Aligned 2-Photon Lithography (A2PL®)
für Innovationen in der Photonik
3D-Druck auf Fasern und Chips
Für den Druck auf Faserarrays und photonische Chips optimierte Hardware und Workflow
Automatische Positionierung
Messung der Substrattopografie und 3D-Positionierung auf Chips und Fasern mit Nanopräzision
3D-Druck in optischer Qualität
Freiform-Mikrooptiken mit höchster Formgenauigkeit und einer Oberflächenrauigkeit von bis zu ≤ 10 nm
Der beste 3D-Drucker seiner Klasse mit A2PL® Technologie für ein nanopräzises Alignment
Das Aligned 2-Photon Lithography (A2PL®) System von Quantum X align erweitert die bewährte 3D-Mikrofabrikationstechnologie von Nanoscribe um hochpräzise Positionierungsfunktionen für eine automatische Ausrichtung gedruckter Strukturen. Mit A2PL können Freiform-Mikrooptiken direkt auf optische Fasern oder photonische Chips mit einer Genauigkeit im Submikrometerbereich gedruckt werden. Für effiziente optische Verbindungen in der photonischen Integration und im Photonics Packaging oder für miniaturisierte bildgebende Verfahren, z. B. Mikrooptiken in der minimalinvasiven Endoskopie.

Align, print, done
Das Packaging in der integrierten Photonik oder von miniaturisierten medizinischen Systemen erfordert eine aufwendige Positionierung und aktive Ausrichtung verschiedener mikrooptischer Komponenten zueinander. Quantum X align vereinfacht diesen Prozess: Mit A2PL werden optische Schnittstellen auf photonischen Chips oder Faserkernen und ihre räumliche Ausrichtung automatisch erkannt. So können Freiform-Mikrooptiken oder diffraktive Elemente direkt an definierte Stellen gedruckt werden. Eine Verkippung des Substrates wird während des Druckprozesses automatisch kompensiert. Das reduziert die Komplexität der Prozesskette, verringert Montagetoleranzen und ermöglicht noch kompaktere Systeme. Die oft kostspielige aktive Ausrichtung ist nicht mehr erforderlich.
Align to optical fibers and photonic chips
Das automatische System zur 3D-Erkennung des Faserkerns und die automatische Korrektur der Substratverkippung garantieren eine präzise Positionierung und geringste Kopplungsverluste von bedruckten Fasern oder V-Groove-Faserarrays.
Quantum X align verfügt außerdem über ein konfokales Bildgebungsmodul für die 3D-Abbildung der Substratoberfläche und eine vollautomatische räumliche Ausrichtung an vordefinierten Markern oder Wellenleitern. Quantum X align ist damit das perfekte Werkzeug, um mikrooptische Elemente direkt auf Oberflächen oder Facetten photonischer Chips zu drucken.
Align to your ideas
Die Aligned 2-Photon Lithography-Technologie mit nanopräsisem 3D-Alignment eröffnet im Zusammenspiel mit einem leistungsstarken und benutzerfreundlichen Workflow auch über die Mikrooptik hinaus neue Möglichkeiten für die 3D-Mikrofabrikation. Von der Mikrofluidik bis hin zu komplexen Sensorsystemen oder MEMS: Quantum X align ist das perfekte Werkzeug für die hochpräzise 3D-Mikrofabrikation, die automatisch und mit höchster Genauigkeit auf komplexen 3D-Substraten positioniert wird. Selbst Substrate wie geneigte oder schräge Strukturen können optimal ausgerichtet bedruckt werden.
Technische Merkmale im Überblick
- High-Performance 3D-Mikrofabrikation durch Aligned 2-Photon Lithography (A2PL)
- Präzise ausgerichteter Druck auf die Facetten von Glasfasern mittels Faserkernerkennung
- Präzise ausgerichteter Druck auf Oberflächen oder Facetten von Chips mittels 3D-Substrattopografie-Erkennung
- Automatische Erkennung und Kompensation der Substratneigung in drei Rotationsachsen
- Smart Slicing für eine Hochgeschwindigkeits-3D-Mikrofabrikation
Druckprozesse und Workflow
- 3D-Druck mit höchster Präzision auf Basis der Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP)
- Einfaches und robustes Setup mit Dip-in Laser-Lithografie (DiLL)
- Kontrolle der Strukturgrößen bis zu 100 Nanometern
- Aligned 2-Photon Lithography für den Druck an vordefinierte Positionen
Free Space Microoptical Coupling
Free Space Microoptical Coupling (FSMOC) bietet eine äußerst robuste und effiziente Lösung für die Lichtkopplung beim Photonics Packaging und der photonischen Integration. Freiform-Mikrooptiken, die direkt auf der optischen Schnittstelle von Chips oder Fasern hergestellt werden, ermöglichen eine maßgeschneiderte Strahlformung und Modenfeldanpassung. Dies führt zu einer Entspannung der Ausrichtungstoleranzen zwischen optischen Elementen, sodass auf eine aktive Ausrichtung, z. B. bei der Herstellung von optischen Verbindungen, verzichtet werden kann. Das FSMOC ist flexibel in der Anwendung und kann leicht auf anwendungsspezifische Anforderungen zugeschnitten werden. Auch bereits technisch realisierte Modenfeldanpassungen auf Chipebene können auf den neuen 3D-Druckansatz übertragen werden.
- Kosteneffiziente Strategie für das Photonics Packaging
- Entspannte Ausrichtungstoleranzen für eine passive Ausrichtung
- Erreichbare Kopplungsverluste bis zu ≤ 1 dB
- Einfache und schnelle Anpassung an neue Anforderungen und Anwendungen
Entdecken Sie die Welt der Photonik



