Das Nano-Mikro-Lithographie-Symposium findet auch dieses Jahr online statt. Mit dieser Veranstaltung präsentieren und diskutieren technische Experten und Kunden der Unternehmen Nanoscribe, micro resist technology, GenISys und Raith die neuesten Technologien und Produkte für die Nano-Mikro-Lithographie, speziell die Optische, Ionen- und Elektronenstrahl-Lithographie. Außerdem geben mehrere Nutzer und Anwender detaillierte Einblicke in Projekte und beschreiben ihre Erfahrungen mit verschiedenen Produkten, Technologien und Anwendungen.
Die Nutzung von gather.town als Online-Treffpunkt bietet die Möglichkeit, Präsentationen in Konferenzräumen zu besuchen, Unternehmen zu treffen, sowie individuelle Beratung zu erhalten. Nutzen Sie die Chance, um Ideen für Ihre Innovationsprojekte zu bekommen, treffen Sie Nanoscribe und diskutieren Sie Ihre Ziele in der 3D-Mikrofabrikation mit uns.
Ausführlichere Informationen über die englischsprachige Veranstaltung & Vorträge finden Sie in der nachstehenden Agenda.
| 14:00 | Welcome & Introduction Nezih Ünal, GenISys & Helge Mischke, micro resist technology |
| 14:10 | Keynote Multi-material 3D printing using 2-photon laser direct writing Dr. Robert Kirchner, TU Dresden |
| 14:45 | Micro- and nanostructuring of hybridpolymers for various applications Dr. Maria Russew, micro resist technology |
| 15:10 | Coffee Breakt & Online Job fair |
| 15:50 | Challenges for integration of optical elements Dr. Christian Helke, Fraunhofer ENAS |
| 16:15 | Vertical sidewalls in thick epoxy resists – a challenge for laser-based direct write lithography Dr. Muhammad Refatul Haq, Paul Scherrer Institut |
| 16:40 | Randomized Fresnel Zone Plates for EUV Free-electron lasers fabricated with ion beam lithography Dr. Kahraman Keskinbora, Raith GmbH, MIT (USA) |
| 17:05 | End of Day 1 |
| 09:00 | Welcome & Introduction Nezih Ünal, GenISys & Helge Mischke, micro resist technology |
| 09:10 | Keynote The era of two-photon polymerized engineered microenvironments, a promising tool for cell mechanobiology and in-vitro disease/treatment modelling Prof. Angelo Accardo, Delft University of Technology |
| 09:45 | ProSEM Metrology Software: New Automation Features and Improvements Dr. Sven Bauerdick, GenISys |
| 10:10 | 2.5D and 3D microfabrication with nanoprecision alignment and tilt compensation Dr. Jochen Zimmer, Nanoscribe |
| 10:35 | Coffee Breakt & Online Job fair |
| 11:15 | 3D-coupling interfaces for photonic quantum technologies Prof. Wolfram Pernice, University of Münster & University of Heidelberg |
| 11:40 | PICOMASTER laser lithography systems: sub 300nm exposure capabilities Viacheslav Vlasenko, Raith GmbH |
| 12:05 | Discussion and Networking |
| 13:00 | End of Day 1 |
