas Michels, GenISys Fabrication of photonic and optomechanical circuits with BEAMER and RAITH VOYAGER EBL Erik Holmgren, AlbaNova Nanolab, KTH Rapid prototyping and production of 3D mechanical microparts Dr. Benjamin Richter, Nanoscribe Two-Photon 3D-printed structure on capillary tip for micromanipulation and fluid manipulation Antoine Barbot, femto-st Matching lithography processes to implement hierarchical nano-micro-pattern Johannes Wolf, micro resist technology Challenges for integration of optical elements Dr. Danny Reuter, Zentrum für Mikrotechnologien, TU Chemnitz
13:00 CET	Students project pitch 15 Studierende und Hochschulabsolventen präsentieren in Kürze Projektideen mit den dazugehörigen Mikrofabrikationsstrategien und damit verbundenen Innovationen.
14:00 CET	Session 2 Maskless grayscale lithography Dominique Collé, Heidelberg Instruments Mikrotechnik Cleanroom in a Glovebox Professor Kenneth Burch, Boston College The new EBPG Plus: E-Beam Lithography applications with a Plus in Throughput and Precision Frank Nouvertné, Raith GmbH Germany Large area x-ray gratings for space, meta lenses and Quantum devices on 2D materials – a wide range of cutting edge applications for EBL at Penn State Chad Eichfeld, Penn State University

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