Zahlen & Fakten Quantum X align
- A2PL-basierte 3D Mikrofabrikation von mikrooptischen Elementen auf Faserarrays und Chips
- Automatisches Alignment mit Nanopräzision in allen Raumrichtungen
- Hochpräzise Fasererkennung, die auf einer Faserbeleuchtungseinheit basiert
- Konfokalmodul zur 3D-Topografieerkennung und präzisen Ausrichtung auf Chip und Chipfacetten
- Automatische Erkennung der Substratverkippung und Druckkorrektur in 3 Rotationsachsen
- Smart Slicing für optimierte Auflösung, Präzision und Geschwindigkeit
- Substrathalter für Custom- oder Standard-Faserarrays und photonische Chips
- Automatisierte Selbstkalibrierungsroutinen für höchste Laserkontrolle und Positionierungsgenauigkeit
- Touchscreen-Bedienung und Online-Zugriff auf die Systeme für einen einfachen Workflow
Prototyping und Kleinserienfertigung von präzise positionierten Freiform-Mikrooptiken
- Faserarrays mit Linsen für optische Verbindungen
- Bildgebende und strahlformende Optiken auf Einzelfasern oder Faserarrays
- Optische Verbindungen auf integrierten photonischen Chips
- Strahlformung oder Lichtkopplung auf integrierten photonischen Chips
Für Pioniere und Innovatoren der Forschung und Industrie im Bereich:
- Integrierte Photonik
- Photonics Packaging
- Medizinische Instrumente
- Optische Sensoren
- Quantentechnologie
Top Spezifikationen
3D Positioniersystemgenauigkeit 1 | down to 100 nm (xy) / 500 nm (z) |
Oberflächenrauigkeit (Ra) | down to ≤ 10 nm |
Formgenauigkeit (Sa) | ≤ 200 nm (ISO 25178) |
Kontrolle der Merkmalsgrößen 2 | down to 100 nm |
Typische Druckzeit | 20 min for 8x lensed fiber array |
Erreichbare Kopplungsverluste 3 | ≤ 1 dB |
Systemspezifikationen
Drucktechnologie | 3D-Druck auf Basis der Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP) |
Substrate | Faserarrays (V-Groove) |
Fotolacke | Nanoscribe IP-Fotolacke (Druck von Polymerstrukturen) |
Maximaler Druckbereich | 50 x 50 mm² |
Die angegebenen Werte können je nach Fotolack und Strukturgeometrie variieren.
1 Genauigkeit hängt von der gewählten Methode ab
2 Kontrolle der Merkmalsgröße von 100 nm in x/y-Richtung
3 Idealfall für typische Anwendungen, abhängig von Design, Substratqualität und Messmethode
Joost van Kerkhof, Chief Operation Officer von PHIX Photonics Assemby

