Der neue IP-n162

IP-n162 hat einen hohen Brechungsindex von 1,62. Im Vergleich zu den bisherigen Fotolacken im Portfolio von Nanoscribe bietet das neue Druckmaterial nicht nur den höchsten Brechungsindex, sondern mit einer Abbe-Zahl von 25 auch die höchste Dispersion. Die optischen Eigenschaften der 3D-gedruckten Strukturen liegen daher nahe an den optischen Polymeren Polycarbonat oder Polyester, die typischerweise beim Spritzgussverfahren verwendet werden. Von Vorteil sind diese Eigenschaften des Fotolacks für das Prototyping von Mikrooptiken, womit teure Iterationen mit diamantgefrästen Spritzgusswerkzeugen der Vergangenheit angehören. IP-n162 eignet sich für eine Vielzahl an Applikationen, die auf refraktiven oder hybriden Hochleistungsmikrooptiken aufbauen. Dazu zählen beispielsweise miniaturisierte Abbildungssysteme und 3D-Sensoren für Anwendungen im Bereich der Augmented und Virtual Reality (AR/VR).

Eine Besonderheit des neuen IP-n162 ist seine hohe Dispersion, belegt mit einer geringen Abbe-Zahl von 25. Mit dieser Eigenschaft hebt er sich deutlich von den bisherigen Fotolacken im Nanoscribe-Portfolio ab und ist daher attraktiv für die Mikrofabrikation von Verbundoptiken, welche aus Elementen mit unterschiedlicher Dispersion bestehen. Eine aufeinander abgestimmte Kombination für die 3D-Mikrofabrikation von achromatischen optischen Systemen stellt IP-n162 mit dem Fotolack IP-S dar, der einen geringeren Brechungsindex aufweist.

Eine weitere wichtige Eigenschaft von IP-n162 ist die geringe Absorption im Infrarotbereich. Insbesondere bei Wellenlängen zwischen 1200 nm und 1550 nm fällt die Absorption von IP-n162 zehnmal geringer aus als beim Fotolack IP-S. Das Druckmaterial IP-n162 eignet sich also optimal für Anwendungen, die einen möglichst geringen Absorptionsverlust erfordern, wie in der Infrarotoptik, für optische Kommunikationssysteme und beim Photonics Packaging.