Event
19. – 20. Oktober 2022

Nano-Mikro-Lithographie-Symposium

Nano-Micro-Lithography Symposium 2022

Joint-Symposium zu den Themen Laser, Optical, Ion und Electron Beam Lithography

Das Nano-Mikro-Lithographie-Symposium findet auch dieses Jahr online statt. Mit dieser Veranstaltung präsentieren und diskutieren technische Experten und Kunden der Unternehmen Nanoscribe, micro resist technology, GenISys und Raith die neuesten Technologien und Produkte für die Nano-Mikro-Lithographie, speziell die Optische, Ionen- und Elektronenstrahl-Lithographie. Außerdem geben mehrere Nutzer und Anwender detaillierte Einblicke in Projekte und beschreiben ihre Erfahrungen mit verschiedenen Produkten, Technologien und Anwendungen.

Die Nutzung von gather.town als Online-Treffpunkt bietet die Möglichkeit, Präsentationen in Konferenzräumen zu besuchen, Unternehmen zu treffen, sowie individuelle Beratung zu erhalten. Nutzen Sie die Chance, um Ideen für Ihre Innovationsprojekte zu bekommen, treffen Sie Nanoscribe und diskutieren Sie Ihre Ziele in der 3D-Mikrofabrikation mit uns.

Ausführlichere Informationen über die englischsprachige Veranstaltung & Vorträge finden Sie in der nachstehenden Agenda.

October 19th 14 - 17:05 (CEST)
14:00 Welcome & Introduction
Nezih Ünal, GenISys & Helge Mischke, micro resist technology
14:10 Keynote
Multi-material 3D printing using 2-photon laser direct writing
Dr. Robert Kirchner, TU Dresden
14:45 Micro- and nanostructuring of hybridpolymers for various applications
Dr. Maria Russew, micro resist technology
15:10 Coffee Breakt & Online Job fair
15:50 Challenges for integration of optical elements
Dr. Christian Helke, Fraunhofer ENAS
16:15 Vertical sidewalls in thick epoxy resists – a challenge for laser-based direct write lithography
Dr. Muhammad Refatul Haq, Paul Scherrer Institut
16:40 Randomized Fresnel Zone Plates for EUV Free-electron lasers fabricated with ion beam lithography
Dr. Kahraman Keskinbora, Raith GmbH, MIT (USA)
17:05 End of Day 1
October 20th 09:00 - 13:00 (CEST)
09:00 Welcome & Introduction
Nezih Ünal, GenISys & Helge Mischke, micro resist technology
09:10 Keynote
The era of two-photon polymerized engineered microenvironments, a promising tool for cell mechanobiology and in-vitro disease/treatment modelling
Prof. Angelo Accardo, Delft University of Technology
09:45 ProSEM Metrology Software: New Automation Features and Improvements
Dr. Sven Bauerdick, GenISys
10:10 2.5D and 3D microfabrication with nanoprecision alignment and tilt compensation
Dr. Jochen Zimmer, Nanoscribe
10:35 Coffee Breakt & Online Job fair
11:15 3D-coupling interfaces for photonic quantum technologies
Prof. Wolfram Pernice, University of Münster & University of Heidelberg
11:40 PICOMASTER laser lithography systems: sub 300nm exposure capabilities
Viacheslav Vlasenko, Raith GmbH
12:05 Discussion and Networking
13:00 End of Day 1
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