Wir sind überzeugt von Nanoscribes hochpräziser 3D-Drucktechnologie mit automatischem Alignment. Das schafft neue Freiheitsgrade für die Ausrüstung von Faserarrays und Chips mit hochwertigen optischen Komponenten.
Gestalten Sie mit nanoPrintX
Perfekt ausgerichtete Druckprojekte
nanoPrintX ist viel mehr als eine 3D-Drucker-Slicer-Software. Es ist ein bahnbrechendes Werkzeug zur Erstellung anspruchsvoller Druckprojekte für den ausgerichteten 3D-Druck. Das zugrundeliegende Szenengraph-Konzept, eine baumartige Datenstruktur, die eine hierarchische Organisation aller druckrelevanten Objekte und Operationen bietet, ermöglicht eine agile Definition von was, wo, in welcher räumlichen Ausrichtung und wie gedruckt werden soll. Die intuitive Software-Architektur in Kombination mit einem zentralen Rendering-Canvas liefert ein unmittelbares visuelles Feedback über die Position und die räumliche Ausrichtung aller Elemente im Verhältnis zueinander und zu vordefinierten Positionen oder Substraten.
Jeder Knoten des nanoPrintX-Szenendiagramms ist ein druckrelevantes Objekt oder eine druckrelevante Operation und enthält eine Reihe von einstellbaren Eigenschaften. Sie können mehrere Designdateien importieren und sie in Gruppen- oder Array-Knoten organisieren oder mehrere Dateien zu einem Druckobjekt zusammenführen. Um die Technologie der Aligned 2-Photon Lithography optimal zu nutzen, können Sie individuelle Ausrichtungsmarker sowie Substratmerkmale wie Chipkanten und Faserfacetten definieren. Mit der konfokalen Einheit oder der Faserbeleuchtungseinheit von Quantum X align können diese spezifischen Substratmarker identifiziert und mit dem digitalen Modell, das mit nanoPrintX definiert wurde, abgeglichen werden.
Gestalten Sie Ihr Druckprojekt mit nanoPrintX: Definieren Sie das Druckszenario, indem Sie ein virtuelles Modell Ihres spezifischen Substrats erstellen, z. B. optische Fasern oder photonische Chips mit individuellen Ausrichtungsmarkierungen. Importieren Sie Ihre 3D-Druckdesigns als STL- oder OBJ-Dateien und platzieren Sie sie in Ihrer Szene. Weisen Sie den einzelnen Designs nach Bedarf vorentwickelte Druckparameter zu, die sofort verfügbar sind. Abschließend laden Sie Ihr Druckprojekt einfach in Quantum X align hoch und genießen das Resultat.
Starten Sie Ihr Druckprojekt per Touchscreen: Die intuitive Touchscreen-Benutzeroberfläche von Quantum X align führt Sie mühelos zum erfolgreichen Druck. Markieren Sie die Startpositionen auf jedem Substrat, überprüfen Sie diese mit der hochauflösenden Live-Kameraansicht und starten Sie Ihr Druckprojekt. Das System richtet Ihre Drucke dann automatisch mit einer Genauigkeit im Submikrometerbereich an den Markierungen aus.
Mit nanoConnectX in Verbindung bleiben: Mit der Fernzugriffssoftware nanoConnectX starten und überwachen Sie Ihr Druckprojekt vom Büro aus. Sie bringt alle Steuerfunktionen und Anzeigemöglichkeiten des Touchscreens von Quantum X align auf jeden online verbundenen Computer. Das Quantum X align System ist damit bestens für Produktionsumgebungen und Mehrbenutzerszenarien gerüstet.
Fakten zur Software
nanoPrintX ist eine Software zur Gestaltung von Druckprojekten auf der Basis von Szenengraphen. Mit dieser modernen, baumartigen Datenstruktur können Sie auf einfache Weise logische Beziehungen zwischen den Elementen des Drucks herstellen und individuelle Eigenschaften oder Druckparameter zuweisen. So können Sie exakt definieren, wie die gedruckten Strukturen zum Substrat und zueinander ausgerichtet sind.
Laden Sie mehrere CAD-Entwürfe in eine Szene und weisen Sie jedem Teilentwurf unterschiedliche Druckparameter zu. Auf diese Weise können Sie eine Feinabstimmung Ihres Drucks vornehmen und für jeden Abschnitt eine optimale Qualität und Geschwindigkeit erzielen. Viele Aktionen können dynamisch per Drag & Drop konfiguriert werden. So können Sie beispielsweise die Reihenfolge der Ausrichtungs- und Druckvorgänge mühelos ändern.

Mit nanoPrintX können Sie Ihre individuellen Lensed Fiber Arrays (LFAs) in nur wenigen Schritten gestalten. Wählen Sie den Faserknoten im Szenendiagramm und platzieren Sie Ihre individuellen Linsendesigns als .STL- oder .OBJ-Dateien auf der Faser. Mit nur wenigen Schritten können Sie mehrere Kopien desselben Drucks erstellen oder jede Faser mit einem individuellen Design versehen.

Steuern und überwachen Sie das System mit nanoConnectX, der Fernzugriffssoftware für die Quantum X-Plattform. Sie führt Sie in nur wenigen Schritten zu einem erfolgreichen Druck. Wählen Sie Ihr Druckprojekt, markieren Sie die Startposition und starten Sie den Druck. Das System richtet die Strukturen dann automatisch aus und druckt sie in exakt der richtigen Position und räumlichen Ausrichtung.
Neue Möglichkeiten dank neuer Features



Erfahren Sie mehr
über Mikrofabrikation mit 3D-Alignment
Wie funktioniert das automatische Alignment auf der Facette von Glasfasern?
Mit der von Quantum X align unterstützten Faserbeleuchtung lässt sich der Faserkern über den Touchscreen von Quantum X align einfach lokalisieren. Zunächst wird der Druckbereich auf dem Faserarray durch ein manuelles Alignment auf dem Touchscreen grob definiert. Quantum X align erkennt daraufhin automatisch die Position der Fasern mit Submikrometergenauigkeit und kompensiert während des Druckes kleinste Substratneigungen in alle Raumrichtungen.
Dazu erkennt eine Autofokus-Routine zunächst die Oberfläche der optischen Faser. Anschließend identifiziert das System den beleuchteten Faserkern und markiert die Mitte des Kerns als Ursprung eines virtuellen Koordinatensystems, an dem das Druckobjekt ausgerichtet wird. Die virtuelle z-Achse und ihre Ausrichtung im Raum wird bestimmt, indem das Substrat nach unten bewegt und die Position des Faserkerns an mehreren Stellen entlang dieser vertikalen Bewegung des Tisches identifiziert wird. Als Ergebnis wird die Ausrichtung der optischen Achse erkannt und als virtuelle z-Achse für einen neigungskompensierten Druck von Mikrooptiken mit Submikrometerpräzision festgelegt.

Welche Rolle spielt die Hardware für den 3D-Druck auf optische Fasern?
Um den 3D-Druck auf optischen Fasern zu ermöglichen, ist Quantum X align mit einem LED-Beleuchtungsmodul für Glasfasern ausgerüstet. Bis zu 32 Einzelfasern mit Standard PC- oder APC-Anschluss können an diese Einheit angeschlossen werden. Ein speziell entwickelter Substrathalter, der bis zu vier Faserarrays auf einmal aufnehmen kann, fixiert einzelne Fasern oder Faserarrays in einer definierten Position. Die beleuchteten Faserkerne lassen sich dann mit Hilfe der Liveansicht des 18,5-Zoll-Touchscreens von Quantum X align identifizieren. Über einfache Touchgesten auf dem Bildschirm wird der Positioniertisch zu jedem beliebigen Punkt innerhalb des 50 x 50 mm² großen Druckbereichs bewegt. Zusätzlich kann ein Fadenkreuz aktiviert werden, um das grobe Alignment auf dem Bildschirm zu erleichtern, und mittels intuitiver Gesten kann der sichtbare Bildausschnitt vergrößert und verkleinert werden.
Wie können komplexe Objekte mit optischer Oberflächenqualität in höchster Geschwindigkeit gedruckt werden?
Mit dem neuen Workflow können mehrere .stl- oder .obj-Dateien gleichzeitig geladen und zu einem einzigen Druckobjekt zusammenführt werden. Dies ermöglicht es dem Anwender Druckparameter wie Slicing, Hatching, Laserleistung oder Scangeschwindigkeit individuell für jeden einzelnen Teilbereich des Druckobjekts einzustellen. So können Stützstrukturen mit groben Parametern schneller gedruckt werden, während optische Teile wie die Oberfläche einer optischen Linse mit feineren Einstellungen gedruckt werden und so zu einer Oberflächenrauheit (Ra) von ≤ 10 nm führen. Natürlich stehen vordefinierte Druckparameter schon zur Verfügung, welche aber auch an das Design und spezifischen Anforderungen angepasst werden können. Die einzelnen Teile werden dann zu einem Druckprojekt zusammengeführt und in Quantum X align hochgeladen.
Die Anpassung der Druckparameter an die funktionalen Anforderungen des Druckobjekts spart wertvolle Prozesszeit und ermöglicht es Quantum X align, ein 8x V-Groove-Faserarray in weniger als 20 Minuten zu bearbeiten.

Warum wird für das automatische Alignment an der Substrattopografie ein Konfokalmodul verwendet?
Quantum X align verfügt über ein hochpräzises konfokales Bildgebungsmodul für die 3D-Vermessung von Substrattopografien. Dieses Modul arbeitet mit dem Nahinfrarot-Lasers des Druckers und ist im Strahlengang integriert. Der Laserstrahl wird über die Probenoberfläche gescannt und das zurückgestreute Licht wird vom Konfokalmodul erfasst. Eine hochauflösende 3D-Topografie wird aus Einzelbildern zusammengesetzt, indem die Substratoberfläche mehrfach entlang der z-Achse gescannt wird. Eine räumliche Filterblende vor dem Detektor sorgt dafür, dass nur Licht aus der Fokalebene erfasst wird, was zu einer lateralen Erfassungsgenauigkeit von bis zu 100 nm führt. Somit misst das konfokale Modul echte 3D-Topografien und ist präziser als es über bildbasierte Messungen mit der Systemkamera möglich wäre.

Wie werden optische Komponenten auf einen photonischen Chip ausgerichtet und gedruckt?
Das 3D-Alignment des Druckobjekts basiert auf der hochauflösenden 3D-Topografiemessungen des Konfokalmoduls. Für die präzise Ausrichtung optischer Komponenten auf einem photonischen Chip identifizieren intelligente Software-Algorithmen automatisch vordefinierte Marker und Topografiemerkmale. Damit kann die genaue Position und Ausrichtung eines Wellenleiters auf dem Chip bestimmt werden. Ein virtuelles Koordinatensystem wird so auf den Ausgang des Wellenleiters gelegt, dass es perfekt auf dessen optische Achse ausgerichtet ist. Die gewünschten optischen Komponenten werden in Bezug auf dieses Koordinatensystem gedruckt, wodurch eine optimale optische Performance mit minimalen Kopplungsverlusten gewährleistet wird. Dies ermöglicht die effiziente Lichtkopplung durch Free Space Microoptical Coupling (FSMOC).

Wie meistert Quantum X align die Herausforderungen des 3D-Drucks auf der Facette von Chips?
Senkrecht zur Substratoberfläche auf die Facette von Chips zu drucken, ist eine anspruchsvolle Aufgabe und erfordert nicht nur ein präzises Positionierungssystem, sondern auch intelligente Lösungen um den "Abschattungseffekt" zu überwinden: Da das Licht teilweise durch die Kante des Substrats (hier: Chip) blockiert wird, geht beim Druck auf eine Facette ein erheblicher Teil der Lichtintensität im Brennpunkt des Laserstrahls verloren. Nah an der Substratwand ist der Abschattungseffekt besonders stark ausgeprägt und erfordert daher eine höhere Belichtungsdosis für den Fotolack. Quantum X align kompensiert diesen Abschattungseffekt automatisch durch ein patentgeschütztes Verfahren und passt die Laserleistung während des Drucks dynamisch an. Das Ergebnis sind Mikrooptiken und andere Druckobjekte, die mit hoher Formgenauigkeit im Submikrometerbereich auf die Facette eines Substrats geschrieben werden.

Welche Substrate können verwendet werden?
Die Substrathalter von Nanoscribe garantieren eine präzise Fixierung und ermöglichen das Bedrucken der Facetten von Einzelfasern, Faserarrays und photonischen Chips. Darüber hinaus können Standardsubstrate wie Objektträger und Waferformate von 1" bis 6" problemlos verarbeitet werden. Der Interface-Finder von Quantum X align verfügt über zwei komplementäre Modi zur Reflexions- und Fluoreszenzdetektion der Substratoberfläche. In Kombination mit der Dip-in-Laser Lithography-Konfiguration (DiLL) können eine breite Palette von reflektierenden (z. B. Siliziumwafer), transparenten und undurchsichtigen Substraten (z. B. Glas- und Polymersubstrate) verwendet werden.

Was sind die besonderen Vorteile der Dip-in Laser Lithography (DiLL)?
Dip-in Laser Lithography (DiLL) ist die Standardkonfiguration des Quantum X align. Diese proprietäre Technologie von Nanoscribe ermöglicht 3D-Mikrofabrikation mit höchster Präzision und zugleich geringster Aberration im Vergleich zu konkurrierenden Technologien. Bei dieser Konfiguration wird die Objektivlinse in den Fotolack eingetaucht, der so auch als optisches Immersionsmedium fungiert. Die Anpassung des Brechungsindexes zwischen der Fokussieroptik und dem Druckmaterial garantiert eine ideale, aberrationsfreie Fokussierung mit der höchsten Auflösung im 2PP-basierten 3D-Druck. Darüber hinaus wird der Laser nicht durch das Substrat fokussiert (z. B. bei der Ölimmersionskonfiguration), sondern schreibt das Druckobjekt direkt auf das Substrat. Folglich begrenzt der Arbeitsabstand der Fokussieroptik nicht die Höhe des 3D-gedruckten Objekts, was insbesondere für den Druck makroskaliger Objekte von Vorteil ist.
Warum passt Quantum X align optimal ins industrielle Umfeld und in Multi-User-Einrichtungen?
Mit dem hochmodernen Autofokussystem kann jedes Substrat mit höchster Präzision und wiederholbaren Druckergebnissen anvisiert werden. Drei Prozesskameras mit Live-Aufnahmen erleichtern die Steuerung und Überwachung des Druckprozesses. Ein automatischer Dispenser trägt die erforderliche Fotolackmenge auf das Substrat auf, sodass der Arbeitsaufwand im Labor insgesamt reduziert und die Arbeit mit dem System vom Büro oder Homeoffice aus möglich wird. Um den Wechsel zwischen Hardwarekonfigurationen zu vereinfachen, erkennt der Quantum X align automatisch Druckköpfe und Substrathalter. Dank smarter Softwarelösungen können Druckaufträge über die Remote-Access-Software nanoConnectX in Echtzeit gestartet und überwacht werden, wobei auch eine einfache Bedienung direkt über den interaktiven Touchscreen des Systems möglich ist. Diese flexiblen Softwarelösungen erleichtern insbesondere die Arbeit größerer Teams mit einem einzigen oder mehreren Systemen.

In welchen Räumlichkeiten kann der Quantum X align untergebracht werden?
Quantum X align ist das optimale Gerät für die 3D-Mikrofabrikation in Hochgeschwindigkeit von Objekten mit Strukturbreiten im Submikrometerbereich, Oberflächenrauigkeitsprofilen von 5 nm und darunter (Ra-Wert) und Präzision im Nanometerbereich. Um höchste Präzision gewährleisten zu können, sind einige Vorkehrungen in Bezug auf das System und den Installationsort zu beachten. Quantum X align sollte einen festen Standort in einem Raum mit stabiler Raumtemperatur und Luftfeuchtigkeit haben. Der Drucker selbst wird mit einem Granitsockel geliefert, um den Einfluss von Vibrationen und Temperaturschwankungen in der Umgebung zu verringern. Dennoch ist zu empfehlen, das System in einem Raum zu installieren, der externe Vibrationen möglichst minimiert. Für den unproblematischen Umgang mit den UV-empfindlichen Fotolacken außerhalb des Druckers sollte der Raum mit Gelblicht ausgestattet sein und die Basisausstattung eines Chemielabors für den Umgang mit organischen Lösungsmitteln bei der Entwicklung der Druckerzeugnisse bereithalten.
Wenn Sie eine Vorstellung von der optimalen Arbeitsumgebung des Quantum X align bekommen möchten, kontaktieren Sie uns und besuchen Sie unser Microfabrication Experience Center in Karlsruhe oder buchen Sie Ihre Online-Tour.
Quantum X align
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